System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 聚硅氮烷组合物制造技术_技高网
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聚硅氮烷组合物制造技术

技术编号:40900323 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-18 11:17
本发明专利技术涉及聚硅氮烷组合物,特别是组合物,所述组合物用于涂覆基材的用途,以及包括由所述组合物制成的涂层的基材。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及聚硅氮烷组合物,特别是组合物,所述组合物用于涂覆基材的用途,以及包括由所述组合物制成的涂层的基材。


技术介绍

1、在广泛的
中,保护各种表面不被弄脏,包括污染和玷污,具有高度重要性。具有防污或自清洁特性的表面,诸如抵抗灰尘颗粒的化学和物理结合和其他类型污渍,不仅对光伏模块和太阳能热系统至关重要,对于普通的目的,比如防止智能手机上的指纹痕迹和污迹或墙上的涂鸦,以及使这些表面在被弄脏时易于清洁等也至关重要。防污、防沾污和防腐特性是涂料广泛追求的特性。由于在广泛不同的领域中使用的涂料要求不同,因此不断地需要将防污特性与针对某些用途定制的特定涂料特征相结合的新型防污涂料。

2、某些惰性有机分子诸如聚合物的防污特性与摩擦系数(cof)相关。cof越低,载荷下的表面就越滑。例如,低cof使其更容易清除最终积聚在表面上的任何污垢,而对表面没有或几乎没有机械损伤。它还可能使冲击较大的颗粒物,例如沙尘暴中的沙粒,从表面反弹而不会引起显著磨损。此外,低cof对于增强的人体验,例如新智能电话屏幕的平滑感,也是期望的。可以具有这样的期望特性的涂料的一个实例是含氟聚合物,其可以用于获得这种柔软、光滑的感觉以及良好的防指纹和防污特性。

3、此外,需要具有低折射率的涂料。折射率是光学和光电子学中最基本的量,它决定了光学元件(诸如反射器、滤波器和谐振器)的许多品质因数。它决定了透镜的聚焦能力、棱镜的色散能力、透镜涂层的反射率以及光纤的导光性质。当进入低折射率的介质时,光会从法线偏离,朝向介质表面折射。

4、聚硅氮烷是一类以其si-n-si主链为特征的聚合物,近年来因其在涂料中的应用而引起越来越多的兴趣。根据涂料的类型和制剂,聚硅氮烷涂料可以显示出一系列有利的特性;聚硅氮烷的高反应性可以导致涂层具有例如高硬度和耐候性、优异的粘附特性以及耐刮擦和耐磨性、低表面粗糙度以及在涂漆表面上的高光泽。优异的耐热性、耐化学性和抗uv性已被证明。据报道,当在室温下固化时,有机聚硅氮烷涂层具有5h的铅笔硬度,相比之下,使用相同固化条件,更广泛使用的(聚)硅氧烷涂层具有5b的铅笔硬度。如wo2014008443a2所示,其他聚硅氮烷涂层具有的摩擦系数在0.03和0.05之间,类似于著名的防粘特氟隆(teflon)的0.04,但具有更好的耐刮擦和耐磨性。据报道,在uv光/h2o2或h2o2/80℃下固化的无机全氢聚硅氮烷涂料的涂层硬度高达3gpa(产生sio2),在700-1000℃的空气中固化的涂层硬度是给人印象深刻的13gpa,证明了聚硅氮烷功能单元的交联深度。与由于其易用性和/或在环境条件下的低反应性而经常使用的其他常见的聚合物,诸如(聚)硅氧烷、聚氨酯、环氧树脂、pmma不同,聚硅氮烷以其高反应性被称为其类别(用于湿化学制剂的聚合物)中的最终粘合剂。虽然聚硅氮烷涂料已用于诸如金属表面上的永久性防指纹涂层的目的,如us2008/0131706 a1中所公开的,但是它们还没有被广泛用作防污涂层。

5、包括聚硅氮烷和其他组分的涂料制剂是本领域已知的。一个实例是us 9593241b2中的硅氧烷树脂、有机聚硅氮烷和含烷基或芳基的多面体低聚倍半硅氧烷的制剂,其产生折射率为1.52-1.54的涂层。由于聚硅氮烷对亲核基团的高反应性,涂料中使用的添加剂通常没有这些基团,或者其浓度保持很低。已知这样的包括羟基、胺和涉及杂原子的不饱和键(例如羰基,s=o)的亲核基团导致聚硅氮烷的碎裂。然而,这些基团可以用于将添加剂共价结合到涂料中的聚硅氮烷;因此,它们的排除意指聚硅氮烷和添加剂无法共价且牢固地结合在一起,这可能导致负面影响,如添加剂从涂层中浸出或相分离。

6、因此,需要改进的聚硅氮烷涂料。


技术实现思路

1、在第一方面,本专利技术涉及如权利要求1要求保护的组合物,其中所述组合物包括

2、i)基于所述组合物的重量,0.5-30wt%的聚硅氮烷组分,所述聚硅氮烷组分选自有机聚硅氮烷、无机聚硅氮烷以及任何两种或多种有机和/或无机聚硅氮烷的混合物的组;

3、ii)基于所述组合物的重量,0.1-15wt%的poss,其包括至少一个亲核基团;

4、iii)基于所述组合物的重量,0.0001-2wt%的季铵盐r1r2r3r4n+x-,其中r1、r2、r3和r4中的每个独立地选自包括以下的组:烷基、芳基、芳基烷基、烷氧基甲硅烷基和烯基,并且其中x选自f、cl、br、i、pf6或bf4和oh;以及

5、iv)惰性溶剂。

6、在第二方面,本专利技术涉及前述权利要求中任一项的所述组合物用于涂覆基材的用途。

7、在第三方面,本专利技术涉及一种包括涂层的基材,其中所述涂层至少部分由所述组合物制成。

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【技术保护点】

1.一种组合物,包括:

2.根据权利要求1所述的组合物,进一步包括基于所述聚硅氮烷组分的重量,1-30wt%的固化剂。

3.根据权利要求1或2所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.005-5wt%的不包括亲核基团的POSS。

4.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.01-1.5wt%的流平剂。

5.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.05-5wt%的光引发剂。

6.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.01-10wt%的纳米纤维。

7.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,其中,所述至少一个亲核基团选自C=O、OH、NH2、NH、S=O、SH、C=N、环氧基或C≡N。

8.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,其中,所述POSS进一步包括氟取代基。

9.根据权利要求8所述的组合物,其中,所述POSS包括带有1-10个氟取代基的C1-C5氟烷基基团。

10.根据从属于权利要求3的权利要求8或从属于权利要求3的权利要求9所述的组合物,其中,所述不包括亲核基团的POSS包括至少一个烷氧基甲硅烷基基团。

11.根据权利要求1-7中任一项所述的组合物,其中,所述POSS不包括氟取代基。

12.根据权利要求1-7所述的组合物,其中,所述POSS具有氟取代基和非氟取代基的组合。

13.根据任何前述权利要求所述的组合物,其中,所述POSS包括哑铃形结构。

14.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,其中,R1、R2、R3、R4中的每个是叔丁基基团。

15.根据前述权利要求中任一项所述的组合物用于涂覆基材的用途。

16.一种包括涂层的基材,其中,所述涂层至少部分由根据权利要求1-14中任一项所述的组合物制成。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种组合物,包括:

2.根据权利要求1所述的组合物,进一步包括基于所述聚硅氮烷组分的重量,1-30wt%的固化剂。

3.根据权利要求1或2所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.005-5wt%的不包括亲核基团的poss。

4.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.01-1.5wt%的流平剂。

5.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.05-5wt%的光引发剂。

6.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,进一步包括基于所述组合物的重量,0.01-10wt%的纳米纤维。

7.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,其中,所述至少一个亲核基团选自c=o、oh、nh2、nh、s=o、sh、c=n、环氧基或c≡n。

8.根据前述权利要求中任一项所述的组合物,其中,所述poss进一步包括氟取代...

【专利技术属性】
技术研发人员:金斯利·奥迪纳卡·伊乌源·洪·杜光维韦卡·库马尔·辛格阿尼萨·亚辛
申请(专利权)人:纳尼泽公司
类型:发明
国别省市:

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