【技术实现步骤摘要】
本技术属于真空退火炉领域，具体涉及一种真空退火炉抗干扰结构及控制装置。
技术介绍
1、材料院特材孵化实验线真空退火炉靠控制柜进行pid(控制装置)自动控制6个电加热装置，每个电加热装置采用igbt(半导体)元件输出不同的电流控制电加热丝的温度。使用过程中加热到550度时经常因为电加热装置空气开关过负荷保护跳闸，导致生产效率低。
2、有鉴于此，特提出本技术。
技术实现思路
1、为了解决现有技术中存在的技术问题，本技术提供了一种真空退火炉抗干扰结构及控制装置，本技术通过设置补偿导线避免了使用过程中加热到550度时空气开关跳闸，提高了生产效率。
2、本技术包括如下技术方案：
3、本技术一方面提供了一种真空退火炉抗干扰结构，包括控制柜、半导体控制线、空气开关、电阻丝和热电偶，所述控制柜连接所述半导体控制线，所述半导体控制线连接电阻丝，在所述半导体控制线和电阻丝的连接通路上设置所述空气开关；所述电阻丝用于加热所述真空退火炉，所述真空退火炉上设置所述热电偶，所述热电...
【技术保护点】
1.一种真空退火炉抗干扰结构，其特征在于，包括控制柜、半导体控制线(10)、空气开关(20)、电阻丝(30)和热电偶(40)，所述控制柜连接所述半导体控制线(10)，所述半导体控制线(10)连接电阻丝(30)，在所述半导体控制线(10)和电阻丝(30)的连接通路上设置所述空气开关(20)；所述电阻丝(30)用于加热所述真空退火炉，所述真空退火炉上设置所述热电偶(40)，所述热电偶(40)和所述控制柜通过补偿导线(50)连接。
2.如权利要求1所述的一种真空退火炉抗干扰结构，其特征在于，所述控制柜包括温度控制器(60)，所述温度控制器(60)连接所述半导体控
【技术特征摘要】
1.一种真空退火炉抗干扰结构，其特征在于，包括控制柜、半导体控制线(10)、空气开关(20)、电阻丝(30)和热电偶(40)，所述控制柜连接所述半导体控制线(10)，所述半导体控制线(10)连接电阻丝(30)，在所述半导体控制线(10)和电阻丝(30)的连接通路上设置所述空气开关(20)；所述电阻丝(30)用于加热所述真空退火炉，所述真空退火炉上设置所述热电偶(40)，所述热电偶(40)和所述控制柜通过补偿导线(50)连接。
2.如权利要求1所述的一种真空退火炉抗干扰结构，其特征在于，所述控制柜包括温度控制器(60)，所述温度控制器(60)连接所述半导体控制线(10)。
3.如权利要求2所述的一...
【专利技术属性】
技术研发人员：王立，翁兴贵，左再林，纳明勇，熊琳，
申请(专利权)人：攀钢集团工程技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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