【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及热处理设备，尤其是涉及一种沉积炉、生产设备及气相沉积制备方法。
技术介绍
1、在气相沉积制备原材料的工艺中，沉积结晶后的原材料的纯度需要达到设定纯度，否则会影响后续制备的产品的性能。以制备氧化亚硅为例，相关技术的沉积炉中，硅粉原料有一定几率随着硅蒸气被输送过程至沉积内，影响最终结晶的氧化亚硅的纯度，影响产品良率，需要多次气化沉积来确保产品纯度，影响制备效率。因此，有必要针对上述问题进行研究改进。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种沉积炉，能够确保产品良率。
2、本专利技术还提出一种具有上述沉积炉的生产设备。
3、本专利技术还提出一种基于上述沉积炉的气相沉积制备方法。
4、根据本专利技术实施例的沉积炉，包括加热组件、第一真空泵、反应仓、过渡仓和沉积仓，所述加热组件包括第一加热件和第二加热件；所述反应仓设置有第一腔，所述第一腔用于容置原料，所述第一加热件设置于所述反应仓的外侧，所述第一加热件用于将所述反应仓加热至具有第一温度t1；所述过渡仓设置有第二腔，所述第二加热件设置于所述过渡仓的外侧，所述第二加热件用于将所述第二腔加热至具有第二温度t2；所述沉积仓设置有第三腔，所述第三腔用于沉积结晶，所述第二加热件能够将所述第三腔加热至具有第三温度t3；其中，所述第一腔、所述第二腔和所述第三腔依次连通，满足：t1＜t2＜t3。
5、根据本专利技术实施例的沉积炉，至少具有如下有
6、根据本专利技术的一些实施例，所述第一腔在垂直于所述第一腔和所述第二腔的连通方向上所取的横截面的面积为a1，所述第二腔在垂直于所述第二腔和所述第三腔的连通方向上所取的横截面的面积为a2，满足：a1＜a2。
7、根据本专利技术的一些实施例，所述沉积炉还包括真空仓，所述真空仓设置有第四腔，所述反应仓和所述过渡仓均容置于所述第四腔内，所述沉积仓与所述真空仓密封连接。
8、根据本专利技术的一些实施例，所述沉积炉还包括第二真空泵，所述第二真空泵与所述第四腔连通，所述第二真空泵用于使所述第四腔的压强大于所述第一腔的压强。
9、根据本专利技术的一些实施例，所述第一加热件和所述第二加热件均位于所述第四腔内，所述第一加热件环绕所述反应仓的外表面设置，所述第二加热件环绕所述过渡仓的外表面设置。
10、根据本专利技术的一些实施例，所述真空仓包括活动门，所述活动门能够封闭或打开所述第四腔，所述沉积炉还包括炉体和风冷组件，所述炉体设置有第五腔，所述真空仓和所述沉积仓均容置于所述第五腔内，所述风冷组件包括风机和进风管道，所述进风管道与所述第五腔连通，所述进风管道用于通入冷却气体，所述风机与所述第五腔连通，所述风机能够驱使气体流动。
11、根据本专利技术的一些实施例，所述反应仓具有设定的高度，所述第一腔内设置有多个料盘，多个所述料盘沿所述反应仓的高度方向间隔设置，所述料盘用于装载原料。
12、根据本专利技术的一些实施例，在所述反应仓的高度方向上相邻的所述料盘之间具有设定的距离h，满足：10mm≤h≤30mm。
13、根据本专利技术的一些实施例，所述沉积仓包括主体和多个沉积盒，所述主体限定出所述第三腔，所述沉积盒位于所述第三腔内，所述沉积炉还包括转动组件，所述转动组件包括转轴和第一驱动器，所述转轴的至少一部分位于所述第三腔内，所述沉积盒连接于所述转轴，各所述沉积盒环绕于所述转轴的径向表面，所述第一驱动器与所述转轴连接，所述第一驱动器用于驱使所述转轴转动，以使各所述沉积盒依次与所述第二腔连通。
14、根据本专利技术的一些实施例，所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓并列设置，所述反应仓设置有料门，所述料门位于所述反应仓背离所述沉积仓的一侧，所述沉积炉还包括抵持件和第二驱动器，所述抵持件用于抵持所述料门，所述第二驱动器与所述抵持件连接，所述第二驱动器用于驱使所述抵持件在所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓的排列方向上运动。
15、根据本专利技术的一些实施例，所述沉积炉还包括滚轮组件，所述滚轮组件包括滚轮，所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓中的至少一个的底侧抵持于所述滚轮。
16、根据本专利技术的一些实施例，所述沉积炉还包括炉体，所述炉体设置有第五腔和流道，所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓均容置于所述第五腔内，所述流道环绕所述第五腔设置，且所述流道与所述第五腔间隔设置，所述流道用于通入冷却液。
17、根据本专利技术实施例的生产设备，包括震动平台和上述任一实施例的沉积炉，所述第三腔内设置有沉积盒，所述沉积盒用于沉积结晶。所述震动平台用于震动分离所述沉积盒上的结晶。
18、根据本专利技术实施例的生产设备，至少具有如下有益效果：通过应用本申请实施例的沉积炉，配合震动平台对沉积于沉积盒上的结晶进行分离，能够有效提高气相沉积制备产品的良率和效率。
19、根据本专利技术实施例的气相沉积制备方法，包括以下步骤：
20、对反应仓的第一腔进行原料装载；
21、密封反应仓、过渡仓和沉积仓；
22、控制第一加热件和第二加热件进行加热，使得所述第一腔具有第一温度t1、第二腔具有第二温度t2、第三腔具有第三温度t3；
23、驱使第一真空泵对所述第三腔内的气体进行抽吸。
24、根据本专利技术实施例的气相沉积制备方法，至少具有如下有益效果：通过应用具有反应仓、过渡仓和沉积仓的沉积炉，并通过控制第一加热件和第二加热件使得第一腔具有第一温度t1、第二腔具有第二温度t2、第三腔具有第三温度t3，能够确保蒸气在第一真空泵的驱使下从反应仓朝沉积仓进行运动时，蒸气不会在过渡仓发生可逆反应，并使得被蒸气带出的粉末留置在过渡仓内，降低原料粉末进入沉积仓内的几率，确保沉积仓内的结晶的纯度达标，确保产品良率。
25、本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
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1.沉积炉，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述第一腔在垂直于所述第一腔和所述第二腔的连通方向上所取的横截面的面积为A1，所述第二腔在垂直于所述第二腔和所述第三腔的连通方向上所取的横截面的面积为A2，满足：A1＜A2。
3.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述沉积炉还包括真空仓，所述真空仓设置有第四腔，所述反应仓和所述过渡仓均容置于所述第四腔内，所述沉积仓与所述真空仓密封连接。
4.根据权利要求3所述的沉积炉，其特征在于，所述沉积炉还包括第二真空泵，所述第二真空泵与所述第四腔连通，所述第二真空泵用于使所述第四腔的压强大于所述第一腔的压强。
5.根据权利要求3所述的沉积炉，其特征在于，所述第一加热件和所述第二加热件均位于所述第四腔内，所述第一加热件环绕所述反应仓的外表面设置，所述第二加热件环绕所述过渡仓的外表面设置。
6.根据权利要求3所述的沉积炉，其特征在于，所述真空仓包括活动门，所述活动门能够封闭或打开所述第四腔，所述沉积炉还包括炉体和风冷组件，所述炉体设置有第五腔，所述真空仓和
7.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述反应仓具有设定的高度，所述第一腔内设置有多个料盘，多个所述料盘沿所述反应仓的高度方向间隔设置，所述料盘用于装载原料。
8.根据权利要求7所述的沉积炉，其特征在于，在所述反应仓的高度方向上相邻的所述料盘之间具有设定的距离H，满足：10mm≤H≤30mm。
9.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述沉积仓包括主体和多个沉积盒，所述主体限定出所述第三腔，所述沉积盒位于所述第三腔内，所述沉积炉还包括转动组件，所述转动组件包括转轴和第一驱动器，所述转轴的至少一部分位于所述第三腔内，所述沉积盒连接于所述转轴，各所述沉积盒环绕于所述转轴的径向表面，所述第一驱动器与所述转轴连接，所述第一驱动器用于驱使所述转轴转动，以使各所述沉积盒依次与所述第二腔连通。
10.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓并列设置，所述反应仓设置有料门，所述料门位于所述反应仓背离所述沉积仓的一侧，所述沉积炉还包括抵持件和第二驱动器，所述抵持件用于抵持所述料门，所述第二驱动器与所述抵持件连接，所述第二驱动器用于驱使所述抵持件在所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓的排列方向上运动。
11.根据权利要求10所述的沉积炉，其特征在于，还包括滚轮组件，所述滚轮组件包括滚轮，所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓中的至少一个的底侧抵持于所述滚轮。
12.根据权利要求1至11任一项所述的沉积炉，其特征在于，还包括炉体，所述炉体设置有第五腔和流道，所述反应仓、所述过渡仓和所述沉积仓均容置于所述第五腔内，所述流道环绕所述第五腔设置，且所述流道与所述第五腔间隔设置，所述流道用于通入冷却液。
13.生产设备，其特征在于，包括：
14.气相沉积制备方法，基于权利要求1至12任一项所述的沉积炉，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.沉积炉，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述第一腔在垂直于所述第一腔和所述第二腔的连通方向上所取的横截面的面积为a1，所述第二腔在垂直于所述第二腔和所述第三腔的连通方向上所取的横截面的面积为a2，满足：a1＜a2。
3.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述沉积炉还包括真空仓，所述真空仓设置有第四腔，所述反应仓和所述过渡仓均容置于所述第四腔内，所述沉积仓与所述真空仓密封连接。
4.根据权利要求3所述的沉积炉，其特征在于，所述沉积炉还包括第二真空泵，所述第二真空泵与所述第四腔连通，所述第二真空泵用于使所述第四腔的压强大于所述第一腔的压强。
5.根据权利要求3所述的沉积炉，其特征在于，所述第一加热件和所述第二加热件均位于所述第四腔内，所述第一加热件环绕所述反应仓的外表面设置，所述第二加热件环绕所述过渡仓的外表面设置。
6.根据权利要求3所述的沉积炉，其特征在于，所述真空仓包括活动门，所述活动门能够封闭或打开所述第四腔，所述沉积炉还包括炉体和风冷组件，所述炉体设置有第五腔，所述真空仓和所述沉积仓均容置于所述第五腔内，所述风冷组件包括风机和进风管道，所述进风管道与所述第五腔连通，所述进风管道用于通入冷却气体，所述风机与所述第五腔连通，所述风机能够驱使气体流动。
7.根据权利要求1所述的沉积炉，其特征在于，所述反应仓具有设定的高度，所述第一腔内设置有多个料盘，多个所述料盘沿所述反应仓的高度方向间隔设置，所述料盘用于装载原料。
8.根据权利要求7所述的沉积炉，其特征在于，在所述反应...
【专利技术属性】
技术研发人员：李光俊，苟冉，
申请(专利权)人：深圳市美格真空科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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