表面处理剂制造技术

本发明专利技术提供以下式(1)或(2)(式中，各符号如说明书中的记载)所示的含硅氧烷基硅烷化合物。RS1α‑XA‑RHβ (1)，RHγ‑XA‑RS2‑XA‑RHγ (2)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及表面处理剂。

技术介绍

1、已知某些种类的硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水拨油性(专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2019-44179号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的技术问题

2、专利文献1所记载的硅烷化合物能够提供指纹拭去性优异的表面处理层，但仍寻求具有更高的功能的表面处理层。

3、本专利技术的目的在于提供一种能够形成指纹拭去性优异的表面处理层的表面处理剂。

4、用于解决技术问题的技术手段

5、本专利技术包括以下方式。

6、[1]一种以下式(1)或(2)所示的含硅氧烷基硅烷化合物。

7、rs1α-xa-rhβ      (1)

8、rhγ-xa-rs2-xa-rhγ   (2)

9、[式中，

10、rs1在每次出现时分别独立地为r1-rs-r2q-；

11、rs2为-op-本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种以下式(1)或(2)所示的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

2.如权利要求1所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

3.如权利要求1或2所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

4.如权利要求1～3中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

5.如权利要求1～4中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

6.如权利要求1～5中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

7.如权利要求6所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

8.如权利要求6所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种以下式(1)或(2)所示的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

2.如权利要求1所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

3.如权利要求1或2所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

4.如权利要求1～3中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

5.如权利要求1～4中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

6.如权利要求1～5中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

7.如权利要求6所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

8.如权利要求6所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

9.如权利要求6所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

10.如权利要求6所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

11.如权利要求6所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

12.如权利要求1～11中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

13.如权利要求1～12中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

14.如权利要求1～12中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

15.如权利要求1～12中任一项所述的含硅氧烷基硅烷化合物，其特征在于，

16.如权利要求1～11中任一项所述的含硅氧...

【专利技术属性】
技术研发人员：半田晋也，野村孝史，松井元志，G·托尔蒂西耶，高田昌和，中野希望，大向吉景，高野真也，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：