System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种全息镭射膜色差控制方法及低色差全息镭射膜技术_技高网

一种全息镭射膜色差控制方法及低色差全息镭射膜技术

技术编号:40846723 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-01 15:15
本发明专利技术涉及真空镀膜技术领域,具体是涉及一种全息镭射膜色差控制方法及低色差全息镭射膜,确定基准值,根据需要预设一个亮度阈值,使得设备预先运行并在通过设备产出的产品中选取试验膜,测量试验膜的亮度分布情况,并在试验膜上选取位于亮度阈值中的亮度值以及生产该亮度值时对应的设备参数;而后在线加工,将确定的基准值输入到设备内,重新启动设备进行生产,设备中的真空镀膜机根据基准值自动调整镀膜厚度。本发明专利技术使得真镀出来的全息镭射膜亮度值较为均匀,降低了全息镭射膜的色差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空镀膜,具体是涉及一种全息镭射膜色差控制方法及低色差全息镭射膜


技术介绍

1、光学真空镀膜机在对工件镀膜的过程中,需要用膜厚测量装置对工件所镀膜厚进行实时测量,其中一种测量方法为石英晶体振荡测量,利用石英晶体的压电效应和质量负荷效应,通过测定其固有谐振频率或固有谐振频率相关量变化来监测沉积膜的厚度。传统的石英晶体膜厚测量装置在工作一段时间后,石英晶体被镀膜材料长时间的溅射,其寿命会变得很短,需要经常对测量装置中的石英晶体进行更换,以保证膜厚测量工作的正常进行,影响工作效率,且成本较高。

2、中国专利cn212390975u公开了一种光学真空镀膜膜厚测量装置,包括密封体、电机、密封管、固定盘、冷凝室、承载台和转盘,密封体上端与电机的轴所在端面连接,所述密封体下端与密封管一端连接,所述密封管穿过固定盘和冷凝室,所述密封管另一端与承载台相接触,所述电机的轴穿过所述密封体、所述密封管和所述承载台并在末端连接扇叶状的转盘,所述密封体内部设有储存冷却水的夹层,出水管上端穿过所述密封体的夹层,所述冷凝室的上端面连接所述固定盘,下端面连接所述承载台;所述冷凝室内壁附近设有夹层,夹层与所述冷凝室内壁之间设有螺旋层,所述螺旋层呈双螺旋结构从所述固定盘下表面延伸至所述承载台上方,进水管和所述出水管穿过所述固定盘进入所述冷凝室内壁与夹层之间的空间,并分别沿所述螺旋层的不同螺旋线布置,所述承载台的中心设有包括晶振片的检测装置,所述转盘位于晶振片下方。

3、上述方案虽然提高了晶振探头的使用寿命,降低了成本,但是上述方案中只是集中于检测镀层的厚度,即使保证镀层厚度统一,也无法保证经过真空镀膜后的成品亮度均匀统一,这是由于对基膜涂层上模压图案的全息镍版的制作工艺所导致,通过光刻机对全息图像进行雕刻制得全息图像母版、全息图像母版经过电铸机电铸翻子版(镍版)后会出现全息镍版一侧亮度高一侧亮度低的情况,如此经过全息镍版模压后的基膜在被均匀镀膜后便会出现亮度参差不一的情况,色差明显,如此便导致了大量次品的出现。


技术实现思路

1、针对上述问题,提供一种全息镭射膜色差控制方法及低色差全息镭射膜,先制作试验膜,并在试验膜上选取多个测量点,同时对测量点的亮度情况进行测量,并将各个测量点的亮度值记录下来,选取符合预设亮度阈值的亮度值,在符合预设亮度阈值中选择一个亮度值作为目标亮度值,并将选取的目标亮度值在生产其时的对应设备参数记录下来,最后将目标亮度值以及其对应的设备参数输入到设备中作为基准值,随后在线生产中,通过红外发射装置对镀膜后的基膜亮度值进行实时监测并将亮度值实时输送至控制器,控制器控制真空镀膜机中蒸发舟的镀膜量,从而使得加工出来的全息镭射膜亮度值较为均匀,降低了全息镭射膜的色差。

2、为解决现有技术问题,本专利技术提供一种全息镭射膜色差控制方法,该方法用于一种全息镭射膜生产设备,该设备包括全息模压机、真空镀膜机、放卷装置、收卷装置、红外发射装置和移动装置,其中真空镀膜机包括多个蒸发系统,每个蒸发系统中包括有一个蒸发舟,红外发射装置包括红外发射二极管、红外接收二极管、控制器和显色发光二极管,低色差全息镭射膜由pet薄膜、涂布离型层、激光全息模压图案层和真空镀铝构成;具体步骤如下:

3、s1、确定基准值,根据需要预设一个亮度阈值,使得设备预先运行并在通过设备产出的产品中选取试验膜,测量试验膜的亮度分布情况,并在试验膜上选取位于亮度阈值中的亮度值以及生产该亮度值时对应的设备参数;

4、s2、在线加工,将确定的基准值输入到设备内,重新启动设备进行生产,设备中的真空镀膜机根据基准值自动调整镀膜厚度。

5、优选的,步骤s1包括如下步骤:

6、s11、试验膜制作,将基膜通过全息模压机模压,并将模压后的基膜通过真空镀膜机镀膜后制得试验膜;

7、s12、亮度值测量点取样,在试验膜上设置测量点,并检测测量点处的亮度值,并将测量出来的亮度值与亮度阈值对比,选择其中一个位于亮度阈值内的亮度值作为目标亮度值,并记录生产所选取目标亮度值时对应的设备参数。

8、优选的,步骤s11包括如下步骤:

9、s111、基膜制作,将全息镭射涂料涂布在pet薄膜上,并烘干;

10、s112、全息模压,将烘干后的基膜放入全息模压机中进行模压;

11、s113、通过真空镀膜机对经过全息模压后的基膜进行真空镀膜,制得试验膜。

12、优选的,步骤s12包括如下步骤:

13、s121、将部分制得的试验膜沿试验膜的宽度方向切除下来;

14、s122、对切除下来的试验膜沿试验膜的宽度方向进行测量点选取,并对测量点处的亮度进行测量;

15、s123、将测量后的亮度值一一记录并将位于预设亮度阈值中的亮度值筛选出来,并在筛选出来的亮度值中选取一个作为目标亮度值,同时记录设备生产目标亮度值时的各个参数。

16、优选的,在步骤s122中,对切除下来的试验膜沿试验膜的宽度方向进行测量点选取时,采用定距取样法。

17、优选的,步骤s112中全息模压机1在模压前需要选取合适的全息镍版9,全息镍版9是通过光刻机进行雕刻,将雕刻好的全息图像母版从光刻机上取下,全息图像母版再经过电铸机电铸翻子版,最后制得全息镍版9,并测量全息镍版9各个位置的亮度值,经过电铸翻制制得全息镍版9一侧亮度低,另一侧亮度高,并在全息镍版9亮度高的一侧和亮度低的一侧进行标记,全息镍版9对基膜进行模压时能将标记拓印在基膜上,在对全息镭射膜收卷完成后将标记部分切除即可。

18、优选的,步骤s2包括如下步骤:

19、s21、将基准值输入设备,设备开始正式生产运行;

20、s22、放卷装置将pet薄膜放出依次经过涂布全息镭射涂料和全息模压机模压,移动装置将模压后的基膜输送至真空镀膜机处;

21、s23、真空镀膜机对基膜进行镀膜,移动装置将镀膜后的基膜输送至红外发射装置检测,红外发射装置通过对基膜厚度的检测判断基膜的亮度值,控制器根据红外发射装置反馈的亮度值控制真空镀膜机的镀膜厚度;

22、s24、收卷装置对经过镀膜后的全息镭射膜进行收卷。

23、优选的,步骤s23包括如下步骤:

24、s231、通过红外发射装置对镀层厚度进行测量,进而判断镀层的亮度值;

25、s232、蒸发系统根据红外发射装置测量到的亮度值对自身的蒸发量进行调整,若亮度值过亮,则说明镀层过厚,蒸发量需要降低,若亮度值过暗,则说明镀层过薄,蒸发量需要升高。

26、优选的,步骤s231中镀层亮度值通过红外发射装置进行测量,红外发射二极管投射出的光线被红外接收二极管接收,红外接收二极管输出相应电压v0,输出的相应电压v0进入控制器,控制器根据电压控制显色发光二极管的发光情况,显示发光二极管分为红、绿、蓝三色,镀层越厚输出电压越低,显示发光二极管红灯亮,镀层越薄输出电压越本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种全息镭射膜色差控制方法,该方法用于一种全息镭射膜生产设备,该设备包括全息模压机(1)、真空镀膜机(2)、放卷装置(3)、收卷装置(4)、红外发射装置(5)和移动装置(6),其中真空镀膜机(2)包括多个蒸发系统,每个蒸发系统中包括有一个蒸发舟(21),红外发射装置(5)包括红外发射二极管(51)、红外接收二极管(52)、控制器和显色发光二极管,低色差全息镭射膜(7)由PET薄膜(71)、涂布离型层(72)、激光全息模压图案层(73)和真空镀铝(74)构成;其特征在于,具体步骤如下:

2.根据权利要求1所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤S1包括如下步骤:

3.根据权利要求2所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤S11包括如下步骤:

4.根据权利要求2所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤S12包括如下步骤:

5.根据权利要求4所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,在步骤S122中,对切除下来的试验膜沿试验膜的宽度方向进行测量点选取时,采用定距取样法。

6.根据权利要求3所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤S112中全息模压机(1)在模压前需要选取合适的全息镍版,全息镍版是先通过光刻机进行雕刻全息图像,后将雕刻好的全息图像母版从光刻机上取下,再经过电铸翻子版,最后制得全息镍版,并测量全息镍版各个位置的亮度值,经过电铸翻制后的全息镍版一侧亮度低,另一侧亮度高,并在全息镍版亮度高的一侧和亮度低的一侧进行标记,全息镍版对基膜进行模压时能将标记拓印在基膜上,在对全息镭射膜收卷完成后将标记部分切除。

7.根据权利要求1所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤S2包括如下步骤:

8.根据权利要求7所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤S23包括如下步骤:

9.根据权利要求8所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤S231中镀层亮度值通过红外发射装置(5)进行测量,红外发射二极管(51)投射出的光线被红外接收二极管(52)接收,红外接收二极管(52)输出相应电压V0,输出的相应电压V0进入控制器,控制器根据电压控制显色发光二极管的发光情况,显示发光二极管分为红、绿、蓝三色,镀层越厚输出电压越低,显示发光二极管红灯亮,镀层越薄输出电压越高,显示发光二极管蓝灯亮,镀层刚好时,显示发光二极管绿灯亮。

10.一种低色差全息镭射膜,其特征在于,该全息镭射膜采用权利要求1-9中任意一项所述的一种全息镭射膜色差控制方法制得。

...

【技术特征摘要】

1.一种全息镭射膜色差控制方法,该方法用于一种全息镭射膜生产设备,该设备包括全息模压机(1)、真空镀膜机(2)、放卷装置(3)、收卷装置(4)、红外发射装置(5)和移动装置(6),其中真空镀膜机(2)包括多个蒸发系统,每个蒸发系统中包括有一个蒸发舟(21),红外发射装置(5)包括红外发射二极管(51)、红外接收二极管(52)、控制器和显色发光二极管,低色差全息镭射膜(7)由pet薄膜(71)、涂布离型层(72)、激光全息模压图案层(73)和真空镀铝(74)构成;其特征在于,具体步骤如下:

2.根据权利要求1所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤s1包括如下步骤:

3.根据权利要求2所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤s11包括如下步骤:

4.根据权利要求2所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤s12包括如下步骤:

5.根据权利要求4所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,在步骤s122中,对切除下来的试验膜沿试验膜的宽度方向进行测量点选取时,采用定距取样法。

6.根据权利要求3所述的一种全息镭射膜色差控制方法,其特征在于,步骤s112中全息模压机(1)在模压前需要选取合适的全息镍版,全息镍版是先通过...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢章志喻顺东李宏廷刘能王焕斌王书淮陈玉锋陈梓壁
申请(专利权)人:汕头市嘉信包装材料有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1