【技术实现步骤摘要】
本申请属于显示,尤其涉及一种阵列基板及其制作方法和显示装置。
技术介绍
1、目前薄膜晶体管显示装置中阵列基板的薄膜晶体管的制作方法中,衬底基板之上第一金属层之上和像素开口区对应的衬底基板之上设置的栅极绝缘层是一次沉积形成,像素开口区对应的衬底基板之上的栅极绝缘层在经过一次化学气相沉积成膜和2次等离子体刻蚀后,造成像素开口区对应的衬底基板之上的栅极绝缘层的厚度均一性比较差,厚度不均匀的栅极绝缘层对光线发生干涉现象,导致显示装置呈现颜色不一致的现象,严重影响了显示装置的品质,降低了用户的体验感。
2、现有技术的显示装置存在衬底基板之上的厚度不均匀的栅极绝缘层造成显示颜色不均匀的问题。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种阵列基板及其制作方法和显示装置,可以解决显示装置存在衬底基板之上的厚度不均匀的栅极绝缘层造成显示颜色不均匀的问题。
2、第一方面,本申请实施例提供了一种阵列基板的制作方法,包括:
3、衬底基板之上一侧自下而上依次形成第一金属层和第一栅极绝
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【技术保护点】
1.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述衬底基板之上一侧自下而上依次形成第一金属层和第一栅极绝缘层的步骤,包括:
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述第一栅极绝缘层之上及覆盖所述第一金属层之外的所述衬底基板之上自下而上依次形成第二栅极绝缘层、半导体层、掺杂层及第二金属层的步骤,包括:
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述自上而下依次刻蚀所述第一金属层覆盖之外的所述衬底基板之上的所述第二金属层、所述掺杂层及所述半导体层的步骤,包括:
5.如权利要求4
...【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述衬底基板之上一侧自下而上依次形成第一金属层和第一栅极绝缘层的步骤,包括:
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述第一栅极绝缘层之上及覆盖所述第一金属层之外的所述衬底基板之上自下而上依次形成第二栅极绝缘层、半导体层、掺杂层及第二金属层的步骤,包括:
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述自上而下依次刻蚀所述第一金属层覆盖之外的所述衬底基板之上的所述第二金属层、所述掺杂层及所述半导体层的步骤,包括:
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述第二掩膜层包括沟道掩膜层,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:饶夙缔,叶利丹,
申请(专利权)人:长沙惠科光电有限公司,
类型:发明
国别省市:
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