一种PDA快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料及其制备方法技术

技术编号:40780943 阅读:24 留言:0更新日期:2024-03-25 20:25
本发明专利技术公开了一种聚脲复合材料技术领域的PDA快速沉积改性碳化硅‑聚脲复合材料及其制备方法,旨在解决现有技术中碳化硅聚脲复合材料中碳化硅和聚脲之间的界面结合性比较差等问题,其包括表面改性的碳化硅基材,所述碳化硅基材表面涂覆有聚脲,所述聚脲的组分包括端氨基聚醚和二苯基甲烷二异氰酸酯,所述端氨基聚醚的软段分子量为650。本发明专利技术有利于提高碳化硅和聚脲界面结合力和复合材料整体性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种pda快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料及其制备方法,属于聚脲复合材料。


技术介绍

1、碳化硅(sic)是一种由si和c两种元素通过共价键相结合而形成的碳化物。它具有非常高的硬度,仅次于金刚石和碳化硼,其晶体的结构类似于金刚石,由si-c四面体紧密堆积而成。碳化硅(sic)因其强度高重量轻等特性,一直以来被人们视作制作防弹装备的最理想的材料之一,但sic材料韧性低,其在弹体冲击下易产生大面积破碎,抗多次打击性能弱是其突出短板。

2、聚脲(polyurea,pu)是一种由异氰酸酯(isocyanate)组分和氨基化合物组分反应生成的弹性体物质。其化学结构类似于聚脂,但相比聚脂具有更高的硬度、强度、耐磨性、抗腐蚀性、耐化学品性,耐候性和抗冲击性等。聚脲是一种被应用于轻量化防护领域的材料之一,主要应用于应对战斗部爆炸效应产生的冲击波和碎片侵彻等毁伤威胁。聚脲材料通常采用喷涂成型技术,在防护应用领域中应用广泛。

3、将sic陶瓷片与聚脲材料进行“刚-柔”层错复合构筑形成新型抗弹装甲结构,利用陶瓷本身的高强度高硬度、陶瓷片层间本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种PDA快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料,其特征在于,包括表面改性的碳化硅基材,所述碳化硅基材表面涂覆有聚脲,所述聚脲的组分包括端氨基聚醚和二苯基甲烷二异氰酸酯,所述端氨基聚醚的软段分子量为650。

2.根据权利要求1所述的碳化硅-聚脲复合材料,其特征在于,所述端氨基聚醚和二苯基甲烷二异氰酸酯的摩尔比R(NCO/NH)=1~1.1。

3.一种PDA快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料的制备方法,其特征在于,所述方法用于制备权利要求1或2所述的PDA快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料,其包括以下步骤:

4.根据权利要求3所述的PDA快速沉积改性碳化硅-聚...

【技术特征摘要】

1.一种pda快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料,其特征在于,包括表面改性的碳化硅基材,所述碳化硅基材表面涂覆有聚脲,所述聚脲的组分包括端氨基聚醚和二苯基甲烷二异氰酸酯,所述端氨基聚醚的软段分子量为650。

2.根据权利要求1所述的碳化硅-聚脲复合材料,其特征在于,所述端氨基聚醚和二苯基甲烷二异氰酸酯的摩尔比r(nco/nh)=1~1.1。

3.一种pda快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料的制备方法,其特征在于,所述方法用于制备权利要求1或2所述的pda快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料,其包括以下步骤:

4.根据权利要求3所述的pda快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料的制备方法,其特征在于,步骤a中碳化硅的表面处理为用无水乙醇清洁。

5.根据权利要求3所述的pda快速沉积改性碳化硅-聚脲复合材料的制备方法,其特征在于,步骤b中多巴胺盐酸盐的浓度范围为1~3g/l,三羟甲基氨基甲烷缓冲液的浓度范围为40~60mm,其ph=7.5~8.5,h2...

【专利技术属性】
技术研发人员:纪冲王昕赵长啸涂建刚张凯凯王钰婷
申请(专利权)人:中国人民解放军陆军工程大学
类型:发明
国别省市:

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