【技术实现步骤摘要】
本公开涉及晶体生长领域,更具体地涉及一种用于高纯锗区熔的石英舟镀膜方法。
技术介绍
1、区熔是常用的提纯工艺。在高纯锗区熔提纯过程中,石墨和石英是常用的区熔坩埚材料。但区熔提纯采用石墨坩埚,石墨之中仍含有大量的b和p元素。在使用石墨坩埚区熔锗时,会导致锗中的浅能级杂质超标。石英坩埚很好的解决了b和p等杂质元素污染问题,但同时会引入si、al等杂质。此外,由于锗熔体浸润石英,凝固时锗会粘附石英表面,造成石英开裂。为避免石英材料中的杂质掺入锗料中并防止石英舟和熔融状态的锗料粘接而造成舟破裂,人们通常会在石英舟内壁涂上一层隔离保护层。
2、传统的石英上设置隔离保护层有三种:熏硅、熏碳和热解碳。其中,熏硅为燃烧硅烷的方式在石英表面镀一层氧化硅膜。但这层硅膜与石英粘附力差,很容易刮落进入锗熔体之中,造成区熔的锗锭中含有氧化硅粉,进而影响锗区熔提纯的纯度。此外,该方式会使用硅烷和氢气,操作十分危险。熏碳的方式为燃烧正丁烷的方式在石英表面镀一层碳粉,同熏硅一样,碳粉容易进入锗熔体之中,且该方式会使用正丁烷,具有一定的危险性。因此,热解碳成
...【技术保护点】
1.一种用于高纯锗区熔的石英舟镀膜方法,其特征在于,包括步骤:
2.根据权利要求1所述的用于高纯锗区熔的石英舟镀膜方法,其特征在于,
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【技术特征摘要】
1.一种用于高纯锗区熔的石英舟镀膜方法,其特征在于,包括步骤:
2.根据权利要求1所述的用于高纯锗区熔的石英舟镀膜方法,其特征在于,
<...【专利技术属性】
技术研发人员:狄聚青,赵青松,牛晓东,顾小英,
申请(专利权)人:安徽光智科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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