用于生成单光子的光电器件、相关存储器、复用器、植入物和方法技术

技术编号:40774410 阅读:17 留言:0更新日期:2024-03-25 20:21
本发明专利技术涉及一种器件(10),所述器件(10)包括第一段(15)、第二段(20)、第一接触件(25)和第二接触件(30),第一段(15)由具有第一掺杂的半导体制成,第二段(20)由具有第二掺杂的半导体制成,第二掺杂与第一掺杂不同,第一段(15)和第二段(20)形成pn结,所述pn结在第一段(15)中包括耗尽区(70),接触件(25,30)被配置成使得:当在接触件(25,30)两端施加电压(V1)时,耗尽区(70)的尺寸取决于电压的值,第二段(20)的掺杂剂限定了电离能。该器件(10)包括发射器(40),发射器(40)生成具有大于电离能的能量的辐射,并且利用该辐射对第二段(20)进行照射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种光电器件(10),所述光电器件(10)包括第一部分(15)、第二部分(20)、第一接触件(25)和第二接触件(30),所述第一部分(15)由具有n型掺杂和p型掺杂中的第一类型掺杂的第一半导体材料制成,所述第二部分(20)由具有n型掺杂和p型掺杂中的第二类型掺杂的第二半导体材料制成,所述第二类型掺杂与所述第一类型掺杂不同,所述第一部分(15)和所述第二部分(20)彼此接触并且形成p/n结,所述p/n结在所述第一部分(15)中包括耗尽区(70),所述第一接触件(25)电连接至所述第一部分(15),所述第二接触件(30)电连接至所述第二部分(20),所述第一接触件(25)和所述第二接触...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种光电器件(10),所述光电器件(10)包括第一部分(15)、第二部分(20)、第一接触件(25)和第二接触件(30),所述第一部分(15)由具有n型掺杂和p型掺杂中的第一类型掺杂的第一半导体材料制成,所述第二部分(20)由具有n型掺杂和p型掺杂中的第二类型掺杂的第二半导体材料制成,所述第二类型掺杂与所述第一类型掺杂不同,所述第一部分(15)和所述第二部分(20)彼此接触并且形成p/n结,所述p/n结在所述第一部分(15)中包括耗尽区(70),所述第一接触件(25)电连接至所述第一部分(15),所述第二接触件(30)电连接至所述第二部分(20),所述第一接触件(25)和所述第二接触件(30)被配置成使得:当在所述第一接触件(25)与所述第二接触件(30)之间施加电压(v1)时,所述耗尽区(70)的尺寸取决于所述电压(v1)的值,

2.根据权利要求1所述的光电器件,其中,所述光子能量严格小于所述第二部分(20)的带隙值,所述带隙值是所述第二部分(20)的导带与价带之间的能量差。

3.根据权利要求1或2所述的光电器件,所述光电器件还包括温度调节器(50),所述温度调节器(50)被配置成:将所述第二部分(20)的温度维持在下述值:所述值使得所述第二部分(20)中的载流子的热能小于或等于所述电离能的十分之一。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光电器件,所述光电器件还包括控制器(45),所述控制器(45)被配置成:控制由所述发射器(40)生成所述辐射;以及在利用所述辐射对所述第二部分(20)进行照射时,对所述第一接触件(25)与所述第二接触件(30)之间的电压(v1)的值进行修改。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光电器件,所述光电器件(10)是晶体管,并且所述光电器件(10)还包括第三电接触件(35),所述第三电接触件(35)电连接至所述第一部分(15),所述第一接触件(25)是所述晶体管的源极,所述第二接触件(30)是所述晶体管的栅极,所述第三接触件(35)是所述晶体管的漏极,所述第一接触件(25)和所述第二接触件(30)被配置成使得:对于所述第一接触件(25)与所述第二接触件(30)之间的电压(v1)的给定值,所述耗尽区(70)阻止电荷载流子在所述第一部分(15)中在所述第一接...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱利安·佩尔诺塞德里克·马桑特尼古拉斯·鲁热马丁·卡克莱芒特·埃贝尔
申请(专利权)人:国家健康和医学研究院
类型:发明
国别省市:

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