【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于气态分子污染物检测，特别是涉及一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法。
技术介绍
1、随着半导体制程技术的飞速发展，对半导体洁净工厂生产环境的洁净度也提出了更高的要求。amc，是指气态分子污染物，它包括了洁净室空气中出现的一系列污染物，具有以气体、蒸汽及空气浮尘状态出现；化学特性可以为有机的或者无机；包括酸、碱、聚合物添加剂、有机金属化合物、凝缩剂与添加剂等特征。
2、气态分子污染物已成为影响半导体产品制程产率的主要关键因素之一。现有的amc气态分子污染物超标的原因分析，主要是依靠专家经验来完成。但是，严重依赖专家经验，其时效性较差，且无法快速、精准地找到原因，进而影响了处置amc气态分子污染物超标的效率。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，通过采集室内气态分子污染物数据，计算未发生超标前的先验概率，构建基于进化算法的贝叶斯分析网络分析得到超标的气态分子污染物原因，进而实现精准分析的目的，解决了现有的amc气态分子污染物...
【技术保护点】
1.一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，所述步骤S2中，以小时为单位收集气态分子污染物数据并进行预处理，预处理包括：缺失值补缺和建模处理。
3.根据权利要求2所述的一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，所述缺失值超过总样本量的10％时，将该小时内的气态分子污染物数据删除；所述缺失值未超过总样本量的10％时，使用集成模型对缺失值进行补缺操作。
4.根据权利要求3所述的一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，所述...
【技术特征摘要】
1.一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，所述步骤s2中，以小时为单位收集气态分子污染物数据并进行预处理，预处理包括：缺失值补缺和建模处理。
3.根据权利要求2所述的一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，所述缺失值超过总样本量的10％时，将该小时内的气态分子污染物数据删除；所述缺失值未超过总样本量的10％时，使用集成模型对缺失值进行补缺操作。
4.根据权利要求3所述的一种洁净工厂气态分子污染物的分析方法，其特征在于，所述补缺操作使用stacking集成方法，将et、rf、gbdt、lgbm和xgboost五种基...
【专利技术属性】
技术研发人员：江大白，胡增，褚庚，
申请(专利权)人：中用科技南通有限公司，
类型：发明
国别省市：
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