【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于玻璃蚀刻领域，尤其涉及一种玻璃蚀刻设备。
技术介绍
1、玻璃蚀刻工艺包括清洁、上感光油墨、曝光、显影、蚀刻及清理感光油墨等工序，玻璃蚀刻工艺中的蚀刻工序是通过hf酸对玻璃上感光油墨的图案区域进行蚀刻，hf酸与曲面玻璃的反应时间长短直接决定了玻璃图案的蚀刻深度和蚀刻质量。
2、对应曲面玻璃的蚀刻，无论玻璃如何放置，喷涂至玻璃曲面上的hf酸会产生流动，hf酸的流动会导致蚀刻的不均匀性。
3、目前针对曲面玻璃的蚀刻是通过向曲面玻璃上多次少量喷涂hf酸对曲面玻璃进行蚀刻。由于每次喷涂的hf酸量少而不会产生流动，可以保证玻璃蚀刻的均匀性，但是需要多次喷涂会导致效率较低。
4、本专利技术设计一种玻璃蚀刻设备解决如上问题。
技术实现思路
1、为解决现有技术中的所述缺陷，本专利技术公开一种玻璃蚀刻设备，它是采用以下技术方案来实现的。
2、一种玻璃蚀刻设备，它包括壳体、夹持机构a、夹持机构b、蚀刻带、调节机构a、调节机构b、夹辊c、夹辊d、张紧机...
【技术保护点】
1.一种玻璃蚀刻设备，其特征在于：它包括壳体、夹持机构A、夹持机构B、蚀刻带、调节机构A、调节机构B、夹辊C、夹辊D、张紧机构、驱动机构A、驱动机构B、喷头、排气管，其中壳体内中部位置安装有自上而下依次分布且用来夹持玻璃的夹辊C和夹辊D；壳体内壁面两对弧槽C内滑动有两个从夹辊C和夹辊D两侧对不同曲率曲面玻璃夹持的夹持机构B，每个夹持机构B均通过其内自上而下依次分布的夹辊A和夹辊B对曲面玻璃进行夹持；壳体内壁面两对弧槽B内滑动有两个从两个夹持机构B两侧对不同曲率曲面玻璃夹持的夹持机构A，每个夹持机构A均通过其内自上而下依次分布的夹辊A和夹辊B对曲面玻璃进行夹持；夹辊C、...
【技术特征摘要】
1.一种玻璃蚀刻设备，其特征在于：它包括壳体、夹持机构a、夹持机构b、蚀刻带、调节机构a、调节机构b、夹辊c、夹辊d、张紧机构、驱动机构a、驱动机构b、喷头、排气管，其中壳体内中部位置安装有自上而下依次分布且用来夹持玻璃的夹辊c和夹辊d；壳体内壁面两对弧槽c内滑动有两个从夹辊c和夹辊d两侧对不同曲率曲面玻璃夹持的夹持机构b，每个夹持机构b均通过其内自上而下依次分布的夹辊a和夹辊b对曲面玻璃进行夹持；壳体内壁面两对弧槽b内滑动有两个从两个夹持机构b两侧对不同曲率曲面玻璃夹持的夹持机构a，每个夹持机构a均通过其内自上而下依次分布的夹辊a和夹辊b对曲面玻璃进行夹持；夹辊c、两个夹持机构a的两个夹辊a和两个夹持机构b的两个夹辊a上安装有蚀刻带；壳体内安装有使蚀刻带保持张紧的张紧机构；壳体进口处的弧槽a内滑动配合有向内推送曲面玻璃的驱动机构a，壳体的出口处的弧槽a内滑动配合有向外拖拉曲面玻璃的驱动机构b；壳体内顶部的进口附近安装有向蚀刻带上喷洒hf酸的喷头，壳体内中部顶端安装有向废气回收设备排放废气的排气管；蚀刻带上具有在其被夹持机构a中夹辊a与曲面玻璃或夹持机构b中夹辊a与曲面玻璃或夹辊c与曲面玻璃挤压下向曲面玻璃运动方向和向曲面玻璃侧向均匀输送hf酸的结构；壳体外安装有根据曲面玻璃曲率同步调节两个夹持机构a位置的调节机构a和根据曲面玻璃曲率同步调节两个夹持机构b位置的调节机构b；驱动机构a、驱动机构b、夹持机构a和夹持机构b上均具有对其位置锁定的结构。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃蚀刻设备，其特征在于：所述夹持机构a或夹持机构b包括支架a、弧块a、夹辊a、夹辊b，其中支架a两端的弧块a分别滑动于相应侧弧槽b或弧槽c内；支架a内安装有自上而下依次分布的夹辊a和夹辊b。
3.根据权利要求2所述的一种玻璃蚀刻设备，其特征在于：所述弧块a上安装有锁板，锁板上的螺纹孔内旋合有与壳体壁面配合的螺栓。
4.根据权利要求2所述的一种玻璃蚀刻设备，其特征在于：所述调节机构a或调节机构b包括滑座、螺杆、齿轮a、齿轮b、摇把、导套、滑杆，其中安装于壳体外壁的螺杆与壳体外壁上竖直滑动的滑座螺纹配合；滑座两侧安装有两个水平导套，每...
【专利技术属性】
技术研发人员：尹爀俊，欧阳春炜，李述蕾，王强，
申请(专利权)人：赛德半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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