一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法技术

本发明专利技术涉及材料反射率测试技术领域，具体涉及一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法。包括如下步骤：步骤S1：对漫反射测试参数进行设置；步骤S2：在测试端口放置标准样品，即冠状低反射标准漫反射板，进行基线扫描和校零；步骤S3：取下冠状低反射标准漫反射板，放置测试样品，即涂覆低反射光吸收层的冠状零件进行测试；步骤S4：测得的数据，再乘以冠状零件的校准数据值，所得结果即为样品的反射漫数据；步骤S5：数据处理采用全谱段取算术平均值，即在400nm～1100nm的波长范围内，每隔5nm取反射率值，计算算术平均值来表征光吸收层的漫反射率。本发明专利技术可以相对计算出大角度入射情况下光吸收层的漫反射率，有利于表征入射光在入射角0°～60°时的漫反射情况。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料反射率测试，具体涉及一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法。

技术介绍

1、1、漫反射测量方法：杂散光是光学系统中所有非正常传输光的总称，是到达光学系统像平面不需要的光线，是影响光学系统特别是微弱光系统传输质量的重要因素，为了确保传输质量，必须对微弱光系统的杂散光进行控制和消除。

2、控制和消除光学系统杂散光，核心技术是对光学系统非传输表面(光学系统结构件表面、光学元件非工作面)涂覆低反射光光吸收层，因此光吸收层的漫反射测量评价方法显得尤为重要。一般地，光学系统结构件不透光、光学元件涂覆光吸收层后也要求不透光，其表面为粗糙表面(非光学镜面)，因此光吸收层的漫反射测量评价是基于不透光粗糙表面的漫反射测量评价。

3、漫反射测量方法分为绝对测量法和相对测量法两种，国内外相关单位对此开展材料漫反射比测量研究。国际上比较公认的绝对测量法主要有三种：夏普-利特法、科特法、辅助积分法，用于漫反射比的绝对定标。相对测量法以标准件为测试数值基准进行传递测量，是目前工程应用中漫反射测量评价的主流方法，也是本专利技术的技术基础。

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【技术保护点】

1.一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法，其特征在于，所述步骤S1中的参数包括测试波长范围、纵坐标模式、平均时间、固定光谱带宽、数据间隔、狭缝高度以及基线校正。

3.如权利要求1所述的一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法，其特征在于，所述步骤S2与所述步骤S3中的冠状包括球形和非球形冠状；其中所述非球形冠状为圆锥形或渐近线形的非球形冠状。

4.如权利要求1所述的一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法，其特征在于，所述冠状低反射标准漫反射板，其漫反射比小于3％，反射率约...

【技术特征摘要】

1.一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法，其特征在于，所述步骤s1中的参数包括测试波长范围、纵坐标模式、平均时间、固定光谱带宽、数据间隔、狭缝高度以及基线校正。

3.如权利要求1所述的一种低反射光吸收层表面漫反射测量方法，其特征在于，所述步骤s2与所述步骤s3中的冠状包括球形...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐乾隆，査家明，李斯成，张平，路鹏，孟祥健，陆丹枫，颜刘兵，汶韬，钱晓星，李元祥，刘子源，
申请(专利权)人：江苏北方湖光光电有限公司，
类型：发明
国别省市：