一种高抗冲防彩虹纹AB胶保护膜制造技术

本技术涉及手机保护膜领域，具体涉及一种高抗冲防彩虹纹AB胶保护膜，包括：依次层叠设置的保护膜层、OCA胶层、硬化涂层、减反射层、G3O层、压敏硅胶层、离型膜层；通过设置G3O层为保护膜提供了有效的抗冲击缓冲性能，在限定硬化涂层的硬度的基础上配合减反射层抑制彩虹纹的产生，并由G3O层弥补因硬化涂层硬度较低所带来的耐冲损失，使保护膜兼顾了耐冲效果与防彩虹纹效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及手机保护膜，具体涉及一种高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜。

技术介绍

1、彩虹纹现象是现有手机保护膜亟需解决的问题之一，所谓彩虹纹现象，是在基材进行硬化处理的时候需要一次高温处理，而在高温处理的过程中，基材表面分子结构不均匀导致散射情况出现，越高强度的硬化处理，其彩虹纹便越难控制，同时彩虹纹的存在会严重影响透光度与视觉效果。

2、然而，硬化涂层的硬度下降会影响到保护膜的耐冲击性能，因此手机膜生产厂商须在透光等光学性能与耐冲等力学性能间做出抉择，影响手机膜的使用体验。

技术实现思路

1、本技术的目的是提供一种高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜，以解决现有手机保护膜无法兼顾耐冲性和防彩虹纹的技术问题。

2、为了解决上述技术问题，本技术提供了一种高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜，包括：依次层叠设置的保护膜层、oca胶层、硬化涂层、减反射层、g3o层、压敏硅胶层、离型膜层。

3、在其中一个实施例中，所述保护膜层为厚度50～75μm的pet离型膜。

4、在其中一个实施例中，所述oca胶层的厚度为20～50μm。

5、在其中一个实施例中，所述硬化涂层的厚度为1～5μm。

6、在其中一个实施例中，所述硬化涂层的硬度为3.3～3.7h。

7、在其中一个实施例中，所述减反射层的厚度为80～400nm。

8、在其中一个实施例中，所述g3o层的厚度为30～60μm。

9、在其中一个实施例中，所述压敏硅胶层的厚度为20～50μm。

10、在其中一个实施例中，所述离型膜层的厚度为30～50μm。

11、本技术的有益效果是，本技术的高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜通过设置g3o层为保护膜提供了有效的抗冲击缓冲性能，在限定硬化涂层的硬度的基础上配合减反射层抑制彩虹纹的产生，并由g3o层弥补因硬化涂层硬度较低所带来的耐冲损失，使保护膜兼顾了耐冲效果与防彩虹纹效果。

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【技术保护点】

1.一种高抗冲防彩虹纹AB胶保护膜，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的高抗冲防彩虹纹AB胶保护膜，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的高抗冲防彩虹纹AB胶保护膜，其特征在于，

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9.根据权利要求1所述的高抗冲防彩虹纹AB胶保护膜，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的高抗冲防彩虹纹ab胶保护膜，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的高抗冲防彩虹纹...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵江，李钦，李鹏，蔡刚庆，
申请(专利权)人：苏州易昇光学材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：