【技术实现步骤摘要】
本申请涉及薄膜制备领域,特别是涉及一种薄膜制备设备。
技术介绍
1、石墨烯是一种由碳原子构成的单层片状结构的材料,具有非同寻常的导电性、强度和化学稳定性,在微纳电子器件、光子传感器、隧穿势垒材料等领域。
2、目前在制备石墨烯薄膜时,通常采用化学气相沉积等沉积方式进行制备,沉积设备十分昂贵,加工步骤繁杂,并且需要专业的技术人员操作沉积设备,人力成本增加,进而导致制膜成本增加。
3、因此,如何解决上述技术问题应是本领域技术人员重点关注的。
技术实现思路
1、本申请的目的是提供一种薄膜制备设备,以简化薄膜制备工艺,降低制备成本。
2、为解决上述技术问题,本申请提供一种薄膜制备设备,包括:
3、箱体,所述箱体的底部设有进料孔;
4、薄膜承载板,所述薄膜承载板设于所述箱体内,且与所述箱体的内壁之间留有间隙;
5、支撑体,所述支撑体的第一端与所述薄膜承载板连接,并将所述薄膜承载板固定在所述箱体内;
6、雾化器,所述雾化
...【技术保护点】
1.一种薄膜制备设备,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的薄膜制备设备,其特征在于,所述支撑体的第二端与所述箱体的底部连接。
3.如权利要求1所述的薄膜制备设备,其特征在于,所述箱体包括本体和盖板,所述本体顶部具有开口,所述开口的尺寸小于或等于所述盖板的尺寸;所述支撑体的第二端与所述盖板连接。
4.如权利要求3所述的薄膜制备设备,其特征在于,所述支撑体包括螺杆和螺母,所述盖板和所述薄膜承载板上设有第一通孔,所述螺杆穿过所述第一通孔与所述螺母旋合。
5.如权利要求4所述的薄膜制备设备,其特征在于,所述第一通孔在所述盖
...【技术特征摘要】
1.一种薄膜制备设备,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的薄膜制备设备,其特征在于,所述支撑体的第二端与所述箱体的底部连接。
3.如权利要求1所述的薄膜制备设备,其特征在于,所述箱体包括本体和盖板,所述本体顶部具有开口,所述开口的尺寸小于或等于所述盖板的尺寸;所述支撑体的第二端与所述盖板连接。
4.如权利要求3所述的薄膜制备设备,其特征在于,所述支撑体包括螺杆和螺母,所述盖板和所述薄膜承载板上设有第一通孔,所述螺杆穿过所述第一通孔与所述螺母旋合。
5.如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:于富鹏,刘兆平,
申请(专利权)人:宁波石墨烯创新中心有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。