降低曝光机内部光线衍射的装置制造方法及图纸

本技术公开了一种降低曝光机内部光线衍射的装置，包括安装板和设置于安装板上且用于汇聚光线的球状晶体，球状晶体设置于曝光机的光源和光罩之间。本技术的降低曝光机内部光线衍射的装置，设置在曝光机和光罩之间，当曝光机的光源发出光线时，经过此装置后的光线会减少衍射的效果，光线会再次变得竖直，减少了光在图形上衍射的分布，从而提升了曝光的效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种降低曝光机内部光线衍射的装置。

技术介绍

1、在玻璃黄光车间的生产过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。其中，曝光是非常重要的一个步骤。首先需要曝光机中放置光罩(mask)，然后光罩和玻璃进行对位，留下图形。而曝光的效果决定了图形实际显示出的效果。

2、现有的光刻工艺为：光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到玻璃基板上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1，等等。然后使用化学方法显影，得到刻在玻璃基板上的电路图得以显现出效果。

3、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、涂布光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。曝光的过程中，图形的效果会受到诸多因素的影响，除去一些常规的参数会影响图形的效果外，曝光机内部的光源也会影响其效果。通常在生产中，图形的尺寸≤10um的时候，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.降低曝光机内部光线衍射的装置，其特征在于：包括安装板和设置于安装板上且用于汇聚光线的球状晶体，球状晶体设置于曝光机的光源和光罩之间；

2.根据权利要求1所述的降低曝光机内部光线衍射的装置，其特征在于：所述安装板上设置安装孔，所述球状晶体设置于安装孔中。

3.根据权利要求1所述的降低曝光机内部光线衍射的装置，其特征在于：所述安装板上设置吊装孔。

【技术特征摘要】

1.降低曝光机内部光线衍射的装置，其特征在于：包括安装板和设置于安装板上且用于汇聚光线的球状晶体，球状晶体设置于曝光机的光源和光罩之间；

2.根据权利要求1所述的降低曝光机内...

【专利技术属性】
技术研发人员：周龙宇，王胜，王茹，钟素文，余志辉，
申请(专利权)人：芜湖长信科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：