【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。
技术介绍
1、在制造器件(半导体器件、磁存储介质、液晶显示元件等)、滤色器或者硬盘等时，会使用将基板(玻璃板、晶圆等)进行曝光的曝光装置。曝光装置例如将光照射于形成有图案的原版(分划板、掩膜)，通过经由投影光学系将从原版来的光照射于基板来将基板进行曝光。
2、在专利文献1中公开了如下曝光方法：为了防止因曝光导致透镜的温度上升而对曝光装置的光学系产生影响，对于基板上的应该曝光的区域(曝光区域)间歇地进行曝光。这里，对于曝光区域间歇地进行曝光是指，将对于曝光区域的曝光与中断重复进行。
3、在对于基板上的曝光区域间歇地进行曝光的情况下，由于有将曝光中断的期间，曝光处理的期间延长，有可能抑制吞吐量的提高。因此，期望在进行间歇曝光的曝光处理中缩短将曝光中断的期间从而提高吞吐量。
4、本专利技术提供使进行间歇曝光的曝光处理的吞吐量提高的曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。
5、现有技术文献
6、专利文献
7、专利文献1：日本专利第2844600号公报
技术实现思路
1、作为解决上述问题的本专利技术的一方面的曝光装置是将基板上的多个区域进行曝光的曝光装置，具有：快门，其对来自光源的光的遮断与通过进行切换；移动部，其保持所述基板并使所述基板移动；以及控制部，其进行控制使得由所述移动部使所述基板移动，以在第一曝光期间使所述多个区域中包含的第一区域进行曝光，在所述第一曝光期间
2、基于下述对示例性实施例的描述，进一步明确本专利技术的特征(参考附图)。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种曝光装置，对基板上的多个区域进行曝光，在所述曝光装置中，具有：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
5.一种曝光装置，对基板上的多个区域进行曝光，在所述曝光装置中，具有：
6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
7.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
8.根据权利要求1或5所述的曝光装置，其特征在于，
9.根据权利要求1或5所述的曝光装置，其特征在于，
10.一种曝光方法，用于对基板上的多个区域进行曝光，在所述曝光方法中，包括：
11.一种曝光方法，用于对基板上的多个区域进行曝光，在所述曝光方法中，包括：
12.一种物品的制造方法，在所述物品的制造方法中，包括：
【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，对基板上的多个区域进行曝光，在所述曝光装置中，具有：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
5.一种曝光装置，对基板上的多个区域进行曝光，在所述曝光装置中，具有：
6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
7.根据...
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