【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体、光学和激光，更具体地，涉及一种可实时监控石英玻璃耐辐照过程中，其透过率变化的系统及方法。
技术介绍
1、光刻是芯片制造过程中的关键环节之一，它需要用到石英玻璃制造而成的光掩模石英基板；由于光刻所用的光源为紫外光，因此需要一套系统和方法来测试石英玻璃对紫外光的耐辐照性能，即测试当石英玻璃被照射到一定程度后其透过率的变化的系统和方法。目前常采用的耐辐照测试方法是离线的，即在辐照前后将样品放入分光光度计中测试透过率，对比透过率的变化量；受限于此方法无法得知样品在辐照过程中的透过率变化情况，只能知道起始状态，因此一种可实时监控透过率的石英玻璃耐辐照测试系统及方法显得比较重要。
技术实现思路
1、针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本专利技术提出了一种可实时监控透过率的石英玻璃耐辐照测试系统及方法。
2、为实现上述目的，按照本专利技术的一个方面，提供了一种可实时监控透过率的石英玻璃耐辐照测试系统，包括：辐照单元和监控单元；
3、所述辐照单元，用于提供能量可...
【技术保护点】
1.一种可实时监控透过率的石英玻璃耐辐照测试系统，其特征在于，包括：辐照单元和监控单元；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述辐照单元波长为193nm或248nm。
3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述辐照单元包括准分子激光器、光束整形和扩束光路以及激光能量计；
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述准分子激光器提供193nm或248nm波长的辐照激光。
5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述监控单元包括样品室、单色仪、监控光路、参考光路、光电探测和信号处理单元及控制单元；
...【技术特征摘要】
1.一种可实时监控透过率的石英玻璃耐辐照测试系统，其特征在于，包括：辐照单元和监控单元；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述辐照单元波长为193nm或248nm。
3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述辐照单元包括准分子激光器、光束整形和扩束光路以及激光能量计；
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述准分子激光器提供193nm或248nm波长的辐照激光。
5.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘经纬，顾立新，朱继红，张欣，欧阳琛，胡明伟，曹琴，
申请(专利权)人：长飞石英技术武汉有限公司，
类型：发明
国别省市：
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