一种高均匀性高羟基石英玻璃及其制备方法技术

技术编号:46493586 阅读:4 留言:0更新日期:2025-09-26 19:11
本发明专利技术属于石英玻璃技术领域,公开了一种高均匀性高羟基石英玻璃及其制备方法。制备方法,包括以下步骤:1)将二氧化硅疏松体置于具有红外加热和微波加热功能的设备中,启动红外加热升温至第一温度后关闭红外加热;2)启动微波加热升温至第二温度后,先抽真空,再通入携带水蒸气的混合气后保温;3)启动微波脉冲加热阶段,在携带水蒸气的混合气中,以开启微波、关闭微波为一个脉冲周期,交替循环直至升温至第三温度;4)在惰性气氛下,采用微波加热进一步升温至第四温度后保温,烧结得到高均匀性高羟基石英玻璃。本发明专利技术所得石英玻璃的整体平均羟基含量≥500ppm且内部含量波动≤50ppm。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于石英玻璃,具体涉及一种高均匀性高羟基石英玻璃及其制备方法


技术介绍

1、高羟基石英玻璃一般指整体羟基含量>150ppm的一类特殊石英玻璃,因其特殊的化学键结构与光学特性,具有独特的紫外透过性、化学活性、可修饰性,在特种光纤、半导体与生物检测方面有着不可替代的作用。但是过去石英玻璃羟基掺杂过程中,往往存在掺杂浓度不够、均一性较差的问题,这显著影响其键合结构,进一步影响其性能,尤其在热稳定性(高温下-oh脱附)、机械强度以及光学性能方面受到比较明显的影响。

2、采用传统电阻炉加热升温过程中,石英玻璃依赖热传导的升温方式,不可避免的会产生体相温度差,即表面温度高,中心温度低的温度阶梯分布,受制于升温速率,石英玻璃必须经过一定的时间内外温度才能保持一致,所以传统焙烧后的掺杂石英玻璃往往表现为表面羟基过饱和,而内部掺杂不足的缺点。并且一般石英玻璃致密化温度需至少达到1200℃,在这温度之前石英玻璃内部由于黏度过高孔隙未闭合,h2o可自由逸出,传统电阻加热炉加热至1200°c需要一定时间,在这升温时间区间内,羟基会大量流失,所以传统焙烧后的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,所述红外加热的升温速率为1~5℃/min,所述第一温度为500~700℃。

3.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,步骤2)中,所述微波加热的升温速率为5~20℃/min,所述第二温度为700~1000℃,所述抽真空至真空度为0.01~10Pa。

4.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,步骤2)中,所述携带水蒸气的混合气中水蒸气的体积分数为1~10%,其余...

【技术特征摘要】

1.一种高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,所述红外加热的升温速率为1~5℃/min,所述第一温度为500~700℃。

3.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,步骤2)中,所述微波加热的升温速率为5~20℃/min,所述第二温度为700~1000℃,所述抽真空至真空度为0.01~10pa。

4.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,步骤2)中,所述携带水蒸气的混合气中水蒸气的体积分数为1~10%,其余为载料气体,载料气体为n2、ar、he中的至少一种,所述携带水蒸气的混合气的通入流速为1~10l/min,炉内压力维持0.1~1mpa,在该气氛下保温2~15h。

5.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,步骤3)中,所述携带水蒸气的混合气中水蒸气的体积分数为10~20%,其余为载料气体,载料气体为n2、ar、he中的至少一种,所述携带水蒸气的混合气的通入流速为1~10l/min,炉内压力维持0.1~1mpa。

6.根据权利要求1所述的高均匀性高羟基石英玻璃的制备方法,其特征在于,所述微波脉冲加热阶段的单个脉冲周期为10~60s,单个脉冲周期...

【专利技术属性】
技术研发人员:张俊武胡俊中张欣王泯邓国华
申请(专利权)人:长飞石英技术武汉有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1