【技术实现步骤摘要】
本公开涉及一种磁传感器装置及其制造方法。
技术介绍
1、近些年，在各种用途上，利用磁传感器装置来检测外磁场的所定方向的分量。已知在基板上设置磁检测元件来作为磁传感器。作为磁检测元件，例如可以使用磁阻效应元件。
2、例如在专利文献1中，公开了一种磁传感器装置，其具备：与支持体设置为一体的第一磁传感器，支持体，第一磁场产生器，以及第二磁场产生器。在专利文献1的磁传感器装置中，由第一磁场产生器产生第一附加磁场且由第二磁场产生器产生第二附加磁场，由此通过第一磁传感器精确地检测外磁场。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2020－94883号公报
技术实现思路
1、(一)要解决的技术问题
2、然而，对于具有磁传感器的磁传感器装置，期望具有高测定精度且更薄。
3、因此，期望提供一种具有高测定精度且可以进一步薄型化的磁传感器装置。
4、(二)技术方案
5、作为本公开的一种实施方式的磁传感器装置，具备传感器基板与传感器元件部的叠层结构。传感器基板具有表面，传感器元件部设置在该表面上且具有1个以上的磁传感器元件。在平行于该表面的俯视图中，传感器元件部的外缘的至少一部分的位置与传感器基板的外缘的位置不同。
6、在作为本公开的一种实施方式的磁传感器装置中，在俯视图中，传感器元件部的外缘的至少一部分的位置与传感器基板的外缘的位置不同。因此，在对磁传感器装置施加外力的情况下，可以
7、(三)有益效果
8、根据作为本公开的一种实施方式的磁传感器装置，因为在对磁传感器装置施加外力时可以缓和对传感器元件部的外缘附近的应力集中，所以可以减少传感器元件部的变形，能够降低对测定精度的影响。因此，作为本公开的一种实施方式的磁传感器装置，即使在将传感器基板薄型化的情况下也能够确保高测定精度。再有，本公开的效果并不限定于此，也可以是以下所述的任何一个效果。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种磁传感器装置，具备传感器基板与传感器元件部的叠层结构，
2.根据权利要求1所述的磁传感器装置，其中，
3.根据权利要求1或权利要求2所述的磁传感器装置，其中，
4.根据权利要求1至权利要求3中的任一项所述的磁传感器装置，其中，
5.根据权利要求1至权利要求4中的任一项所述的磁传感器装置，其中，
6.根据权利要求1至权利要求5中的任一项所述的磁传感器装置，其中，
7.根据权利要求1至权利要求6中的任一项所述的磁传感器装置，其中，
8.根据权利要求1至权利要求7中的任一项所述的磁传感器装置，其中，
9.一种磁传感器装置的制造方法，包括：
【技术特征摘要】
1.一种磁传感器装置，具备传感器基板与传感器元件部的叠层结构，
2.根据权利要求1所述的磁传感器装置，其中，
3.根据权利要求1或权利要求2所述的磁传感器装置，其中，
4.根据权利要求1至权利要求3中的任一项所述的磁传感器装置，其中，
5.根据权利要求1至权利要求4中的任一...
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