【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及介质处理系统。
技术介绍
1、在日本特开2016-222461号公报中记载了向接收介质片材的螺旋路径引导介质片材并使介质片材排出的介质片材路由器。
技术实现思路
1、以往，介质处理系统具备：前处理装置；从前处理装置接收记录介质并将记录介质送出的第一送出装置；以及接收从第一送出装置送出的记录介质的第一后处理装置。在这样的结构中，1个控制部基于前处理装置的处理指示分别对第一送出装置和第一后处理装置进行控制。
2、例如，考虑设置如下装置的结构：第二送出装置，其接收从第一送出装置送出的记录介质并与第一送出装置串联连结；以及第二后处理装置，其接收从第二送出装置送出的记录介质。
3、在这样的结构中，1个控制部分别对第一送出装置、第二送出装置、第一后处理装置和第二后处理装置进行控制。在增加了与第一送出装置串联连结的第二送出装置增加时，控制部控制的后处理装置增加，因此，控制部的控制结构被大幅变更。即，在通过1个控制部直接控制系统整体的后处理装置的情况下，由于后处理装置的增加而需要变更控制结构。
4、本专利技术的第1课题是，相比于通过1个控制部直接控制系统整体的后处理装置的情况，抑制由于后处理装置的增加而产生的控制结构的变更。
5、介质处理系统具备：前处理装置；送出装置，其从前处理装置接收记录介质，将记录介质向多个方向送出；以及多个后处理装置，它们直接接收从送出装置送出的记录介质。
6、此外，以往，在多个后处理装置中的一个后处
7、本专利技术的第2课题是，在具备多个直接接收从送出装置送出的记录介质的后处理装置的结构中，在一个后处理装置中发生了不良情况的情况下，能够继续进行介质处理。
8、根据本专利技术的第1方案，提供介质处理系统，其具备：前处理装置；第一送出装置，其从所述前处理装置接收记录介质，并送出记录介质；第一后处理装置，其接收从所述第一送出装置送出的记录介质，对记录介质实施后处理；单个或多个第二送出装置，其相对于所述第一送出装置串联连结，接收从记录介质的输送方向的上游侧送出的记录介质，并送出记录介质；第二后处理装置，其接收从所述第二送出装置送出的记录介质，对记录介质实施后处理；第一控制部，其设置于所述第一送出装置，与所述第一后处理装置、所述前处理装置和从所述第一送出装置接收记录介质的所述第二送出装置进行通信，对所述第一送出装置和所述第一后处理装置进行控制；以及第二控制部，其设置于所述第二送出装置，在从所述第一送出装置接收记录介质的所述第二送出装置的情况下，该第二控制部与所述第二后处理装置进行通信，对所述第二送出装置和从所述第二送出装置接收记录介质的所述第二后处理装置进行控制，在多个所述第二送出装置中的接收从所述第二送出装置送出的记录介质的其他所述第二送出装置的情况下，该第二控制部与送出记录介质的所述第二送出装置和所述第二后处理装置进行通信，对多个所述第二送出装置中的所述其他第二送出装置和从多个所述第二送出装置中的所述其他第二送出装置接收记录介质的所述第二后处理装置进行控制。
9、根据本专利技术的第2方案，在基于所述第1方案的所述介质处理系统中，在对记录介质实施后处理的所述第二后处理装置发生不良情况、且所述第一后处理装置能够进行后处理的情况下，所述第一控制部变更输送路径使得记录介质朝向所述第一送出装置，使能够进行后处理的所述第一后处理装置对记录介质进行处理。
10、根据本专利技术的第3方案，在基于所述第2方案的所述介质处理系统中，在所述第一后处理装置的后处理能够进行与发生了不良情况的所述第二后处理装置同样的后处理的情况下，所述第一控制部使得对记录介质进行同样的后处理。
11、根据本专利技术的第4方案，在基于所述第2方案的所述介质处理系统中，所述前处理装置具备对所述前处理装置进行控制的前处理控制部，在所述第一后处理装置的后处理与发生了不良情况的所述第二后处理装置的后处理不同的情况下，所述前处理控制部使所述前处理装置送出由所述第一后处理装置进行后处理的记录介质。
12、根据本专利技术的第5方案，在基于所述第4方案的所述介质处理系统中，在所述第二后处理装置的不良情况已消除的情况下，所述第一控制部使所述第一后处理装置对记录介质进行后处理，直到所述第一后处理装置对记录介质的后处理全部结束为止。
13、根据本专利技术的第6方案，在基于所述第1方案的所述介质处理系统中，在对记录介质实施后处理的所述第一后处理装置发生不良情况、且所述第二后处理装置能够进行后处理的情况下，所述第一控制部变更输送路径使得记录介质朝向所述第二后处理装置，使能够进行后处理的所述第二后处理装置对记录介质进行处理。
14、根据本专利技术的第7方案，在基于所述第6方案的所述介质处理系统中，在所述第二后处理装置的后处理能够进行与发生了不良情况的所述第一后处理装置的后处理同样的后处理的情况下，所述第一控制部使得对记录介质进行同样的后处理。
15、根据本专利技术的第8方案，在基于所述第6方案的所述介质处理系统中，所述前处理装置具备对所述前处理装置进行控制的前处理控制部，在所述第二后处理装置的后处理与发生了不良情况的所述第一后处理装置的后处理不同的情况下，所述前处理控制部使所述前处理装置送出由所述第二后处理装置进行后处理的记录介质。
16、根据本专利技术的第9方案，在基于所述第8方案的所述介质处理系统中，在所述第一后处理装置的不良情况已消除的情况下，所述第一控制部使所述第二后处理装置对记录介质进行后处理，直到所述第二后处理装置对记录介质的后处理全部结束为止。
17、根据本专利技术的第10方案，在基于所述第1方案的所述介质处理系统中，设置有多个所述第二送出装置，在对记录介质实施后处理的所述第二后处理装置发生不良情况、其他所述第二后处理装置能够进行后处理的情况下，所述第一控制部变更输送路径使得记录介质朝向其他所述第二后处理装置，使能够进行后处理的其他所述第二后处理装置对记录介质进行处理。
18、根据本专利技术的第11方案，在基于所述第10方案的所述介质处理系统中，在其他所述第二后处理装置的后处理能够进行与发生了不良情况的所述第二后处理装置的后处理同样的后处理的情况下，所述第一控制部使得对记录介质进行同样的后处理。
19、根据本专利技术的第12方案，在基于所述第10方案的所述介质处理系统中，所述前处理装置具备对所述前处理装置进行控制的前处理控制部，在其他所述第二后处理装置的后处理与发生了不良情况的所述第二后处理装置的后处理不同的情况下，所述前处理控制部使所述前处理装置送出由其他所述第二后处理装置进行后处理的记录介质。
20、根据本专利技术的第13方案，在基于所述第12方案的所述介质处理系统中，在所述第二后处理装置的不良情况已消除的情况下，所述第一控制部使其他所述第二后处理装置对记录介质进行后处理，直到其他所述第二后处理装置对记录介质的后处理全部结束为止。
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1.一种介质处理系统，其具备：
2.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
3.根据权利要求2所述的介质处理系统，其中，
4.根据权利要求2所述的介质处理系统，其中，
5.根据权利要求4所述的介质处理系统，其中，
6.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
7.根据权利要求6所述的介质处理系统，其中，
8.根据权利要求6所述的介质处理系统，其中，
9.根据权利要求8所述的介质处理系统，其中，
10.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
11.根据权利要求10所述的介质处理系统，其中，
12.根据权利要求10所述的介质处理系统，其中，
13.根据权利要求12所述的介质处理系统，其中，
14.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
15.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
16.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
17.一种介质处理系统，其具备：
18.根据权利
19.根据权利要求18所述的介质处理系统，其中，
20.根据权利要求17所述的介质处理系统，其中，
21.根据权利要求20所述的介质处理系统，其中，
22.一种介质处理系统，其具备：
...【技术特征摘要】
1.一种介质处理系统，其具备：
2.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
3.根据权利要求2所述的介质处理系统，其中，
4.根据权利要求2所述的介质处理系统，其中，
5.根据权利要求4所述的介质处理系统，其中，
6.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
7.根据权利要求6所述的介质处理系统，其中，
8.根据权利要求6所述的介质处理系统，其中，
9.根据权利要求8所述的介质处理系统，其中，
10.根据权利要求1所述的介质处理系统，其中，
11.根据权利要求10所述的介质处理系统，其中，
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【专利技术属性】
技术研发人员：梁川祯介，栗田知一，土井雷太，田中胜己，
申请(专利权)人：富士胶片商业创新有限公司，
类型：发明
国别省市：
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