【技术实现步骤摘要】
本技术涉及废气处理装置,特别是冷却腔及其废气处理装置。
技术介绍
1、在半导体行业中,如太阳能面板、晶圆、液晶平板等厂家生产过程中会产生有毒有害的废气,主要以单硅烷(sih4)、氯气(cl2)、pfc(全氟化合物(perfluorocompounds))等为主;为了防止有害物质对于环境的污染,对废气排放前,需要在先对工程废气进行净化处理;在处理含有上述气体的废气时,通常使用吸附法、加热分解法、水洗法和燃烧法等一种或者数种相结合的方式进行处理。
2、现有的废气处理装置是将废气通过反应腔,通过等离子枪对反应腔中的气体进行燃烧分解,分解过后的气体进入冷却腔进行冷却,排入至水箱,最后从排气口将完成净化的废气排出;
3、现有气体在经过冷却腔时存在如下问题:
4、1、冷却腔中注入的气体中有sih4组分,和氧气反应后有sio2粉末,遇水汽后结成硅粉块,容易堵塞管道;以前的冷却腔是直筒,缺点是管道堵塞,需要经常清理,堵塞严重的话会报警不能正常工作;
5、2、以前的冷却腔是直筒,缺点是燃烧的混合气体由上而下
...【技术保护点】
1.冷却腔,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的冷却腔,其特征在于,所述挡板为半圆结构;
3.根据权利要求1所述的冷却腔,其特征在于,位于所述内套筒的水平截面,多个所述挡板配合覆盖所述内套筒的内孔。
4.废气处理装置,其包括权利要求1-3任意一项所述的废气处理装置,其特征在于,
【技术特征摘要】
1.冷却腔,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的冷却腔,其特征在于,所述挡板为半圆结构;
3.根据权利要求1所述的冷却腔,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:林湛,
申请(专利权)人:江苏瓦良格环保设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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