【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于高纯石英玻璃的制造领域，涉及一种高纯石英玻璃的制备方法。
技术介绍
0、技术背景
1、石英玻璃是由二氧化硅(sio2)单一组分构成的特种工业技术玻璃，其具有高的深紫外透过率、高的光学均匀性和优异的耐辐照性能。化学气相沉积法（cvd）制备高纯石英玻璃是利用含硅化合物（例如四氯化硅，四氟化硅等）在高温下氧化形成sio2超纯颗粒沉积在石英玻璃样品台上熔融形成的。传统加热源采用氢氧燃烧产生高温，然而氢氧焰不可避免的会引入羟基，影响所制备高纯石英玻璃的性能。
2、等离子体化学气相沉积法（pcvd）生产的高纯石英玻璃不含羟基，是一种优质石英玻璃，但现有的pcvd装置（主要包括：等离子体焰发生系统、原料供应系统、沉积系统、传动系统、在线监测系统、尾气处理系统）依然存在工艺参数调控复杂，沉积欠均匀，沉积面积受限等问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了解决现有pcvd装置进气系统存在的沉积欠均匀、沉积面积受限的问题，提供一种高纯石英玻璃的制备方法。本专利技术通过控制反应气对称进入，从而制得无羟基的均匀的高纯石英玻璃。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：
3、一种高纯石英玻璃的制备方法，其特征在于：包括原料供应系统、进气系统、等离子体焰发生系统、沉积系统、传动系统、在线监测系统、尾气处理系统，其特征在于：新增一组进气系统，且新增的一组进气系统和原进气系统对称分布；
4、包括如下步骤：
5、
6、（2）等离子气源经过等离子体发生器后产生等离子焰，加热基底，同时反应气体从对称方向以相同流速0.5～10m/s及0～180°的夹角同时喷入等离子焰，在高温1300～2000℃下发生反应生成氧化硅颗粒，对称的进气方式形成均匀分布的气体流动场，使得反应位点更加均匀，形成的氧化硅颗粒于基底熔融沉积，形成高纯石英玻璃。
7、进一步，所述进气系统中反应炉外部分采用管道加热的方式。
8、本专利技术的优点：
9、（1）通过对反应炉外加热方式的改进（管道加热），精简反应源、等离子起源的传输路径及流量控制系统，使得反应及气体源控制更加精确、高效，避免复杂系统带来的额外流程控制难度及能耗损失；
10、（2）采用双路对称反应源进气方式，使得离子焰、反应源气流呈规律的对称状态，对称的反应喷射气流有利于反应炉内温度分布的保持、等离子焰流体形态的保持，使得反应点分布更加规律，形成均匀的稳态等离子及反应流体，有利于玻璃的大面积均匀沉积；
11、（3）采用改进后的pcvd装置制备高纯石英玻璃，由于反应点位的均匀性更好，能够实现石英玻璃基底的快速、均匀、大面积沉积。
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1.一种高纯石英玻璃的制备方法，包括原料供应系统、进气系统、等离子体焰发生系统、沉积系统、传动系统、在线监测系统、尾气处理系统，其特征在于：新增一组进气系统，且新增的一组进气系统和原进气系统对称分布；
2.根据权利要求1所述一种高纯石英玻璃的制备方法，其特征在于：所述进气系统中反应炉外部分采用管道加热的方式。
【技术特征摘要】
1.一种高纯石英玻璃的制备方法，包括原料供应系统、进气系统、等离子体焰发生系统、沉积系统、传动系统、在线监测系统、尾气处理系统，其特征在于：新增一组进气系统，且新...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭寿，汤永康，苏文静，李刚，王金磊，王东，甘治平，
申请(专利权)人：中建材玻璃新材料研究院集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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