System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 真空磁控溅射镀辊设备制造技术_技高网

真空磁控溅射镀辊设备制造技术

技术编号:40609567 阅读:3 留言:0更新日期:2024-03-12 22:17
本申请公开了真空磁控溅射镀辊设备,属于真空磁控溅射领域,其包括支撑架以及收纳箱,所述支撑架上设置有真空设备以及真空箱,所述支撑架上滑动设置有封闭门,所述封闭门上固定连接有工作架,所述真空箱内设置有用于与所述工作架滑移配合的滑轨,所述工作架上设置有用于支撑辊体的滑动座,所述工作架上转动安装有靶材,所述靶材穿过所述封闭门,所述封闭门上设置有第一驱动组件,所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上设置有第二驱动组件,所述工作架上设置有第三驱动组件,所述支撑架与所述封闭门之间设置有辅助组件。本申请具有方便操作人员装卸靶材以及滚筒,提高靶材利用率,降低靶材打弧情况的效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及真空磁控溅射的领域,尤其是涉及真空磁控溅射镀辊设备


技术介绍

1、目前碳纤维辊筒进行表面金属化主要有物理方法和化学方法两大类,物理方法包括溅射法、离子镀膜法、金属粉末喷涂和金属涂敷等,化学法主要采用化学镀和电镀。碳纤维与金属液的湿润性差,妨碍了碳纤维与金属的直接复合;碳纤维在高温下易与金属发生化学反应,降低复合材料的性能。真空磁控溅射法是通过直流或高频电场使惰性气体发生电离,产生等离子体,离子在电场中加速后具有一定的动能,将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极,并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法称为磁控溅射镀膜。磁控溅射作为一种应用广泛的真空镀膜技术,被普遍和成功地应用于许多方面,如材料表面处理、微电子、光学薄膜等。

2、针对上述相关技术,专利技术人认为现有技术中的真空磁控溅射镀辊设备,不方便装卸靶材以及辊筒,同时溅射时靶掉渣,容易产生打弧,打弧又会造成更多掉渣和大颗粒的形成,靶材利用率较低。


技术实现思路

1、为了方便操作人员装卸靶材以及滚筒,提高靶材利用率,降低靶材打弧情况,本申请提供真空磁控溅射镀辊设备。

2、本申请提供的真空磁控溅射镀辊设备采用如下的技术方案:

3、真空磁控溅射镀辊设备,包括支撑架以及收纳箱,所述支撑架上设置有真空设备以及真空箱,所述支撑架上滑动设置有封闭门,所述封闭门上固定连接有工作架,所述真空箱内设置有用于与所述工作架滑移配合的滑轨,所述工作架上设置有用于支撑辊体的滑动座,所述工作架上转动安装有靶材,所述靶材穿过所述封闭门,所述封闭门上设置有第一驱动组件,所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上设置有第二驱动组件,所述工作架上设置有第三驱动组件,所述支撑架与所述封闭门之间设置有辅助组件,所述第一驱动组件用于驱动所述封闭门移动,所述第一驱动组件驱动所述封闭门关闭时,所述第二驱动组件驱动所述靶材转动对辊体进行磁控溅射,所述第一驱动组件驱动所述封闭门开启后,所述第三驱动组件驱动所述滑动座移动并对辊体进行释放或者重新夹持未镀膜的辊体,所述辅助组件帮助已镀膜辊筒进入所述收纳箱内,所述第一驱动组件、所述第二驱动组件、所述第三驱动组件以及所述辅助组件相互独立。

4、通过采用上述技术方案,在进行真空磁控溅射镀膜工作时,第一驱动组件驱动封闭门移动,封闭门打开后,操作人员可以将需要镀膜的辊体放置在工作架上,第三驱动组件驱动滑动座移动将辊体夹持,然后第一驱动组件再次驱动封闭门关闭,真空设备将真空箱内抽取真空,直至该真空腔体的本底真空度为0.001pa-0.01pa,保证其极限真空度大于等于 0.0005pa,然后真空设备向真空箱内通入惰性气体如氩气(ar),真空设备调整真空箱内的真空度至0.1pa-1pa,利用直流磁控溅靶材对辊体上进行沉积,同时第二驱动组件驱动靶材转动,完成辊体的镀膜需求,镀膜完成后,真空设备将惰性气体从真空箱内抽离,真空设备并向真空箱内通入空气,保持真空箱内部与外界环境的气压保持一致,第一驱动组件打开封闭门,第三驱动组件驱动滑动座移动使得滑动座停止对辊体的夹持,然后辅助组件帮助辊体进入到收纳箱内;磁控溅射工作模块采用拖拽方式与腔体分离结构,为此可以减小真空腔体积和更方便快捷装卸靶材与辊体;采用可调节辊筒安装架结构,针对直径、长度不同的辊筒,可以调整安滑动座间距,做到镀膜工作时常用靶基距范围内任意调整;采用旋转圆柱磁控溅射加辅助阳极结构,第二驱动组件带动靶材不断旋转,由于旋转靶材每一时刻靶材面溅射位置不同,靶材的冷却较充分,故靶材面能够承受更大功率的溅射,同时通过靶材旋转机制提高了靶材利用率;溅射时靶掉渣,容易产生打弧,打弧又会造成更多掉渣和大颗粒的形成,此设备结构采用靶材向上溅射方式生产,保证镀膜工艺的长期稳定性。

5、优选的,所述第一驱动组件包括第一齿条以及驱动轮,所述封闭门上穿设有第一驱动轴,所述驱动轮固定套设于所述第一驱动轴上,所述第一齿条设置于所述支撑架上且与所述驱动轮相互啮合,所述封闭门上固定连接有第一电机,所述第一电机输出端与所述第一驱动轴固定连接。

6、通过采用上述技术方案,需要封闭门进行移动时,第一电机启动,第一电机驱动第一驱动轴转动,第一驱动轴转动使得驱动轮转动,驱动轮转动并与第一齿条配合使得封闭门移动。

7、优选的,所述第二驱动组件包括第二电机以及皮带轮,所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上固定连接有支撑座,所述靶材穿过所述封闭门的端部穿入所述支撑座内,所述支撑座与所述靶材转动连接,所述第二电机固定连接于所述支撑座上,所述支撑座内穿设有第二驱动轴,所述第二驱动轴与所述支撑座转动连接,所述第二驱动轴穿入所述支撑座内且与所述靶材固定连接,所述第二电机输出端以及所述第二驱动轴上均固定套设有所述皮带轮,所述第二电机上的所述皮带轮与所述第二驱动轴上的所述皮带轮通过传动皮带连接,所述皮带轮以及所述传动皮带用于带动所述靶材转动。

8、通过采用上述技术方案,在进行磁控溅射镀膜时,第二电机驱动其输出端的皮带轮转动,第二电机上的皮带轮通过传动皮带使得第二驱动轴转动,第二驱动轴转动使得靶材转动,靶材不断旋转,由于旋转靶材每一时刻靶材面溅射位置不同,靶材的冷却较充分,故靶材面能够承受更大功率的溅射,同时通过靶材旋转机制提高了靶材利用率。

9、优选的,第三驱动组件包括支撑杆以及第一丝杆,所述支撑杆固定连接于所述工作架上,所述滑动座滑动套设于所述支撑杆上,所述第一丝杆穿设于所述工作架上,所述第一丝杆与所述工作架转动连接,所述第一丝杆穿过所述滑动座并穿出所述封闭门,所述第一丝杆与所述滑动座螺纹配合,所述第一丝杆与所述封闭门转动连接,所述封闭门上固定连接有第三电机,所述第一丝杆贯穿所述封闭门并与所述第三电机输出端固定连接。

10、通过采用上述技术方案,在需要对不同长度的辊体进行夹持时,第三电机启动,第三电机驱动第一丝杆转动,第一丝杆转动使得滑动座沿支撑杆方向移动,第一丝杆上的两个滑动座同时移动调整其之间的距离与辊体适配。

11、优选的,所述辅助组件包括第一缓冲板以及第一导向板,所述第一缓冲板滑动设置于所述封闭门靠近所述工作架的侧壁上,所述封闭门上开设有用于与所述第一缓冲板滑移配合的滑槽,所述第一缓冲板上铰接有第一释放板,所述第一释放板与所述第一缓冲板连接处设置有扭簧,所述工作架底部铰接有第二释放板,所述第二释放板与所述工作架连接处设置有扭簧,所述第一导向板设置于工作架底部,所述支撑架上设置有第二导向板,所述第二导向板与所述收纳箱相连通,所述第一导向板与所述第二导向板铰接,所述封闭门上设置有用于控制所述第一缓冲板移动的第一控制组件,所述支撑架上设置有用于控制所述第一导向板移动的第二控制组件。

12、通过采用上述技术方案,在辊体镀膜完成后,第一驱动组件驱动封闭门开启,在封闭门开启过程中,第一控制组件控制第一缓冲板移动至滑动座底部,同时第二控制组件控制第一导向板向工作架移动,然后第三电机启动,第三电机驱动第一丝杆转动使得滑动本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.真空磁控溅射镀辊设备,包括支撑架(1)以及收纳箱(11),所述支撑架(1)上设置有真空设备(2)以及真空箱(12),所述支撑架(1)上滑动设置有封闭门(13),其特征在于:所述封闭门(13)上固定连接有工作架(14),所述真空箱(12)内设置有用于与所述工作架(14)滑移配合的滑轨,所述工作架(14)上设置有用于支撑辊体的滑动座(15),所述工作架(14)上转动安装有靶材(3),所述靶材(3)穿过所述封闭门(13),所述封闭门(13)上设置有第一驱动组件(4),所述封闭门(13)远离所述真空箱(12)的侧壁上设置有第二驱动组件,所述工作架(14)上设置有第三驱动组件(6),所述支撑架(1)与所述封闭门(13)之间设置有辅助组件(5),所述第一驱动组件(4)用于驱动所述封闭门(13)移动,所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)关闭时,所述第二驱动组件驱动所述靶材(3)转动对辊体进行磁控溅射,所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)开启后,所述第三驱动组件(6)驱动所述滑动座(15)移动并对辊体进行释放或者重新夹持未镀膜的辊体,所述辅助组件(5)帮助已镀膜辊筒进入所述收纳箱(11)内,所述第一驱动组件(4)、所述第二驱动组件、所述第三驱动组件(6)以及所述辅助组件(5)相互独立。

2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:所述第一驱动组件(4)包括第一齿条(41)以及驱动轮(42),所述封闭门(13)上穿设有第一驱动轴(43),所述驱动轮(42)固定套设于所述第一驱动轴(43)上,所述第一齿条(41)设置于所述支撑架(1)上且与所述驱动轮(42)相互啮合,所述封闭门(13)上固定连接有第一电机(16),所述第一电机(16)输出端与所述第一驱动轴(43)固定连接。

3.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:所述第二驱动组件包括第二电机(17)以及皮带轮(44),所述封闭门(13)远离所述真空箱(12)的侧壁上固定连接有支撑座(45),所述靶材(3)穿过所述封闭门(13)的端部穿入所述支撑座(45)内,所述支撑座(45)与所述靶材(3)转动连接,所述第二电机(17)固定连接于所述支撑座(45)上,所述支撑座(45)内穿设有第二驱动轴(46),所述第二驱动轴(46)与所述支撑座(45)转动连接,所述第二驱动轴(46)穿入所述支撑座(45)内且与所述靶材(3)固定连接,所述第二电机(17)输出端以及所述第二驱动轴(46)上均固定套设有所述皮带轮(44),所述第二电机(17)上的所述皮带轮(44)与所述第二驱动轴(46)上的所述皮带轮(44)通过传动皮带连接,所述皮带轮(44)以及所述传动皮带用于带动所述靶材(3)转动。

4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:第三驱动组件(6)包括支撑杆(47)以及第一丝杆(48),所述支撑杆(47)固定连接于所述工作架(14)上,所述滑动座(15)滑动套设于所述支撑杆(47)上,所述第一丝杆(48)穿设于所述工作架(14)上,所述第一丝杆(48)与所述工作架(14)转动连接,所述第一丝杆(48)穿过所述滑动座(15)并穿出所述封闭门(13),所述第一丝杆(48)与所述滑动座(15)螺纹配合,所述第一丝杆(48)与所述封闭门(13)转动连接,所述封闭门(13)上固定连接有第三电机(18),所述第一丝杆(48)贯穿所述封闭门(13)并与所述第三电机(18)输出端固定连接。

5.根据权利要求2所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:所述辅助组件(5)包括第一缓冲板(51)以及第一导向板(52),所述第一缓冲板(51)滑动设置于所述封闭门(13)靠近所述工作架(14)的侧壁上,所述封闭门(13)上开设有用于与所述第一缓冲板(51)滑移配合的滑槽(511),所述第一缓冲板(51)上铰接有第一释放板(53),所述第一释放板(53)与所述第一缓冲板(51)连接处设置有扭簧,所述工作架(14)底部铰接有第二释放板(54),所述第二释放板(54)与所述工作架(14)连接处设置有扭簧,所述第一导向板(52)设置于工作架(14)底部,所述支撑架(1)上设置有第二导向板(55),所述第二导向板(55)与所述收纳箱(11)相连通,所述第一导向板(52)与所述第二导向板(55)铰接,所述封闭门(13)上设置有用于控制所述第一缓冲板(51)移动的第一控制组件,所述支撑架(1)上设置有用于控制所述第一导向板(52)移动的第二控制组件。

6.根据权利要求5所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:所述第一控制组件包括连接杆(56)以及第三驱动轴(57),所述封闭门(13)内开设有容纳槽(58),所述滑槽(511...

【技术特征摘要】

1.真空磁控溅射镀辊设备,包括支撑架(1)以及收纳箱(11),所述支撑架(1)上设置有真空设备(2)以及真空箱(12),所述支撑架(1)上滑动设置有封闭门(13),其特征在于:所述封闭门(13)上固定连接有工作架(14),所述真空箱(12)内设置有用于与所述工作架(14)滑移配合的滑轨,所述工作架(14)上设置有用于支撑辊体的滑动座(15),所述工作架(14)上转动安装有靶材(3),所述靶材(3)穿过所述封闭门(13),所述封闭门(13)上设置有第一驱动组件(4),所述封闭门(13)远离所述真空箱(12)的侧壁上设置有第二驱动组件,所述工作架(14)上设置有第三驱动组件(6),所述支撑架(1)与所述封闭门(13)之间设置有辅助组件(5),所述第一驱动组件(4)用于驱动所述封闭门(13)移动,所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)关闭时,所述第二驱动组件驱动所述靶材(3)转动对辊体进行磁控溅射,所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)开启后,所述第三驱动组件(6)驱动所述滑动座(15)移动并对辊体进行释放或者重新夹持未镀膜的辊体,所述辅助组件(5)帮助已镀膜辊筒进入所述收纳箱(11)内,所述第一驱动组件(4)、所述第二驱动组件、所述第三驱动组件(6)以及所述辅助组件(5)相互独立。

2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:所述第一驱动组件(4)包括第一齿条(41)以及驱动轮(42),所述封闭门(13)上穿设有第一驱动轴(43),所述驱动轮(42)固定套设于所述第一驱动轴(43)上,所述第一齿条(41)设置于所述支撑架(1)上且与所述驱动轮(42)相互啮合,所述封闭门(13)上固定连接有第一电机(16),所述第一电机(16)输出端与所述第一驱动轴(43)固定连接。

3.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:所述第二驱动组件包括第二电机(17)以及皮带轮(44),所述封闭门(13)远离所述真空箱(12)的侧壁上固定连接有支撑座(45),所述靶材(3)穿过所述封闭门(13)的端部穿入所述支撑座(45)内,所述支撑座(45)与所述靶材(3)转动连接,所述第二电机(17)固定连接于所述支撑座(45)上,所述支撑座(45)内穿设有第二驱动轴(46),所述第二驱动轴(46)与所述支撑座(45)转动连接,所述第二驱动轴(46)穿入所述支撑座(45)内且与所述靶材(3)固定连接,所述第二电机(17)输出端以及所述第二驱动轴(46)上均固定套设有所述皮带轮(44),所述第二电机(17)上的所述皮带轮(44)与所述第二驱动轴(46)上的所述皮带轮(44)通过传动皮带连接,所述皮带轮(44)以及所述传动皮带用于带动所述靶材(3)转动。

4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备,其特征在于:第三驱动组件(6)包括支撑杆(47)以及第一丝杆(48),所述支撑杆(47)固定连接于所述工作架(14)上,所述滑动座(15)滑动套设于所述支撑杆(47)上,所述第一丝杆(48)穿设于所述工作架(14)上,所述第一丝杆(48)与所述工作架(14)转动连接,所述第一丝杆(48)穿过所述滑动座(15)并穿出所述封闭门(13),所述第一丝杆(48)与所述滑动座(15)螺纹配合,所述第一丝杆(48)与所述封闭门(13)转动连接,所述封闭门(13)上固定连接有第三电机(18),所述第一丝杆(48...

【专利技术属性】
技术研发人员:王勇吴涛
申请(专利权)人:合肥东昇智能装备股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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