【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于玻璃制造，涉及玻璃的蚀刻技术，尤其涉及一种浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置、蚀刻方法及超薄玻璃。
技术介绍
1、近年来，手机终端逐步推出折叠屏手机，其盖板采用超薄玻璃(ultra-thinglass，utg)作为主要材料，具有透光率高、表面平整、硬度高和化学稳定性好等优点。utg的推出从功能性上可代替透明聚酰亚胺(colourless polyimide，cpi)。折叠屏手机盖板的utg要求其厚度为0.03～0.07mm，市场上是无法购买到如此薄的玻璃，需要通过对相对较厚的玻璃进行化学减薄加工制得，并且，对于减薄后的utg厚度均匀性要求极高。
2、目前，普遍采用顶喷蚀刻设备进行玻璃的减薄加工，但顶喷蚀刻制造设备成本高昂，且维护、保养成本较高。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置、蚀刻方法及超薄玻璃，使得玻璃基板表面的蚀刻条件达到统一，有效提高了蚀刻后的玻璃品质，提升其厚度精确度，设备结构简单，保养、维护便利性
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【技术保护点】
1.一种浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置包括蚀刻装置与脱硅反应装置(2)；
2.根据权利要求1所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述脱硅反应装置(2)与所述蚀刻装置之间设置有过滤装置(3)，所述的过滤装置(3)用于过滤脱硅后的蚀刻液；
3.根据权利要求1或2所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括篮具(5)与至少一组夹持衬板(4)；
4.根据权利要求1-3任一项所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述的蚀刻装置还包括循环机构(8)，所述循环机构(8...
【技术特征摘要】
1.一种浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置包括蚀刻装置与脱硅反应装置(2)；
2.根据权利要求1所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述脱硅反应装置(2)与所述蚀刻装置之间设置有过滤装置(3)，所述的过滤装置(3)用于过滤脱硅后的蚀刻液；
3.根据权利要求1或2所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括篮具(5)与至少一组夹持衬板(4)；
4.根据权利要求1-3任一项所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述的蚀刻装置还包括循环机构(8)，所述循环机构(8)用于驱动所述浸泡腔室(1)内的蚀刻液进行自循环；
5.根据权利要求1-4任一项所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置，其特征在于，所述的浸没式超薄玻璃蚀刻系统装置还包括脱膜装置与清洗装置，所述的脱...
【专利技术属性】
技术研发人员：王波，张永强，阳利民，
申请(专利权)人：成都拓米双都光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
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