System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件制造技术_技高网

一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件制造技术

技术编号:40601378 阅读:4 留言:0更新日期:2024-03-12 22:05
本发明专利技术公开了一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,属于二次供水设备技术领域。一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,包括机架主体,还包括:横移模块,滑动连接在机架主体上;升降驱动总成,设置在横移模块上;走线导轨总成,设置在机架主体上,用于控制横移模块移动;下安装板,设置在横移模块的下方;清洗炮主体,设置在下安装板的下方;所述清洗炮主体上开设有活动槽,所述活动槽内转动连接有喷嘴;第一刮块,固定设置在下安装板的底面;第二刮块,固定连接在第一刮块的下方,所述第二刮块的下方固定连接有弧形刮块;本发明专利技术可以将清洗炮主体上的污水清除,防止污水滴落在防护门上,避免防护门锈蚀,进而防止储水箱内的水源受污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及二次供水设备,尤其涉及一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件


技术介绍

1、城市供水用的二次供水设备是一种在市政管网或居民自用供水设备基础上实现二次供水的设备;二次供水设备投资少、占地面积小、灵活方便,适合于各大高层居民用户、城市广场、校区别墅、学校医院等场所,它采用自动运转、节能与自来水自动并网,停电后仍然可以实施供水。

2、二次供水设施是城市供水“最后一公里”,在城市供水中起着非常重要的作用,二次供水设施储水箱的贮水设施不是密闭性的,同时供水过程中增加了水滞留的时间,给水中残留的或外界侵入的微生物的滋生创造了条件,加上自来水中的杂质沉淀,因此需要定期对储水箱进行清洗,通常通过清洗炮对储水箱进行清洗,清洗完成后清洗炮会收缩至储水箱顶部的防护门上方,但是在清洗过程中,污水等一些污染物会溅射在清洗炮上,污染清洗炮,并且当清洗炮收回时,清洗炮上的污水会滴落在防护门上,导致防护门锈蚀。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是为了解决现有技术中问题,而提出的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件。

2、为了实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:

3、包括机架主体,还包括:横移模块,滑动连接在机架主体上;升降驱动总成,设置在横移模块上;走线导轨总成,设置在机架主体上,用于控制横移模块移动;下安装板,设置在横移模块的下方;清洗炮主体,设置在下安装板的下方;所述清洗炮主体上开设有活动槽,所述活动槽内转动连接有喷嘴;第一刮块,固定设置在下安装板的底面;第二刮块,固定连接在第一刮块的下方,所述第二刮块的下方固定连接有弧形刮块;所述第一刮块、第二刮块和弧形刮块均与清洗炮主体相贴合。

4、优选地,所述机架主体的上端设有上横梁,所述机架主体的下端设有下横梁,所述横移模块滑动连接在上横梁的下方。

5、优选地,所述横移模块的下方固定连接有上安装板,所述上安装板上设有活动架,所述活动架的底端与下安装板相连接。

6、进一步地,所述横移模块的底面设有测距传感器,所述测距传感器靠近上安装板,所述下安装板上固定连接有立板,所述立板上设有与测距传感器相配合的接收块。

7、优选地,所述升降驱动总成用于控制清洗炮主体升降。

8、优选地,所述活动架收缩在上安装板和下安装板之间,所述活动架设有三组。

9、优选地,所述上安装板的下方设有水管,所述水管与清洗炮主体相连通。

10、进一步地,所述下安装板的底面固定连接有连接块,所述第一刮块固定连接在连接块的底面。

11、进一步地,所述连接块内开设有输水管道,所述输水管道延伸至弧形刮块内,所述水管与输水管道相连通。

12、进一步地,所述第二刮块和弧形刮块贴合清洗炮主体的一面均开设有喷水孔,所述喷水孔与输水管道相连通。

13、与现有技术相比,本专利技术提供了一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,具备以下有益效果:

14、1、该二次供水设备的清洗炮限位调节组件,通过升降驱动总成和走线导轨总成控制清洗炮主体对储水箱内部进行全面的清洗。

15、2、该二次供水设备的清洗炮限位调节组件,在清洗炮主体旋转时,通过第一刮块、第二刮块、弧形刮块以及三角斜板对清洗炮主体表面进行清理,防止污染物附着在清洗炮主体表面上,避免污水滴落在防护门上,避免防护门锈蚀,进而防止储水箱内的水源受污染。

16、3、该二次供水设备的清洗炮限位调节组件,在清洗炮主体顺时针或逆时针旋转180度时,通过控制喷水孔对活动槽内进行喷水,除去活动槽内的污染物。

17、该二次供水设备的清洗炮限位调节组件中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现,本专利技术可以将清洗炮主体上的污水清除,防止污水滴落在防护门上,避免防护门锈蚀,进而防止储水箱内的水源受污染。

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【技术保护点】

1.一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,包括机架主体(1),其特征在于,还包括:

2.根据权利要求1所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述机架主体(1)的上端设有上横梁(101),所述机架主体(1)的下端设有下横梁(102),所述横移模块(2)滑动连接在上横梁(101)的下方。

3.根据权利要求1所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述横移模块(2)的下方固定连接有上安装板(5),所述上安装板(5)上设有活动架(4),所述活动架(4)的底端与下安装板(6)相连接。

4.根据权利要求3所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述横移模块(2)的底面设有测距传感器(14),所述测距传感器(14)靠近上安装板(5),所述下安装板(6)上固定连接有立板(7),所述立板(7)上设有与测距传感器(14)相配合的接收块(13)。

5.根据权利要求1所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述升降驱动总成(3)用于控制清洗炮主体(8)升降。

6.根据权利要求3所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述活动架(4)收缩在上安装板(5)和下安装板(6)之间,所述活动架(4)设有三组。

7.根据权利要求3所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述上安装板(5)的下方设有水管(15),所述水管(15)与清洗炮主体(8)相连通。

8.根据权利要求7所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述下安装板(6)的底面固定连接有连接块(9),所述第一刮块(10)固定连接在连接块(9)的底面。

9.根据权利要求8所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述连接块(9)内开设有输水管道(18),所述输水管道(18)延伸至弧形刮块(12)内,所述水管(15)与输水管道(18)相连通。

10.根据权利要求9所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述第二刮块(11)和弧形刮块(12)贴合清洗炮主体(8)的一面均开设有喷水孔(17),所述喷水孔(17)与输水管道(18)相连通。

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【技术特征摘要】

1.一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,包括机架主体(1),其特征在于,还包括:

2.根据权利要求1所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述机架主体(1)的上端设有上横梁(101),所述机架主体(1)的下端设有下横梁(102),所述横移模块(2)滑动连接在上横梁(101)的下方。

3.根据权利要求1所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述横移模块(2)的下方固定连接有上安装板(5),所述上安装板(5)上设有活动架(4),所述活动架(4)的底端与下安装板(6)相连接。

4.根据权利要求3所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述横移模块(2)的底面设有测距传感器(14),所述测距传感器(14)靠近上安装板(5),所述下安装板(6)上固定连接有立板(7),所述立板(7)上设有与测距传感器(14)相配合的接收块(13)。

5.根据权利要求1所述的一种二次供水设备的清洗炮限位调节组件,其特征在于,所述升降驱动总成(3)用于控制清洗炮主体(8)升降。

【专利技术属性】
技术研发人员:邓帮武李广宏朱杰高福奎魏金冠陈前宏
申请(专利权)人:安徽舜禹水务股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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