【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ph值测定，尤其涉及氧化铝抛光液ph值测定装置。
技术介绍
1、氧化铝抛光液主要利用三氧化二铝良好的韧性和低廉的价格，在研磨抛光过程中能够保持较低的成本而有高磨削力，同时不易产生划伤。广泛用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨。
2、由于氧化铝抛光液的配比对其抛光效果产生至关重要的作用，不同浓度的抛光液其内部颗粒的浓度存在差别，面对不同磨削精度的需求只要精确控制抛光液的配比，而氧化铝盘抛光液的不同配比下的ph值存在差别，故常将ph值作为抛光液组分配比系数的直观表现，传统在测定氧化铝抛光液ph时，为了提高ph测定精度会采用ph计进行测量，测量人员需要手持ph计利用一端测量溶液的ph值，在测定完成需要将ph计一端进行清洁，避免干扰下一次的ph测量，当面对大批量的氧化铝抛光液ph值的测量，测量人员需要重复测量和清洁，该测定工作繁琐，测量人员由于作业疲劳会导致在相邻测定时未对ph计一端进行清洁，而影响下一抛光液ph值的测定，从而出现测定误差。
3、基于此，提出氧化铝抛光液ph值测定装置。
<...【技术保护点】
1.氧化铝抛光液PH值测定装置，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）一侧连接有背板（2），所述背板（2）上开设有滑槽（4），所述背板（2）上连接有对称滑轨（3）和限位块（5），所述限位块（5）上转动连接有主动轴（8），所述主动轴（8）上连接有小转轮（10）和连接盘（33），所述背板（2）上连接有电机架（16），所述电机架（16）上连接有旋转电机（17），所述旋转电机（17）输出端连接在连接盘（33）上；
2.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液PH值测定装置，其特征在于，所述连接板（21）滑动连接在滑槽（4）上，所述滑槽（4）设置在对称滑轨（3）之间。<...
【技术特征摘要】
1.氧化铝抛光液ph值测定装置，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）一侧连接有背板（2），所述背板（2）上开设有滑槽（4），所述背板（2）上连接有对称滑轨（3）和限位块（5），所述限位块（5）上转动连接有主动轴（8），所述主动轴（8）上连接有小转轮（10）和连接盘（33），所述背板（2）上连接有电机架（16），所述电机架（16）上连接有旋转电机（17），所述旋转电机（17）输出端连接在连接盘（33）上；
2.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液ph值测定装置，其特征在于，所述连接板（21）滑动连接在滑槽（4）上，所述滑槽（4）设置在对称滑轨（3）之间。
3.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液ph值测定装置，其特征在于，所述主动轴（8）上开设有环绕齿槽（35）。
4.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液ph值测定装置，其特征在于，所述清洁盘（23）上开设有开口，多个开口环绕开设在所述清洁盘（23）上。
5.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液ph值测定装置，其特征在于，所述清洁盘（23）上连接有杆状结构，所述清洁布（30）和压盘（15）套设在杆状结构上，所述清洁布...
【专利技术属性】
技术研发人员：李亚云，刘洋，熊友乐，
申请(专利权)人：深圳浩德瑞科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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