等离子体发生装置以及流路监视方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供等离子体发生装置以及流路监视方法。以在能够通过多个等离子体头分别进行等离子体处理的等离子体发生装置中适当地进行等离子体处理为课题。一种等离子体发生装置，具备：主流路，与供给处理气体的供给装置连结；多个分支流路，从主流路分支；等离子体头，从多个分支流路分别被供给处理气体；变更阀，分别配设在多个分支流路上，对在各分支流路中流动的处理气体的流量进行变更；以及压力检测单元，分别配设在多个分支流路上，对在各分支流路中流动的处理气体的压力进行检测。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及使供给的处理气体等离子体化的等离子体发生装置等。

技术介绍

1、下述专利文献中记载了使供给的处理气体等离子体化的技术。

2、在先技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：国际公开第2019/224937号

5、专利文献2：国际公开第2018/185836号

6、专利文献3：日本特表2015-515381号公报

7、专利文献4：日本特开2006-089849号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的课题

2、在使供给的处理气体等离子体化的等离子体发生装置中，在从主流路分支的多个分支流路上分别连结有等离子体头，通过多个等离子体头来分别进行等离子体处理。本说明书以在能够通过多个等离子体头来分别进行等离子体处理的等离子体发生装置中适当地进行等离子体处理为课题。

3、用于解决课题的手段

4、为了解决上述课题，本说明书公开了一种等离子体发生装置等，具备：主流路，与供给处理气体的供给装置连结；多个分支流路，从本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种等离子体发生装置，具备：

2.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其中，

3.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体发生装置，其中，

5.一种流路监视方法，在具备主流路、多个分支流路、等离子体头和变更阀的等离子体发生装置中，检测在所述多个分支流路中分别流动的处理气体的压力，对所述多个分支流路分别进行监视，

【技术特征摘要】

1.一种等离子体发生装置，具备：

2.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其中，

3.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的等...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩田卓也，神藤高广，
申请(专利权)人：株式会社富士，
类型：发明
国别省市：