【技术实现步骤摘要】
本技术涉及单晶硅片加工，具体为一种防止单晶硅片损坏的清洗装置。
技术介绍
1、单晶硅片：硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体，不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料。现有的单晶硅片应用已经十分广泛了，可用于制造半导体器件。在单晶硅片生产时，需要对其表面进行清洗。
2、对此，授权公告号为cn218502904u的中国技术公开了一种单晶硅片清洗装置，该单晶硅片清洗装置，包括：箱体、电机、丝杠；所述箱体为矩形壳体结构，且电机固定安装在箱体顶面的一侧；所述支架固定安装在滑块、丝杠螺母顶面上，且支架下端与主水管固定连接，并且分水管设置在主水管的下方；所述支撑板固定设置在箱体内壁的下部两侧；所述底板放置在支撑板的上方，且固定夹板阵列设置在底板顶面的一侧；所述固定槽开设在底板的两端，且固定螺栓穿过固定槽将活动夹板与底板固定；所述排水口开设在箱体的底部。
3、该单晶硅片清洗装置，可以夹装不同尺寸的单晶硅片，对单晶硅片的清洗更彻底，不留死角的优点，但是该装置的在夹持单晶硅片时，夹具直接与单晶硅片接触，在操作时，夹持过紧容易使单晶硅片受损，不利于工作生产，为此我们提出一种防止单晶硅片损坏的清洗装置用于解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，包括工作台，所述工作台顶面一侧固定连接伺服电缸，所述伺服
3、优选的，所述固定框一侧顶部及底部开设两个卡槽，两个所述卡槽活动连接竖杆，所述竖杆一侧及固定框内壁一侧固定连接两个卡接架二，所述固定框顶部及底部一侧活动连接两个卡接块，两个所述卡接块卡接竖杆。
4、优选的，所述固定架外壁顶面固定连接水箱，所述水箱两侧固定连接两个水泵，两个所述水泵固定并连通两个水管，两个所述水管固定并连通固定架顶部。
5、优选的，所述滑块二螺纹结构套设往复丝杆，所述往复丝杆转动连接滑槽二，所述往复丝杆一端固定连接伺服电机一转轴处，所述伺服电机一固定连接在移动板内部一侧。
6、优选的，两个所述滑块一螺纹结构套设两个丝杆，两个所述丝杆转动连接滑槽一，两个所述丝杆相互靠近一端固定连接连接杆，一个所述丝杆一端固定连接伺服电机二转轴处，所述伺服电机二固定连接在固定架一侧顶部，两个所述丝杆螺纹方向相反。
7、优选的，所述工作台顶面一侧开设废水槽，所述废水槽内部固定连接滤水板，所述废水槽底部固定并连通废水管，所述废水管底端固定并连通废水箱，所述废水箱位于工作台底部。
8、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
9、本技术通过各个部件的配合，在对单晶硅片进行清洗时，单晶硅片安装到固定框内后，卡接架一与阻尼弹簧的配合，防止卡接过紧导致单晶硅片受损，有利于工作生产，且在对单晶硅片清洗时，清洁刷、水箱、水泵及水管的配合，可以将单晶硅片两面清洗，清洗彻底，清洗效率高。
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1.一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)顶面一侧固定连接伺服电缸(2)，所述伺服电缸(2)一侧固定连接推杆(3)，所述推杆(3)一端固定连接固定框(4)底部，所述固定框(4)顶部及底部开设两个方形槽(5)，两个所述方形槽(5)内部顶面及底面固定连接多个阻尼弹簧(6)的一端，多个所述阻尼弹簧(6)的另一端固定连接两个卡接架一(7)，两个所述卡接架一(7)滑动连接两个方形槽(5)；
2.根据权利要求1所述的一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，其特征在于：所述固定框(4)一侧顶部及底部开设两个卡槽(8)，两个所述卡槽(8)活动连接竖杆(9)，所述竖杆(9)一侧及固定框(4)内壁一侧固定连接两个卡接架二(10)，所述固定框(4)顶部及底部一侧活动连接两个卡接块(11)，两个所述卡接块(11)卡接竖杆(9)。
3.根据权利要求1所述的一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，其特征在于：所述固定架(12)外壁顶面固定连接水箱(19)，所述水箱(19)两侧固定连接两个水泵(20)，两个所述水泵(20)固定并连通两个水管(21)，两个所述水管
4.根据权利要求1所述的一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，其特征在于：所述滑块二(17)螺纹结构套设往复丝杆(22)，所述往复丝杆(22)转动连接滑槽二(16)，所述往复丝杆(22)一端固定连接伺服电机一(23)转轴处，所述伺服电机一(23)固定连接在移动板(15)内部一侧。
5.根据权利要求1所述的一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，其特征在于：两个所述滑块一(14)螺纹结构套设两个丝杆(24)，两个所述丝杆(24)转动连接滑槽一(13)，两个所述丝杆(24)相互靠近一端固定连接连接杆(25)，一个所述丝杆(24)一端固定连接伺服电机二(26)转轴处，所述伺服电机二(26)固定连接在固定架(12)一侧顶部，两个所述丝杆(24)螺纹方向相反。
6.根据权利要求1所述的一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，其特征在于：所述工作台(1)顶面一侧开设废水槽(27)，所述废水槽(27)内部固定连接滤水板(28)，所述废水槽(27)底部固定并连通废水管(29)，所述废水管(29)底端固定并连通废水箱(30)，所述废水箱(30)位于工作台(1)底部。
...【技术特征摘要】
1.一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)顶面一侧固定连接伺服电缸(2)，所述伺服电缸(2)一侧固定连接推杆(3)，所述推杆(3)一端固定连接固定框(4)底部，所述固定框(4)顶部及底部开设两个方形槽(5)，两个所述方形槽(5)内部顶面及底面固定连接多个阻尼弹簧(6)的一端，多个所述阻尼弹簧(6)的另一端固定连接两个卡接架一(7)，两个所述卡接架一(7)滑动连接两个方形槽(5)；
2.根据权利要求1所述的一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，其特征在于：所述固定框(4)一侧顶部及底部开设两个卡槽(8)，两个所述卡槽(8)活动连接竖杆(9)，所述竖杆(9)一侧及固定框(4)内壁一侧固定连接两个卡接架二(10)，所述固定框(4)顶部及底部一侧活动连接两个卡接块(11)，两个所述卡接块(11)卡接竖杆(9)。
3.根据权利要求1所述的一种防止单晶硅片损坏的清洗装置，其特征在于：所述固定架(12)外壁顶面固定连接水箱(19)，所述水箱(19)两侧固定连接两个水泵(20)，两个所述水泵(20)固定并连通两个水管(21)，两个所述水管(21)固定...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄贤强，
申请(专利权)人：嘉兴光宇新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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