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掩模台制造技术

技术编号:40580075 阅读:13 留言:0更新日期:2024-03-06 17:22
公开了一种掩模台,所述掩模台包括:台,相对于竖直方向倾斜,竖直方向垂直于由彼此相交的第一方向和第二方向限定的平面;多个第一支撑单元,设置在台与设置在台上方的掩模框架之间,以及多个第二支撑单元,设置在台上,并且与掩模框架的下侧相邻。掩模框架的下侧在第一方向上延伸,并且第二支撑单元分别设置在掩模框架的下侧的在第一方向上彼此相对的端部下方。

【技术实现步骤摘要】

实施例涉及掩模台和包括该掩模台的掩模制造设备。


技术介绍

1、近年来,有机发光二极管显示器(oled)由于其优异的亮度和宽视角而成为作为下一代显示装置的焦点。当与液晶显示器相比时,由于有机发光二极管显示器不包括单独的光源,因此有机发光二极管显示器被制造成具有薄的厚度和轻的重量。例如,有机发光二极管显示器具有诸如低功耗、高亮度、快响应速度等的性质。

2、有机发光二极管显示器包括包含阳极、发光层和阴极的多个发光元件。空穴和电子通过阳极和阴极注入到发光层中,并且在发光层中复合以生成激子。发光元件在激子的激发态返回到基态的情况下发射光。在制造发光元件的情况下,在基底上设置掩模,并且通过穿过掩模的开口在基底上提供用于形成发光层的有机材料。

3、掩模包括由于框架开口穿过其而具有框架形状的掩模框架和设置在掩模框架上的多个条形掩模。通过条形掩模形成开口,使得有机材料传输通过开口。在制造掩模的情况下,掩模框架由支撑结构支撑,并且条形掩模连接到掩模框架。需要容易地支撑掩模框架的支撑结构。


技术实现思路

1、实施例提供了一种能够容易地支撑掩模框架的掩模台。

2、实施例提供了一种包括掩模台的掩模制造设备。

3、然而,公开的实施例不限于在这里阐述的那些实施例。通过参照下面给出的公开的详细描述,上述和其他实施例对于公开所属领域的普通技术人员而言将变得更加明显。

4、在实施例中,掩模台可以包括:台,相对于竖直方向倾斜,竖直方向垂直于由彼此相交的第一方向和第二方向限定的平面;多个第一支撑单元,设置在台与设置在台上方的掩模框架之间;以及多个第二支撑单元,设置在台上,并且与掩模框架的下侧相邻。掩模框架的下侧可以在第一方向上延伸,并且多个第二支撑单元可以分别设置在掩模框架的下侧的在第一方向上彼此相对的端部上。

5、当在朝向台的方向上观看时,掩模框架可以具有框架形状,并且多个第一支撑单元可以与掩模框架的拐角部分叠置。

6、当在朝向台的方向上观看时,多个第一支撑单元可以与掩模框架的拐角部分的边缘部分间隔开,并且设置在掩模框架的拐角部分中。

7、当在朝向台的方向上观看时,除了掩模框架的拐角部分之外,多个第一支撑单元可以不与掩模框架叠置。

8、掩模框架可以包括:第一延伸部分,在第一方向上彼此平行地延伸;以及第二延伸部分,从第一延伸部分弯曲,在与第一方向相交的竖直方向上彼此平行地延伸,第一延伸部分和第二延伸部分可以一起形成四边形框架形状,并且掩模框架的拐角部分可以被限定为第一延伸部分与第二延伸部分之间的成角度部分。

9、当在朝向台的方向上观看时,多个第一支撑单元具有四边形形状。

10、多个第一支撑单元可以包括边,并且多个第一支撑单元的边中的每个可以具有比多个第一延伸部分和多个第二延伸部分中的每个的宽度小的长度。

11、第一延伸部分和第二延伸部分中的每个的宽度可以为约180mm,并且多个第一支撑单元的边中的每个的长度可以为约100mm。

12、台可以相对于竖直方向以从约4度至约6度的角度倾斜。

13、多个第一支撑单元中的每个可以包括穿过其的第一气孔。

14、台的分别与多个第一支撑单元叠置的部分可以包括第二气孔,第二气孔穿过台的所述部分并且与第一气孔叠置。

15、空气可以通过第一气孔和第二气孔喷射到掩模框架。

16、掩模台还可以包括:涂覆层,涂覆在多个第一支撑单元和多个第二支撑单元中的每个的表面上。

17、涂覆层可以是类金刚石碳涂覆层、硅涂覆层或氟涂覆层。

18、多个第一支撑单元和多个第二支撑单元可以包括钢材料。

19、多个第一支撑单元中的每个可以包括:四条线段,与四边形形状对应;以及拐角部分,连接四条线段,并且当在朝向台的方向上观看时,拐角部分中的每个可以具有倒圆形状。

20、当在朝向台的方向上观看时,多个第一支撑单元中的每个可以具有圆形形状。

21、在实施例中,掩模台可以包括:台,相对于竖直方向倾斜,竖直方向垂直于由彼此相交的第一方向和第二方向限定的平面;多个第一支撑单元,设置在台与设置在台上方的掩模框架之间;以及多个第二支撑单元,与掩模框架的下侧相邻。当在朝向台的方向上观看时,掩模框架可以具有框架形状,多个第一支撑单元可以与掩模框架的拐角部分叠置,并且当在朝向台的方向上观看时,除了掩模框架的拐角部分之外,多个第一支撑单元可以不与掩模框架叠置。

22、掩模框架的下侧可以在一方向上延伸,并且多个第二支撑单元可以分别与掩模框架的下侧的在该方向上彼此相对的端部相邻。

23、在实施例中,掩模制造设备可以包括:第一支撑件,包括由第一方向和与第一方向相交的第二方向限定的平面;第二支撑件,设置在第一支撑件上,并且相对于垂直于该平面的第三方向倾斜;台,设置在第二支撑件的前表面上,并且相对于第三方向倾斜;多个第一支撑单元,设置在台与设置在台上方的掩模框架之间;以及多个第二支撑单元,与掩模框架的下侧相邻。掩模框架的下侧在一方向上延伸,并且多个第二支撑单元分别设置在掩模框架的下侧的在该方向上彼此相对的端部下方。

24、根据以上所述,不管掩模框架的平坦度如何,掩模台都支撑掩模框架,并且掩模台减小掩模框架与支撑单元之间的摩擦力。因此,掩模容易被制造。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩模台,所述掩模台包括:

2.根据权利要求1所述的掩模台,其中,

3.根据权利要求2所述的掩模台,其中,当在朝向所述台的所述方向上观看时,所述多个第一支撑单元与所述掩模框架的所述拐角部分的边缘部分间隔开,并且设置在所述掩模框架的所述拐角部分中。

4.根据权利要求2所述的掩模台,其中,当在朝向所述台的所述方向上观看时,除了所述掩模框架的所述拐角部分之外,所述多个第一支撑单元不与所述掩模框架叠置。

5.根据权利要求2所述的掩模台,其中,

6.根据权利要求5所述的掩模台,其中,当在朝向所述台的所述方向上观看时,所述多个第一支撑单元具有四边形形状。

7.根据权利要求6所述的掩模台,其中,

8.根据权利要求7所述的掩模台,其中,

9.根据权利要求1所述的掩模台,其中,所述台相对于所述竖直方向以从4度至6度的角度倾斜。

10.根据权利要求1所述的掩模台,其中,所述多个第一支撑单元中的每个包括穿过其的第一气孔。

11.根据权利要求10所述的掩模台,其中,所述台的分别与所述多个第一支撑单元叠置的部分包括第二气孔,所述第二气孔穿过所述台的所述部分并且与所述第一气孔叠置。

12.根据权利要求11所述的掩模台,其中,空气通过所述第一气孔和所述第二气孔喷射到所述掩模框架。

13.根据权利要求1所述的掩模台,所述掩模台还包括:

14.根据权利要求13所述的掩模台,其中,所述涂覆层是类金刚石碳涂覆层、硅涂覆层或氟涂覆层。

15.根据权利要求1所述的掩模台,其中,所述多个第一支撑单元和所述多个第二支撑单元包括钢材料。

16.根据权利要求1所述的掩模台,其中,

17.根据权利要求1所述的掩模台,其中,当在朝向所述台的方向上观看时,所述多个第一支撑单元中的每个具有圆形形状。

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【技术特征摘要】

1.一种掩模台,所述掩模台包括:

2.根据权利要求1所述的掩模台,其中,

3.根据权利要求2所述的掩模台,其中,当在朝向所述台的所述方向上观看时,所述多个第一支撑单元与所述掩模框架的所述拐角部分的边缘部分间隔开,并且设置在所述掩模框架的所述拐角部分中。

4.根据权利要求2所述的掩模台,其中,当在朝向所述台的所述方向上观看时,除了所述掩模框架的所述拐角部分之外,所述多个第一支撑单元不与所述掩模框架叠置。

5.根据权利要求2所述的掩模台,其中,

6.根据权利要求5所述的掩模台,其中,当在朝向所述台的所述方向上观看时,所述多个第一支撑单元具有四边形形状。

7.根据权利要求6所述的掩模台,其中,

8.根据权利要求7所述的掩模台,其中,

9.根据权利要求1所述的掩模台,其中,所述台相对于所述竖直方向以从4度至6度的角度倾斜。

【专利技术属性】
技术研发人员:洪京浩金明圭朴成晧朴庄坤兪硕范李东载
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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