【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光栅硅胶膜，尤其是涉及一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜及其制备工艺。
技术介绍
1、光栅软胶膜具有动态立体视觉效果，提高了商品图像创意，还具有一定的防伪功能，因此应用领域十分广泛，主要用于服装、箱包、鞋帽、饰品等产品logo或外包装饰。
2、如公开(公告)为cn106904013b的中国专利文件公开了一种3d光栅软胶印刷工艺，包括如下步骤：在铜版纸上印刷热转印离型油层；在热转印离型油层上丝印第一白墨涂层；在第一白墨涂层上胶印印刷多角度动感图案/图纹；在多角度动感图案/图纹上覆上软胶膜；把前一步得的半成品进行热压，使软胶膜上形成光栅纹，多角度动感图案/图纹表现3d立体效果；把铜版纸剥离，再丝印第二白墨涂层，根据规格裁切即得成品。
3、上述工艺虽然可以实现光栅软胶印刷制品，具体是先进行胶印印刷形成图案/图纹，然后直接在图案/图纹上覆上软胶膜，最后进行光栅纹热压工艺。由于光栅纹热压温度高达125度以上，而油墨的烘干温度只有40度左右，因此，在光栅纹热压过程中，图案/图纹在高温环境下容易被破坏。另外，由于软胶膜具有弹性大、强度低的特点，因此，在光栅纹热压过程中易收缩变形，从而影响成品质量。
4、因此，如何提供一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜及其制备工艺，使光栅硅胶膜的图文在生产过程中不会被破坏，具有清晰的图文呈现，还可以随角度变化而改变色彩或图文图案，而且进一步的提升舒适度，增强水洗的牢度，是需要解决的技术问题。
技术实现思路
1、
2、本专利技术提供一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，包括如下步骤：
3、s1，在pet基材上涂布uv材料，使用预制光栅辊筒进行热压工艺处理，同时使用uv光对uv材料进行固化，从而形成预定光栅纹路；
4、s2，在形成有预定光栅纹路的pet基材上涂布透光层，并进行烘干处理；
5、s3，在透光层的表面涂布第一架桥层，并进行烘干处理；
6、s4，在第一架桥层的表面涂布吸墨层，并进行烘干处理；
7、s5，在吸墨层表面采用uv印刷工艺进行预设图文的印刷操作；
8、s6，在印刷了预设图文的吸墨层的表面涂布色彩层，并进行烘干处理；
9、s7，在色彩层的表面涂布第二架桥层，并进行烘干处理；
10、s8，在第二架桥层的表面涂布热熔胶膜层，并进行烘干处理后，得到光栅硅胶膜。
11、作为本专利技术进一步的方案：在步骤s1中，所述预制光栅滚筒是根据所需要制备的光栅硅胶膜的参数进行预先制造，并制造为光栅线数为211线的光栅滚筒。
12、作为本专利技术进一步的方案：在步骤s2中，所述透光层使用逗号刮刀涂布机进行涂布，其中涂布速度为25～35米/分钟，涂布厚度为0.1～0.5微米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为150℃～190℃。
13、作为本专利技术进一步的方案：在步骤s3中，所述第一架桥层使用150目四边形网纹辊进行涂布，其中涂布速度为6～12米/分钟，涂布厚度为7～14克/平方米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为160℃～200℃。
14、作为本专利技术进一步的方案：在步骤s4中，所述吸墨层使用250目四边形网纹辊进行涂布，其中涂布速度为35～45米/分钟，涂布厚度为3～5克/平方米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为100℃～140℃。
15、作为本专利技术进一步的方案：在步骤s6中，所述色彩层使用逗号刮刀涂布机进行涂布，其中涂布速度为25～35米/分钟，涂布厚度为0.1～0.3微米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为150℃～190℃。
16、作为本专利技术进一步的方案：在步骤s6中，所述色彩层使用逗号刮刀涂布机根据预设图文的色彩进行多次涂布，每一次涂布操作只涂布一种色彩。
17、作为本专利技术进一步的方案：在步骤s7中，所述第二架桥层使用150目四边形网纹辊进行涂布，其中涂布速度为6～12米/分钟，涂布厚度为7～14克/平方米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为160℃～200℃。
18、本专利技术还提供一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜，包括使用上述的制备工艺，进行制造而成的光栅硅胶膜。
19、作为本专利技术进一步的方案：所述光栅硅胶膜包括由上至下依次层叠设置的透光层、第一架桥层、吸墨层、色彩层、第二架桥层和热熔胶膜层。
20、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
21、1、通过在基材上涂布uv材料，随后使用光栅辊筒进行热压处理，并用uv光线进行固化定型，再通过涂布透光层使透光层结合光栅纹路，形成多角度的光线穿透路线，从而使照射在图文上的光线随角度变化而产生变化，形成具有美感的动态变换样式。
22、2、还通过在色彩层上进行多次涂布，从而在不同的部位涂布多种不同的颜色，使光线穿过光栅纹路后，照射在不同的区域可以形成不同色彩的图文，进一步的提升美感。
23、3、还在不同层之间设置架桥层，从而增强不同层之间的连接牢固性，提高光栅硅胶膜的水洗牢度。
24、综上所述，本专利技术经过上述的改进，可以提供一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜及其制备工艺，使光栅硅胶膜的图文在生产过程中不会被破坏，具有清晰的图文呈现，还可以随角度变化而改变色彩或图文图案，提升美感；而且进一步的提升舒适度，增强水洗的牢度。
25、本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
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1.一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s1中，所述预制光栅滚筒是根据所需要制备的光栅硅胶膜的参数进行预先制造，并制造为光栅线数为211线的光栅滚筒。
3.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s2中，所述透光层使用逗号刮刀涂布机进行涂布，其中涂布速度为25～35米/分钟，涂布厚度为0.1～0.5微米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为150℃～190℃。
4.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s3中，所述第一架桥层使用150目四边形网纹辊进行涂布，其中涂布速度为6～12米/分钟，涂布厚度为7～14克/平方米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为160℃～200℃。
5.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s4中，所述吸墨层使用250目四边形网纹辊
6.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s6中，所述色彩层使用逗号刮刀涂布机进行涂布，其中涂布速度为25～35米/分钟，涂布厚度为0.1～0.3微米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为150℃～190℃。
7.根据权利要求6所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s6中，所述色彩层使用逗号刮刀涂布机根据预设图文的色彩进行多次涂布，每一次涂布操作只涂布一种色彩。
8.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s7中，所述第二架桥层使用150目四边形网纹辊进行涂布，其中涂布速度为6～12米/分钟，涂布厚度为7～14克/平方米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为160℃～200℃。
9.一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜，其特征在于，包括根据权利要求1-8中任一项所述的制备工艺，进行制造而成的光栅硅胶膜。
10.根据权利要求9所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜，其特征在于，所述光栅硅胶膜包括由上至下依次层叠设置的透光层、第一架桥层、吸墨层、色彩层、第二架桥层和热熔胶膜层。
...【技术特征摘要】
1.一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s1中，所述预制光栅滚筒是根据所需要制备的光栅硅胶膜的参数进行预先制造，并制造为光栅线数为211线的光栅滚筒。
3.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s2中，所述透光层使用逗号刮刀涂布机进行涂布，其中涂布速度为25～35米/分钟，涂布厚度为0.1～0.5微米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为150℃～190℃。
4.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s3中，所述第一架桥层使用150目四边形网纹辊进行涂布，其中涂布速度为6～12米/分钟，涂布厚度为7～14克/平方米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为160℃～200℃。
5.根据权利要求1所述的一种色彩与图文随角度变化的光栅硅胶膜的制备工艺，其特征在于，在步骤s4中，所述吸墨层使用250目四边形网纹辊进行涂布，其中涂布速度为35～45米/分钟，涂布厚度为3～5克/平方米，烘烤时间为3～7分钟，烘道温度分段设定为1...
【专利技术属性】
技术研发人员：李正富，颜少河，
申请(专利权)人：惠州市松烁科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：
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