【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及eda，特别是涉及一种电路设计的缺陷标记生成方法、电子设备及存储介质。
技术介绍
1、当前的eda工具中，在设计界面中展示的信息都是本身的设计数据，例如元器件的属性信息等。但是无法展示其他附加标记信息。例如，在产品设计流程中，对电路设计进行评审时一个重要的环节，电路设计评审环节能够利用团队每个成员独特的优势去提升单个个体的工作质量。一般情况下，为了保密，在电路设计评审的过程中并不会直接采用电路设计的原始文件，而是采用电路图的方式供评审员进行评审，每个评审员在评审时只能通过截取电路图中部分视图或者指出电路图中某个元器件的名称等方式指出电路图中的问题并形成表格文件。硬件设计师需要根据多个评审员反馈的表格文件对照电路设计的原始文件逐个查看并修改。
2、上述方式使得硬件设计师需要在电路设计的原始文件中逐个定位查看并进行相应的修改或反馈，查找的效率低，因此，亟需一种电路设计中的缺陷快速查找的方法。
技术实现思路
1、针对上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：一种电路设计的缺陷标记生成方法，所述方法包括如下步骤：
2、s200，获取表格文件，所述表格文件包括多个条目，每个条目包括电路设计的缺陷定位字段和缺陷标记字段。
3、s400，将表格文件导入eda工具中，根据表格文件中的每个条目对电路设计进行缺陷定位，生成缺陷图形标记；其中第i个条目的缺陷图形标记的生成步骤包括：
4、s420，提取第i个条目的缺陷定位字段lfi。
<...【技术保护点】
1.一种电路设计的缺陷标记生成方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S420中LFi为文本类缺陷定位字段S1LFi，则S440还包括：根据文本匹配查找LFi在电路设计中的定位坐标，根据定位坐标获取第i个条目在电路设计中的目标位置TPi。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S420中LFi为图像类缺陷定位字段S2LFi，所述S2LFi用于附加电路设计图的局部图；
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，S420中LFi包括文本类定位字段S1LFi和图像类定位字段S2LFi；
5.根据权利要求2或4所述的方法，其特征在于，文本类定位字段S1LFi包括对象名称字段和对象类型字段。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷图形标记绑定了电路设计的层标识。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷标记字段还包括缺陷内容描述字段、缺陷类型字段和缺陷等级标识。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述缺陷图形标记还绑定了颜色标识，
9.一种非瞬时性计算机可读存储介质，所述存储介质中存储有至少一条指令或至少一段程序，其特征在于，所述至少一条指令或所述至少一段程序由处理器加载并执行以实现如权利要求1-8中任意一项的所述方法。
10.一种电子设备，其特征在于，包括处理器和权利要求9中所述的非瞬时性计算机可读存储介质。
...【技术特征摘要】
1.一种电路设计的缺陷标记生成方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，s420中lfi为文本类缺陷定位字段s1lfi，则s440还包括：根据文本匹配查找lfi在电路设计中的定位坐标，根据定位坐标获取第i个条目在电路设计中的目标位置tpi。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，s420中lfi为图像类缺陷定位字段s2lfi，所述s2lfi用于附加电路设计图的局部图；
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，s420中lfi包括文本类定位字段s1lfi和图像类定位字段s2lfi；
5.根据权利要求2或4所述的方法，其特征在于，文本类定位字段s1lfi包括对象名称字段和对象类...
【专利技术属性】
技术研发人员：马俊毅，伊林，戴维，樊宏斌，陈峰，
申请(专利权)人：上海合见工业软件集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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