一种去除NO中N2O和NO2的方法技术

本发明专利技术公开了一种去除NO中N2O和NO2的方法，将含有N2O和NO2的NO样品，依次经过一级吸收塔、二级吸收塔、吸附塔，得到符合产品技术要求的NO产品。本发明专利技术在纯化过程中不会产生凝聚态的NO，安全性高；同时还克服了现有技术碱液吸收法会产生大量含氮废水的缺陷；还克服了低温精馏耗费大量能源的缺陷，能耗低，三废产生量少。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于特种气体，具体涉及一种去除一氧化氮中笑气和二氧化氮(去除no中n2o和no2)的方法。

技术介绍

1、一氧化氮被广泛用于化学工业、电子工业、航天工业、计量标准气、生命科学和医疗上。在半导体领域，一氧化氮也发挥着重要的作用。一氧化氮在半导体中的应用主要涉及到两个方面：表面处理和氮化物材料。

2、一氧化氮可用于半导体表面处理。在半导体制造过程中，为了改善半导体材料的质量和性能，需要对半导体表面进行处理。一氧化氮可以与半导体表面发生反应，形成一层氮化物薄膜。这种氮化物薄膜具有良好的化学稳定性和热稳定性，能够提高半导体材料的性能。此外，一氧化氮还能够改变半导体表面的能带结构，增强半导体表面的电子传输性能，从而提高半导体器件的性能。

3、一氧化氮在氮化物材料中的应用也非常重要。氮化物材料是一类具有优异性能的半导体材料，广泛应用于高功率电子器件、光电器件等领域。一氧化氮可以作为氮化物材料的生长辅助气体，通过与其他气体反应形成氮化物材料。这种氮化物材料具有优异的电学性能和光学性能，能够满足高性能半导体器件的需求。

4、除本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种去除NO中N2O和NO2的方法，其特征在于，所述方法是：将含有N2O和NO2的NO产品，依次经过一级吸收塔、二级吸收塔、吸附塔，去除NO中的N2O和NO2；其中，一级吸收塔的吸收液为乙醇、水、NaOH的混合溶液，二级吸收塔的吸收液为低温乙醇，吸附塔中装填的吸附剂为活性炭。

2.如权利要求1所述的去除NO中N2O和NO2的方法，其特征在于，按照质量分数，所述一级吸收塔吸收液的组成为：乙醇：75％～90％、H2O：5％～20％、NaOH：2％～10％。

3.如权利要求1所述的去除NO中N2O和NO2的方法，其特征在于，所述二级吸收塔吸收液为乙醇，所述乙醇的温度...

【技术特征摘要】

1.一种去除no中n2o和no2的方法，其特征在于，所述方法是：将含有n2o和no2的no产品，依次经过一级吸收塔、二级吸收塔、吸附塔，去除no中的n2o和no2；其中，一级吸收塔的吸收液为乙醇、水、naoh的混合溶液，二级吸收塔的吸收液为低温乙醇，吸附塔中装填的吸附剂为活性炭。

2.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：尚修娟，朱晓斌，孔超，许摇摇，孙猛，
申请(专利权)人：金宏气体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：