【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微纳加工的，尤其涉及一种可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具。
技术介绍
1、随着半导体的不断发展,半导体的加工工艺以及加工设备也在不断的完善进步，刻蚀是半导体加工中的重要技术,主要的刻蚀方法有化学刻蚀、激光刻蚀和等离子刻蚀，激光刻蚀与等离子刻蚀所用到的设备以及成本昂贵。湿法腐蚀,作为湿法腐蚀的一种,工艺流程操作简单,设备成本较低,因此得到了广泛的应用。
2、但是传统的腐蚀装置并不能同时腐蚀多片晶片,导致晶片腐蚀增加了时间成本。而且,传统的腐蚀装置一般是直接接触,即将晶片放置在支架表面,这样会影响腐蚀的均匀性,容易给缺陷的检测结果带来误差。因此提出一种腐蚀装夹具来解决以上提出的问题。
技术实现思路
1、本部分的目的在于概述本专利技术的实施例的一些方面以及简要介绍一些较佳实施例。在本部分以及本申请的说明书摘要和专利技术名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和专利技术名称的目的模糊，而这种简化或省略不能用于限制本专利技术的范围。
2、鉴于上述现有可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具存在的问题，提出了本专利技术。
3、因此，本专利技术目的是提供一种可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其在进行腐蚀实验时，可放置磁力搅拌子湿法腐蚀夹具可以增加腐蚀晶片的数量，因为有磁力搅拌子的存在，在腐蚀过程中可以有效地控制腐蚀溶液的均匀性，保证了实验结果的正确性和有效性。
4、为解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：一种可放置磁力搅拌子的湿
5、承载框架、磁力搅拌子槽、侧边卡槽、底部卡槽和扶手架，所述磁力搅拌子槽对应连接在承载框架的下端，多个所述侧边卡槽对应连接在承载框架的内侧壁上，所述底壁卡槽对应连接在承载框架内底壁上，所述底部卡槽和侧边卡槽之间放置有晶片，且底部卡槽与两侧凸起的侧边卡槽对晶片边缘进行限位，两个所述扶手架对称连接在承载框架的上端。
6、作为本专利技术所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的一种优选方案，其中：所述底部卡槽和侧边卡槽上的每个卡槽之间都有足够的余量，所述晶片放置在溶液中并防止出现晶片相吸的情况。
7、作为本专利技术所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的一种优选方案，其中：所述承载框架呈长方形，所述承载框架中设有循环孔以便于腐蚀溶液循环，所述扶手架的两端分别连接于所述承载框架的两边，且扶手架的顶部相互连接。
8、作为本专利技术所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的一种优选方案，其中：所述腐蚀夹具还包括连接杆,所述连接杆的两端分别连接于所述承载框架的两个顶点处。
9、作为本专利技术所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的一种优选方案，其中：所述连接杆和侧边卡槽连接在底部卡槽上,且底部卡槽上开设有磁力搅拌子槽,所述磁力搅拌子槽可容置磁力搅拌子。
10、作为本专利技术所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的一种优选方案，其中：所述循环孔数量为多个，设置在承载框架的四周和底部，且便于腐蚀后进行下一步清洗。
11、作为本专利技术所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的一种优选方案，其中：所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的使用方法为：在进行腐蚀实验时，放置磁力搅拌子湿法腐蚀夹具能够增加腐蚀晶片的数量，磁力搅拌子的存在，在腐蚀过程中能够有效地控制腐蚀溶液的均匀性，保证实验结果的正确性和有效性。
12、本专利技术的有益效果：本专利技术在进行腐蚀实验时，可放置磁力搅拌子湿法腐蚀夹具可以增加腐蚀晶片的数量，因为有磁力搅拌子的存在，在腐蚀过程中可以有效地控制腐蚀溶液的均匀性，保证了实验结果的正确性和有效性。
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1.一种可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述底部卡槽(4)和侧边卡槽(3)上的每个卡槽之间都有足够的余量，所述晶片放置在溶液中并防止出现晶片相吸的情况。
3.根据权利要求2所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述承载框架(1)呈长方形，所述承载框架(1)中设有循环孔以便于腐蚀溶液循环，所述扶手架(5)的两端分别连接于所述承载框架(1)的两边，且扶手架(5)的顶部相互连接。
4.根据权利要求3所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述腐蚀夹具还包括连接杆,所述连接杆的两端分别连接于所述承载框架(1)的两个顶点处。
5.根据权利要求4所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述连接杆和侧边卡槽(3)连接在底部卡槽(4)上,且底部卡槽(4)上开设有磁力搅拌子槽,所述磁力搅拌子槽可容置磁力搅拌子。
6.根据权利要求3所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述循环孔数量为多个，设置在承载框架(1)
7.根据权利要求6所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具的使用方法为：在进行腐蚀实验时，放置磁力搅拌子湿法腐蚀夹具能够增加腐蚀晶片的数量，磁力搅拌子的存在，在腐蚀过程中能够有效地控制腐蚀溶液的均匀性，保证实验结果的正确性和有效性。
...【技术特征摘要】
1.一种可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述底部卡槽(4)和侧边卡槽(3)上的每个卡槽之间都有足够的余量，所述晶片放置在溶液中并防止出现晶片相吸的情况。
3.根据权利要求2所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述承载框架(1)呈长方形，所述承载框架(1)中设有循环孔以便于腐蚀溶液循环，所述扶手架(5)的两端分别连接于所述承载框架(1)的两边，且扶手架(5)的顶部相互连接。
4.根据权利要求3所述的可放置磁力搅拌子的湿法腐蚀夹具，其特征在于：所述腐蚀夹具还包括连接杆,所述连接杆的两端分别连接于所述承载框架(1)的两个顶点处...
【专利技术属性】
技术研发人员：邢雨晴，董俊，侯志尧，陈凯，
申请(专利权)人：菲特晶南京电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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