【技术实现步骤摘要】
【】本申请涉及电子设备，尤其涉及一种玻璃盖板及其制备方法、电子设备。
技术介绍
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技术介绍
1、电子设备的玻璃显示屏最外通常设置有一层玻璃盖板，电子设备的玻璃盖板在使用过程中，如果不设置保护膜，长时间使用后会出现划痕等外观缺陷，这些缺陷会破坏玻璃盖板的应力平衡，导致玻璃盖板抗冲击能力下降。
2、现有技术中，通常采用溅镀的方式在玻璃基板的外表面设置高硬度的光学膜层，以提高玻璃盖板的抗划伤能力。溅镀过程中，玻璃盖板的镀膜面的法线与镀膜粒子的入射方向平行时，沉积速度最大，且可以得到厚度均匀的光学膜层；但在边缘具有弧度的3d玻璃基板上进行溅镀时，弧面法线与镀膜粒子的入射方向成一定角度α，光学膜层的厚度会与α呈cosα变化，无法保证3d玻璃基板上的平面与弧面的颜色保持一致。
技术实现思路
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技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供玻璃盖板及其制备方法，采用折射率高于玻璃基板的第一材料与折射率低于玻璃基板的第二材料，第一材料与第二材料通过原子级的混合方式形成光学膜层，得到的光学膜层的折射率与玻璃基板相近，对玻璃基板的透光率和反光率无影响，且光学膜层的折射率不会随光学膜层的厚度变化而变化；当光学膜层形成于边缘具有弧度的玻璃基板上时，不会因光学膜层的厚度变化而使得玻璃基板在外观上存在颜色差异；同时，光学膜层脱落时也不会造成玻璃盖板的外观变化。为达到上述目的，本申请采用如下技术方案:
2、本申请的第一方面，提供一种玻璃盖板，所述玻璃盖板包括
3、光学膜层形成于玻璃基板的外表面，用于防止玻璃基板被划伤或者使用过程中破裂而影响玻璃基板的美观性。上述方案使用折射率大于玻璃基板的折射率的第一材料与折射率小于玻璃基板的折射率的第二材料通过原子级的混合方式形成光学膜层，形成的光学膜层的折射率与玻璃基板相近，进而光学膜层的厚度变化也不会影响光学膜层的折射率，使得光学膜层形成于边缘具有弧度的玻璃基板，例如2.5d玻璃基板或3d玻璃基板上时，不会因镀膜过程中，弯折部分的厚度与基体部分的厚度不同而使得玻璃盖板看起来具有颜色差异。本申请的光学膜层，在具有抗划伤性能的同时，还提高了使用此玻璃盖板的电子设备的美观性。
4、在一种可行的实施方式中，所述第一材料包括si3n4、al2o3、aln、zro2、nb2o5、ta2o5、tio2等中的至少一种。
5、上述方案中，第一材料为折射率大于玻璃基板的折射率的材料，第一材料或玻璃基板的折射率是指光在真空中的传播速度与光在第一材料或玻璃基板中的传播速度之比，第一材料或玻璃基板的折射率越高，入射光线发生折射的能力越强。由此，采用折射率高的第一材料与折射率低的第二材料进行混合，可以得到折射率与玻璃基板相近的光学膜层。
6、在一种可行的实施方式中，所述第一材料的维氏硬度≥1000hv。
7、在玻璃基板外设置光学膜层时，除考虑光学膜层的折射率外，光学膜层还需要具备一定的硬度，光学膜层的硬度较低时，电子设备使用过程中，膜层容易被刮花，进而降低了光学膜层的使用寿命。由此上述方案采用高硬度的第一材料制备光学膜层，制得的光学膜层硬度高，使用过程中不易出现划伤等缺陷，使用寿命长。
8、在一种可行的实施方式中，所述第二材料包括sio2、mgf2、laf3、alf3等中的至少一种。
9、上述方案中，第二材料为折射率低于玻璃基板的折射率的材料，第二材料或玻璃基板的折射率是指光在真空中的传播速度与光在第二材料或玻璃基板中的传播速度之比，第二材料或玻璃基板的折射率越低，入射光线发生折射的能力越弱。由此，采用折射率高的第一材料与折射率低的第二材料进行混合，可以得到折射率与玻璃基板相近的光学膜层。
10、在一种可行的实施方式中，所述光学膜层的厚度为500nm～5000nm。
11、上述方案中，光学膜层的折射率不随厚度的变化而变化，即无论光学膜层的厚度多厚，折射率均与玻璃基板的折射率接近。但在镀膜过程中，仍需要控制光学膜层的厚度，若光学膜层的厚度过高，硬度高，抗划伤能力强，增加生产成本；若光学膜层的厚度过薄，抗划伤能力下降，使用寿命短。光学膜层的厚度在上述范围内，兼具高硬度及美观性良好的特点。
12、在一种可行的实施方式中，采用莫氏硬度笔测试，在500g的试验力作用下，所述光学膜层的莫氏硬度≥7。
13、上述方案中，莫氏硬度是指用刻痕法将棱锥形金刚钻针刻划所测试的光学膜层的表面，并测量划痕的深度，该划痕的深度就是莫氏硬度。本申请采用高硬度的第一材料制备光学膜层，使得光学膜层的莫氏硬度在上述范围，光学膜层具有更好的抗划伤能力。
14、在一种可行的实施方式中，在18mn的荷载力作用下，所述光学膜层的维氏硬度≥1000hv。
15、上述方案中，维氏硬度是指用一个相对面间夹角为136度的金刚石正棱锥体压头，在规定载荷f作用下压入光学膜层表面，保持定时间后卸除载荷，测量压痕对角线长度d，进而计算出压痕表面积，最后求出压痕表面积上的平均压力，即为材料的维氏硬度值。本申请采用高硬度的第一材料制备光学膜层，使得光学膜层的维氏硬度在上述范围，光学膜层具有更好的抗压能力。
16、在一种可行的实施方式中，所述光学膜层的摩擦系数为0.01～0.06。
17、光学膜层设置于玻璃基板远离电子设备的其它部件的一侧，在电子设备的使用过程中，光学膜层的外表面与用户的手指接触。若光学膜层的摩擦系数过大，容易降低用户在对电子设备进行频繁操作时的体验感；若摩擦系数过小，电子设备容易接收到用户产生误操作时的动作指令。上述方案将光学膜层的摩擦系数控制在此范围内，使得光学膜层兼具顺滑及使得电子设备可以接收正确指令的特点。
18、在一种可行的实施方式中，所述光学膜层对波长在380nm～780nm内的可见光的透过率＞90％。
19、上述方案中，透过率是指光线通过的百分率，透过率越高，玻璃盖板显示越清晰。玻璃盖板安装在电子设备上，且光学膜层设置于玻璃盖板远离电子设备其它部件的一侧，当显示屏产生显示图像时，显示图像的光线透过玻璃盖板后被用者接收。若光学膜层的透过率过低，会造成电子设备的亮度降低，降低用户的体验感。光学膜层的透过率在上述范围内，用户通过玻璃盖板观察到的显示图像清晰。
20、在一种可行的实施方式中，所述光学膜层对波长在380nm～780nm内的可见光的反射率为＜6％。
21、光学膜层的反射率是指光学膜层反射光线的程度，光学膜层的反射率越小，光学膜层反射的光线越少，使得电子设备使用时，显示屏越接近纸张的使用体验，人的感受越好。若光学膜层的反射率过高，在强光的环境下本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板包括玻璃基板及位于所述玻璃基板表面的光学膜层，所述光学膜层的折射率为1.46～1.62；所述光学膜层包括原子级混合的第一材料与第二材料，所述第一材料与所述第二材料的质量比为(1～8):1，且所述第一材料的折射率为＞1.6，所述第二材料的折射率为＜1.52。
2.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述第一材料包括Si3N4、Al2O3、AlN、ZrO2、Nb2O5、T2O5、TiO2等中的至少一种。
3.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述第一材料的维氏硬度≥1000HV。
4.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述第二材料包括SiO2、MgF2、LaF3、AlF3等中的至少一种。
5.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，其满足以下特征中的至少一种:
6.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃基板包括2D玻璃基板、2.5D玻璃基板、3D玻璃基板中的一种。
7.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃基板为3D玻璃基板，所述3D玻
8.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，在(L*,a*,b*)色度体系中，所述光学膜层可反射的反射光线的a*值为-2～2，b*值为-2～2；和/或，所述光学膜层可透射的透射光线的a*值为-2～2，b*值为-2～2。
9.一种玻璃盖板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括:
10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求1～8任一项所述的玻璃盖板或权利要求9所述的玻璃盖板的制备方法制得的所述玻璃盖板。
...【技术特征摘要】
1.一种玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板包括玻璃基板及位于所述玻璃基板表面的光学膜层，所述光学膜层的折射率为1.46～1.62；所述光学膜层包括原子级混合的第一材料与第二材料，所述第一材料与所述第二材料的质量比为(1～8):1，且所述第一材料的折射率为＞1.6，所述第二材料的折射率为＜1.52。
2.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述第一材料包括si3n4、al2o3、aln、zro2、nb2o5、t2o5、tio2等中的至少一种。
3.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述第一材料的维氏硬度≥1000hv。
4.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，所述第二材料包括sio2、mgf2、laf3、alf3等中的至少一种。
5.根据权利要求1所述玻璃盖板，其特征在于，其满足以下特...
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