【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学材料，涉及一种三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料及其制备方法和应用，尤其涉及一种调控三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料整体性能的方法。
技术介绍
1、光具有波粒二象性，其既具有波的特征，又兼具粒子的特性。因此，光可以被认为是一种电磁波，具有振动矢量。自然光的振动矢量与其传播方向垂直，而且在所有空间方向上可以看成是等同的。如果将光的传播方向固定为某一个振动平面，且幅度随相位变化而产生周期性的改变，这种光就可以被称为线偏振光。线偏振光通过其对应波长的四分之一波片即可获得一种传播轨迹为一个正圆形状的光，即圆偏振光。圆偏振发光(cpl)在手性光催化、生物显像、光信息处理、3d显示和存储等方面具有重要的应用价值。
2、光子上转换(photon upconversion)是一种反斯托克斯位移的特殊发光过程，即吸收低能量光子产生较高能量光子，其中额外的一部分能量的获得主要来自其他激子或者热。根据上转换机理的不同，可以分为双光子吸收上转换(two-photon absorptionupconversion，tpa-...
【技术保护点】
1.一种三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其特征在于，所述三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料的制备原料包括如下组分：非手性向列相液晶、手性掺杂剂、湮灭剂、敏化剂。
2.根据权利要求1所述的三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其特征在于，所述非手性向列相液晶与手性掺杂剂的质量比为10:(0.2-0.3)，优选为10:(0.250-0.255)或10:(0.285-0.290)；
3.根据权利要求1或2所述的三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其特征在于，所述敏化剂与湮灭剂的摩尔比为(1-1.5):100。
4.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其特征在于，所述三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料的制备原料包括如下组分：非手性向列相液晶、手性掺杂剂、湮灭剂、敏化剂。
2.根据权利要求1所述的三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其特征在于，所述非手性向列相液晶与手性掺杂剂的质量比为10:(0.2-0.3)，优选为10:(0.250-0.255)或10:(0.285-0.290)；
3.根据权利要求1或2所述的三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其特征在于，所述敏化剂与湮灭剂的摩尔比为(1-1.5):100。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其特征在于，所述非手性向列相液晶包括slc1717；
5.根据权利要求1-4中任一项所述的三重态-三重态湮灭上转换圆偏振发光材料，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：程佳吉，刘玉帅，周宾倩，雷茜，刘洁，袁成志，向天翼，马梁博奥，张蕾，
申请(专利权)人：湖北大学，
类型：发明
国别省市：
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