【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
所公开和要求保护的主题涉及基本上不含水分(例如h2o)、氯化氢(hcl)和/或残余质子的超纯二氯二氧化钼(即moo2cl2)、其包装形式及其制备方法。
技术介绍
1、薄膜，且特别是含金属薄膜，具有各种重要应用，如在纳米技术和半导体器件的制造中。事实上，半导体行业继续推动用于高级节点应用的连续和保形含金属薄膜的沉积。此类应用的实例包括高折射率光学涂层、防腐蚀涂层、光催化自清洁玻璃涂层、生物相容性涂层、电介质电容器层和场效应晶体管(fet)中的栅极介电绝缘膜、电容器电极、栅极电极、粘合剂扩散屏障和集成电路。金属薄膜和介电薄膜也用于微电子应用中，如用于动态随机存取存储器(dram)应用的高κ介电氧化物以及用于红外探测器和非易失性铁电随机存取存储器(nv-feram)中的铁电钙钛矿。
2、此类技术包括反应溅射、离子辅助沉积、溶胶-凝胶沉积、化学气相沉积(cvd)(也称为金属有机cvd或mocvd)和原子层沉积(ald)(也称原子层外延)。cvd和原子层沉积ald用于使用含金属前体在诸如硅、金属氮化物、金属氧化物和其他含金属层的衬底上...
【技术保护点】
1.超纯MoO2Cl2，其具有如通过1H NMR测量的小于约30ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
2.如权利要求1所述的超纯MoO2Cl2，具有如通过1H NMR测量的小于25ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
3.如权利要求1所述的超纯MoO2Cl2，具有如通过1H NMR测量的小于20ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
4.如权利要求1所述的超纯MoO2Cl2，具有如通过1H NMR测量的小于15ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
5.如权利要求1所述的超纯MoO2Cl2，具有如通过1H NMR测量...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.超纯moo2cl2，其具有如通过1h nmr测量的小于约30ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
2.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于25ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
3.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于20ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
4.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于15ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
5.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于12ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
6.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于10ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
7.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于6ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
8.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于3ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
9.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于2ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
10.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于1.5ppm的物理吸附或化学吸附状态的质子。
11.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约250ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
12.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约200ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
13.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约150ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
14.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约125ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
15.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约100ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
16.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约75ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
17.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约50ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
18.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约25ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
19.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约20ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
20.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约15ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
21.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约12.5ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
22.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约10ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
23.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.030wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
24.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.025wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
25.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.015wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
26.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.010wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
27.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.008wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
28.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.005wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
29.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.003wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
30.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.002wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
31.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约0.001wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总h2o含量。
32.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，其中所述超纯moo2cl2基本上不含h2o。
33.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，其中所述超纯moo2cl2不含h2o。
34.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约1000ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
35.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约750ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
36.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约500ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
37.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约400ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
38.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约300ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
39.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约200ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
40.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约100ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
41.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约90ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
42.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约75ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
43.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测量的小于约50ppm的物理吸附或化学吸附状态的残余总hcl含量。
44.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，其中所述超纯moo2cl2基本上不含hcl。
45.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，其中所述超纯moo2cl2不含hcl。
46.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测定的小于约0.30wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总moo2cl2×h2o含量。
47.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测定的小于约0.25wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总moo2cl2×h2o含量。
48.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测定的小于约0.20wt％的物理吸附或化学吸附状态的残余总moo2cl2×h2o含量。
49.如权利要求1所述的超纯moo2cl2，具有如通过1h nmr测定的小于约0.15w...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·A·克劳斯，S·V·伊瓦诺维，B·A·斯珀林，
申请(专利权)人：弗萨姆材料美国有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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