【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及包括沉积角度限制部的沉积装置。
技术介绍
1、作为显示图像的装置，正在使用发光显示装置。发光显示装置可以根据像素的组合来表现出图像，像素可以通过如发光二极管这样的发光元件来实现。
2、发光二极管可以包括阳极、阴极以及它们之间的发光层。发光二极管的发光层可以通过沉积法来形成。例如，可以在真空腔体内在形成有预定图案的开口部的掩模上对齐将要形成发光层的基板，使发光层的材料通过掩模的开口部，从而在基板上沉积出符合于掩模图案的发光层。
3、发光层的材料可以从沉积源被气化且从喷嘴被辐射，从而通过掩模的开口部。此时，材料的粒子以辐射的角度进行直线运动，以具有一定角度的方式沉积到基板。在粒子通过掩模的开口部时，由于粒子的入射角，可能会产生无法在基板上均匀(例如，以均匀的厚度)沉积的部分(即，厚度不均匀的部分)。将该区域称为阴影(shadow)。
技术实现思路
1、为了提高发光元件的寿命和效率，提高沉积材料粒子的入射角来减少阴影区域是有利的。实施例用于提供一种包括可以提高沉积到基板的沉积材料粒子的入射角的同时可以防止沉积材料粒子堆积在喷嘴周边的情况且改善沉积材料粒子的喷射率变动性的沉积角度限制部的沉积装置。
2、一实施例涉及的沉积装置包括：腔体；沉积源，位于所述腔体内，包括排列在第一方向上的多个喷嘴；以及沉积角度限制部，在所述腔体内位于所述沉积源上。所述沉积角度限制部包括：多个低入射角限制板，分别位于在所述多个喷嘴之中每两个相邻的喷嘴之间，所述每两个
3、可以是，所述第二高度大于所述第一高度。
4、可以是，所述低入射角限制板在高度方向上具有第一长度，所述高入射角限制板在所述高度方向上具有第二长度，所述第二长度短于所述第一长度。
5、可以是，所述沉积角度限制部还包括：角度限制板，位于所述多个喷嘴的两侧，在所述第一方向上延伸。
6、可以是，所述角度限制板包括：第一板和第二板，在与所述第一方向交叉的第二方向上分别位于所述多个喷嘴的一侧和另一侧。
7、可以是，所述角度限制板在平面图中与所述第一喷嘴的中心间隔开第一距离，所述低入射角限制板在所述平面图中与所述第一喷嘴的所述中心间隔开第二距离，所述高入射角限制板在所述平面图中与所述第一喷嘴的所述中心间隔开第三距离。可以是，所述第一距离大于所述第二距离，所述第二距离大于所述第三距离。
8、可以是，所述沉积角度限制部还包括：连接部，连接所述高入射角限制板与所述低入射角限制板。
9、可以是，所述沉积源还包括：辐射热防止板，形成有插入所述多个喷嘴的多个开口。可以是，所述低入射角限制板和所述高入射角限制板与所述辐射热防止板间隔开。
10、可以是，所述角度限制板与所述辐射热防止板相接。
11、可以是，所述高入射角限制板包括沿着与所述第一方向交叉的第二方向分离的第一部分和第二部分。
12、可以是，所述高入射角限制板的所述第一部分和所述第二部分分别是半圆筒形。
13、可以是，隔着所述低入射角限制板相邻的所述高入射角限制板通过连接部被连接。
14、可以是，所述连接部还与所述低入射角限制板连接。
15、可以是，所述高入射角限制板是圆筒形。
16、一实施例涉及的沉积装置包括：腔体，在所述腔体中基板和掩模被设置成对齐；沉积源，位于所述腔体内，包括排列在第一方向上的第一喷嘴和第二喷嘴；以及沉积角度限制部，位于所述沉积源与所述掩模之间，控制从所述第一喷嘴和所述第二喷嘴辐射的粒子的入射角。所述沉积角度限制部包括：角度限制板，位于所述第一喷嘴和所述第二喷嘴的与所述第一方向交叉的第二方向上的两侧，在所述第一方向上延伸；多个低入射角限制板，分别位于所述第一喷嘴的所述第一方向上的一侧、所述第一喷嘴与所述第二喷嘴之间以及所述第二喷嘴的所述第一方向上的另一侧，在所述第二方向上延伸；以及多个高入射角限制板，分别包围所述第一喷嘴的至少一部分和所述第二喷嘴的至少一部分，比所述角度限制板和所述低入射角限制板更靠近所述第一喷嘴或所述第二喷嘴的中心。
17、可以是，所述低入射角限制板在与所述第一方向及所述第二方向交叉的第三方向上与所述喷嘴间隔开第一高度，所述高入射角限制板在所述第三方向上与所述喷嘴间隔第二高度，所述第二高度大于所述第一高度。
18、可以是，所述低入射角限制板在所述第三方向上具有第一长度，所述高入射角限制板在所述第三方向上具有第二长度，所述第二长度短于所述第一长度。
19、可以是，所述角度限制板比所述低入射角限制板更远离所述第一喷嘴的中心。
20、可以是，所述低入射角限制板与所述角度限制板被连接。可以是，所述沉积角度限制部还包括：连接部，连接所述高入射角限制板与所述低入射角限制板。
21、可以是，所述高入射角限制板包括：第一部分和第二部分，沿着与所述第一方向交叉的第二方向被分离，所述第一部分和所述第二部分分别是半圆筒形。
22、(专利技术效果)
23、根据实施例，可以提供一种包括增加沉积到基板的沉积材料粒子的入射角且可以防止沉积材料粒子在喷嘴周边堆积的情况并且改善沉积材料粒子的喷射率变动性的沉积角度限制部的沉积装置。此外，根据实施例，具有可通过整个说明书认知到的有益效果。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种沉积装置，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
3.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
4.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
5.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，
6.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，
7.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，
8.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，
9.根据权利要求8所述的沉积装置，其中，
10.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
11.根据权利要求10所述的沉积装置，其中，
12.根据权利要求11所述的沉积装置，其中，
13.根据权利要求12所述的沉积装置，其中，
14.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
15.一种沉积装置，包括：
【技术特征摘要】
1.一种沉积装置，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
3.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
4.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，
5.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，
6.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，
7.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，
8.根据权利要求4所述的沉积装...
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