一种应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构制造技术

技术编号:40538526 阅读:10 留言:0更新日期:2024-03-01 14:01
本技术公开了一种应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,包括左针体和右针体,所述左针体和右针体的结构相同,且左针体和右针体间通过探针绝缘层连接;所述左针体和右针体安装在陶瓷电路板上。通过分别设置左针体和右针体探针,并在二者间装配五微米厚度绝缘层,使得成对焊接的定位信号独立导通形成KELVIN电路,其能够在一个芯片接触位置同时导通两种信号,降低了测试环节的接触阻抗和测试信号失真可能性,提高了芯片测试的稳定性。与此同时提高了芯片测试精度,优化了测试性能。通过左针体和右针体自身结构的设置,使得探针头受力后在弧形连接部就将发生弯曲,保证电路的导通。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及探针,具体为一种应用于模拟kelvin双接触的mems探针结构。


技术介绍

1、目前市场通用mems探针卡大部分探针都是单一探针测试,对于频率和接触电阻高的芯片测试,很多参数很难达到芯片设计值,从而影响到实际的测试效果。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供了一种应用于模拟kelvin双接触的mems探针结构,以达到在一个芯片接触位置同时导通两种信号,降低测试环节的接触阻抗和测试信号失真,提高芯片测试的稳定性。

2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种应用于模拟kelvin双接触的mems探针结构,包括左针体和右针体,所述左针体和右针体的结构相同,且左针体和右针体间通过探针绝缘层连接;所述左针体和右针体安装在陶瓷电路板上。

3、优选的,所述左针体和右针体均包括基座和针身,所述针身的一侧与基座连接,针身的另一侧顶部安装有探针头。

4、优选的,所述基座的底面设有若干突起,所述陶瓷电路板上设有若干安装槽,且突起安装在安装槽内。

5、优选的,所述绝缘层安装在基座、突起和针身之间。

6、优选的,所述左针体和右针体均通过独立焊点焊接在陶瓷电路板上。

7、优选的,所述针身与基座间通过弧形连接部连接。

8、优选的,所述探针绝缘层的厚度为5微米。

9、与现有技术相比,本技术的有益效果是:

10、通过分别设置左针体和右针体探针,并在二者间装配五微米厚度绝缘层,使得成对焊接的定位信号独立导通形成kelvin电路,其能够在一个芯片接触位置同时导通两种信号,降低了测试环节的接触阻抗和测试信号失真可能性,提高了芯片测试的稳定性。与此同时提高了芯片测试精度,优化了测试性能。通过左针体和右针体自身结构的设置,使得探针头受力后在弧形连接部就将发生弯曲,保证电路的导通。

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【技术保护点】

1.一种应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,其特征在于:包括左针体(1)和右针体(2),所述左针体(1)和右针体(2)的结构相同,且左针体(1)和右针体(2)间通过探针绝缘层(6)连接;

2.根据权利要求1所述的应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,其特征在于:所述左针体(1)和右针体(2)均包括基座(3)和针身(4),所述针身(4)的一侧与基座(3)连接,针身(4)的另一侧顶部安装有探针头(5)。

3.根据权利要求2所述的应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,其特征在于:所述基座(3)的底面设有若干突起(8),所述陶瓷电路板(7)上设有若干安装槽,且突起(8)安装在安装槽内。

4.根据权利要求3所述的应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,其特征在于:所述绝缘层(6)安装在基座(3)、突起(8)和针身(4)之间。

5.根据权利要求1所述的应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,其特征在于:所述左针体(1)和右针体(2)均通过独立焊点(9)焊接在陶瓷电路板(7)上。

6.根据权利要求2所述的应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,其特征在于:所述针身(4)与基座(3)间通过弧形连接部连接。

7.根据权利要求1所述的应用于模拟KELVIN双接触的MEMS探针结构,其特征在于:所述探针绝缘层(6)的厚度为5微米。

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【技术特征摘要】

1.一种应用于模拟kelvin双接触的mems探针结构,其特征在于:包括左针体(1)和右针体(2),所述左针体(1)和右针体(2)的结构相同,且左针体(1)和右针体(2)间通过探针绝缘层(6)连接;

2.根据权利要求1所述的应用于模拟kelvin双接触的mems探针结构,其特征在于:所述左针体(1)和右针体(2)均包括基座(3)和针身(4),所述针身(4)的一侧与基座(3)连接,针身(4)的另一侧顶部安装有探针头(5)。

3.根据权利要求2所述的应用于模拟kelvin双接触的mems探针结构,其特征在于:所述基座(3)的底面设有若干突起(8),所述陶瓷电路板(7)上设有若干安装槽,且突起(8)安装...

【专利技术属性】
技术研发人员:卞学礼严日东刘通
申请(专利权)人:沈阳圣仁电子科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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