【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洁,特别是涉及一种镀膜设备的载板清洁装置及镀膜设备。
技术介绍
1、在制备太阳电池时,通常采用等离子体增强化学气相沉积(pecvd)工艺在硅片上制备非晶硅薄膜。具体地,先将硅片放置在载板上,然后通过运输载板将硅片运输到腔室内进行非晶硅薄膜的沉积。
2、然而,当将硅片放置在载板上以及载板在运输的过程中,不可避免的会有粉尘等杂质掉落在载板上,如果带有粉尘等杂质的载板运输到腔室内,则会导致后续制备的非晶硅薄膜出现麻点和黑点的问题,严重影响非晶硅薄膜的质量。为了去除载板上的粉尘等杂质,传统方法通常使用气枪对载板进行水平吹扫。为了将载板吹扫干净,通常需要提高气枪的吹扫功率。然而,在对载板进行水平吹扫时,由于粉尘等杂质质量较轻,容易出现扬尘,且产生的扬尘到处飞溅,影响其他载板的清洁度,从而无法完全将载板清洁干净。
技术实现思路
1、基于此,有必要提供一种能够降低气枪吹扫功率且能够提高载板清洁度的镀膜设备的载板清洁装置。
2、另,还有必要提供一种镀膜设备。
【技术保护点】
1.一种镀膜设备的载板清洁装置(100),其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,还包括:
3.如权利要求2所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吹扫组件(10)的吹扫方向与所述载板平行、垂直或倾斜。
4.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吹扫组件(10)包括气枪。
5.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吸嘴(50)为圆吸嘴,所述吸嘴(50)的数量为多个。
6.如权利要求1至5中任一项所述的载板清洁装置(100),其
...【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备的载板清洁装置(100),其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,还包括:
3.如权利要求2所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吹扫组件(10)的吹扫方向与所述载板平行、垂直或倾斜。
4.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吹扫组件(10)包括气枪。
5.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吸嘴(50)为圆吸嘴,所述吸嘴(50)的数量为多个。
...【专利技术属性】
技术研发人员:魏科胜,周科佳,曹明,马晨,
申请(专利权)人:通威太阳能安徽有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。