【技术实现步骤摘要】
本申请属于x射线成像，尤其涉及一种背散射成像装置及安检系统。
技术介绍
1、背散射成像技术，是通过探测来自被检测物体(即被检物)的背散射光子及其空间分布，来获取被检测物体内部结构的成像技术。
2、在一些x射线成像装置中，例如采用顶照式的结构布局，被检物的传输装置一般位于检测通道的底部或者靠近下部的位置，x射线源位于检测通道的顶部。当背散射成像技术应用于顶照式的x射线成像装置中时，根据背散射成像的工作原理，背散射探测器应与x射线源布置在被检物或检测通道的同一侧。当被检物体积较小时，被检物将位于检测通道靠近下方的位置，其与背散射探测器之间的间距较大，存在因散射串扰和光子数不足等因素削弱背散射图像质量的问题。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的是提供一种背散射成像装置及方法，以解决背散射成像系统中，当被检物体积较小时，与背散射探测器之间的间距较大，削弱背散射图像质量的问题。
2、为实现上述目的，本申请实施例采用下述技术方案：
3、第一方面，本申请实施例提供一种背散射成像装置，包括：x射线生成组件，用于向检测通道内的标准模体和被检物发射x射线束；检测组件，用于检测所述被检物与背散射探测器组件的探测面之间的距离；位置调整组件，用于承载所述背散射探测器组件和所述标准模体，并根据所述检测组件检测的距离，调整所述背散射探测器组件和所述标准模体的位置，以改变所述背散射探测器组件的探测面和所述被检物之间的距离，且位置调整后的所述背散射探测器组件和所述标准模体之间的
4、第二方面，本申请实施例提供一种安检系统，包括：本申请实施例第一方面所述的背散射成像装置。
5、本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：
6、本申请实施例中，检测组件检测被检物与背散射探测器组件的探测面(指探测器上用于采集背散射光子的有效检测面)之间的距离，位置调整组件根据被检物与背散射探测器组件的探测面之间的距离，调整背散射探测器组件和标准模体的位置，以改变背散射探测器组件的探测面和被检物之间的距离，实现了对被检物和背散射探测器组件的探测面之间间距的自适应调节，较小的间距使得背散射探测器组件接收到的来自被检物的第一背散射光子数据数量较多，且通过基于第二背散射光子数据的校正，避免了因散射串扰和光子数不足等因素削弱背散射图像(对应检测图像)质量的问题，进而提高了生成的背散射图像的质量。
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1.一种背散射成像装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述背散射探测器组件包括第一背散射探测器和第二背散射探测器，所述第一背散射探测器用于采集经所述被检物散射的第一背散射光子数据，所述第二背散射探测器用于采集经所述标准模体散射的第二背散射光子数据；
3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述处理组件具体用于：
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，在所述背散射探测器组件包括第一背散射探测器和第二背散射探测器，且所述第二背散射探测器包括两个的情况下，所述标准模体的数量为两个，一个所述第二背散射探测器与一个所述标准模体对应设置；
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述位置调整组件包括：
6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述标准模体具有避让状态和散射状态；
7.根据权利要求1或6所述的装置，其特征在于，所述位置调整组件包括：
8.根据权利要求1或6所述的装置，其特征在于，所述处理组件具体用于：
9.根据权利要求1所述的装置，其特征
10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述检测组件还用于：
11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，位置调整后的所述背散射探测器组件的探测面和所述被检物之间的距离满足预设安全距离。
12.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述处理组件还用于：
13.一种安检系统，其特征在于，包括权利要求1-12中任一所述的背散射成像装置。
...【技术特征摘要】
1.一种背散射成像装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述背散射探测器组件包括第一背散射探测器和第二背散射探测器，所述第一背散射探测器用于采集经所述被检物散射的第一背散射光子数据，所述第二背散射探测器用于采集经所述标准模体散射的第二背散射光子数据；
3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述处理组件具体用于：
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，在所述背散射探测器组件包括第一背散射探测器和第二背散射探测器，且所述第二背散射探测器包括两个的情况下，所述标准模体的数量为两个，一个所述第二背散射探测器与一个所述标准模体对应设置；
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述位置调整组件包括：
6.根据权利要求1所述的装置，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：董涛，徐光明，
申请(专利权)人：杭州睿影科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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