System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 牙菌斑清除率的确定方法及装置、口腔清洁设备、介质制造方法及图纸_技高网

牙菌斑清除率的确定方法及装置、口腔清洁设备、介质制造方法及图纸

技术编号:40515990 阅读:11 留言:0更新日期:2024-03-01 13:32
本申请实施例公开了一种牙菌斑清除率的确定方法及装置、口腔清洁设备、介质,所述方法应用于口腔清洁设备,方法包括:获取所述口腔清洁设备的当前清洁时长;在所述当前清洁时长处于第一预设清洁时长范围内的情况下,确定所述口腔清洁设备的第一清洁模型,并根据所述第一清洁模型以及当前清洁时长确定当前清除率;在所述当前清洁时长处于第二预设清洁时长范围内的情况下,确定所述口腔清洁设备的第二清洁模型,并根据所述第二清洁模型以及当前清洁时长确定当前清除率;其中,所述第一清洁模型与所述第二清洁模型不同。提高了口腔清洁设备在不同的当前清洁时长时,确定清除牙菌斑的当前清除率的准确性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及口腔清洁设备,尤其涉及一种牙菌斑清除率的确定方法及装置、口腔清洁设备、介质


技术介绍

1、随着人们对牙齿健康的关注,口腔清洁设备的清洁效果也成为了人们选购口腔清洁设备的重要标准之一。其中,牙菌斑的清除率是评估口腔中牙齿上覆盖的细菌和食物残渣的量的指标,其是衡量口腔清洁设备清除效果的重要参数。

2、传统方案中确定牙菌斑的清除率时通常是在口腔清洁设备按照标准清洁方式清洁牙齿时间到达2分钟时,确定牙菌斑的清除率达到预期效果,其不能准确确定在刷牙过程中牙菌斑的清除率。


技术实现思路

1、本申请实施例提供了一种牙菌斑清除率的确定方法及装置、口腔清洁设备、介质,根据不同的清洁模型以及当前清洁时长确定口腔清洁设备的当前清除率,结合了口腔清洁设备在不同时刻清除牙菌斑的效率不同的特点,提高了口腔清洁设备在不同的当前清洁时长时,确定清除牙菌斑的当前清除率的准确性。所述技术方案如下:

2、第一方面,本申请实施例提供了一种牙菌斑清除率的确定方法,应用于口腔清洁设备,所述方法包括:

3、获取所述口腔清洁设备的当前清洁时长;

4、在所述当前清洁时长处于第一预设清洁时长范围内的情况下,确定所述口腔清洁设备的第一清洁模型,并根据所述第一清洁模型以及当前清洁时长确定当前清除率;

5、在所述当前清洁时长处于第二预设清洁时长范围内的情况下,确定所述口腔清洁设备的第二清洁模型,并根据所述第二清洁模型以及当前清洁时长确定当前清除率;

6、其中,所述第一清洁模型与所述第二清洁模型不同。

7、第二方面,本申请实施例提供了一种牙菌斑清除率的确定装置,包括:

8、获取单元,用于获取所述口腔清洁设备的当前清洁时长;

9、第一确定单元,用于在所述清洁时长处于第一预设清洁时长范围内的情况下,确定所述口腔清洁设备的第一清洁模型,并根据所述第一清洁模型以及当前清洁时长确定当前清除率;

10、第二确定单元,用于在所述清洁时长处于第二预设清洁时长范围内的情况下,确定所述口腔清洁设备的第二清洁模型,并根据所述第二清洁模型以及当前清洁时长确定当前清除率;其中,所述第一清洁模型与所述第二清洁模型不同。

11、第三方面,本申请实施例提供一种存储介质,所述存储介质存储有多条指令,所述指令适于由处理器加载并执行上述的方法步骤。

12、第四方面,本申请实施例提供一种口腔清洁设备,可包括:处理器和存储器;其中,所述存储器存储有计算机程序,所述计算机程序适于由所述处理器加载并执行上述的方法步骤。

13、本申请一些实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括:

14、本申请实施例提供一种牙菌斑清除率的确定方法,在用户使用口腔清洁工具清洁口腔时,通过获取口腔设备的当前清洁时长,在当前清洁时长处于第一预设清洁时长范围内时,确定口腔清洁设备的第一清洁模型,并根据第一清洁模型以及当前清洁时长确定口腔清洁设备当前清除牙菌斑的清除率;在当前清洁时长处于第二预设清洁时长范围内时,确定口腔清洁设备的第二清洁模型,并根据第二清洁模型以及当前清洁时长确定口腔清洁设备当前清除牙菌斑的清除率,其中第一清洁模型与第二清洁模型不同。采用本申请实施例,通过在口腔清洁设备的当前清洁时长处于不同的预设清洁时长范围内时,根据不同的清洁模型以及当前清洁时长确定口腔清洁设备的当前清除率,结合了口腔清洁设备在不同时刻清除牙菌斑的效率不同的特点,由此,提高了口腔清洁设备在不同的当前清洁时长时,确定清除牙菌斑的当前清除率的准确性。

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【技术保护点】

1.一种牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,应用于口腔清洁设备,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,目标清洁模型的清除系数根据牙菌斑的生成量确定,所述清除系数用于表征所述目标牙菌斑清除速率与牙菌斑的生成量之间的关联关系。

3.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,牙菌斑的生成量越低,所述口腔清洁设备的当前清除率达到预设数值的速度越快。

4.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述口腔清洁设备的震动参数不同,确定目标清洁模型的方式,还包括:

5.根据权利要求4所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述震动参数包括:占空比、频率中的至少一个。

6.根据权利要求2所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述牙菌斑的当前清除率为基于所述当前清洁时长以及所述目标清洁模型,根据所述目标清洁模型的输出参数确定。

7.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述方法还包括:

8.根据权利要求7所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述根据所述清洁压力和/或各牙区清洁时长更新当前清除率,包括:

9.根据权利要求2所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,牙菌斑的生成量的获取方式,包括:

10.根据权利要求9所述牙菌斑的清除率的确定方法,其特征在于,根据残留率确定所述牙菌斑的目标生成模型,所述目标生成模型包括第一生成模型和第二生成模型。

11.根据权利要求9所述的牙菌斑的清除率的确定方法,其特征在于,在所述时间间隔处于第三时间间隔范围内的情况下,确定所述牙菌斑的生成量为预设生成量。

12.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述获取牙菌斑的生成量,包括:

13.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

14.根据权利要求13所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,在任一时刻,所述第一清洁模型的清洁效率小于所述第二清洁模型的清洁效率,所述第一模型的清洁效率小于所述第三清洁模型的清洁效率,所述第二模型的清洁效率大于所述第三清洁模型的清洁效率,所述清洁效率为当前清除率的变化率。

15.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,目标清洁模型根据口腔清洁设备的清洁模式确定,不同清洁模式下的所述目标清洁模型均包括对应的第一清洁模型、第二清洁模型。

16.根据权利要求15所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,针对任意两个目标清洁模型,至少在一个预设清洁时长范围内,所述口腔清洁设备的清除效率相同,所述预设清洁时长为第一预设清洁时长、第二预设清洁时长中的一个。

17.根据权利要求15所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,针对任意两个目标清洁模型,至少在一个预设清洁时长范围内,所述口腔清洁设备的清除效率不相同,所述预设清洁时长为第一预设清洁时长、第二预设清洁时长中的一个。

18.根据权利要求13所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述方法还包括:

19.根据权利要求3所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,以可视化的方式显示所述牙菌斑的生成量。

20.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,以可视化的方式显示所述牙菌斑的当前清除率。

21.一种存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1~20中任意一项所述方法的步骤。

22.一种口腔清洁设备,其特征在于,包括:处理器和存储器;其中,所述存储器存储有计算机程序,所述计算机程序适于由所述处理器加载并执行如权利要求1~20中任意一项所述方法的步骤。

23.一种牙菌斑清除率的确定装置,其特征在于,所述装置包括:

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【技术特征摘要】

1.一种牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,应用于口腔清洁设备,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,目标清洁模型的清除系数根据牙菌斑的生成量确定,所述清除系数用于表征所述目标牙菌斑清除速率与牙菌斑的生成量之间的关联关系。

3.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,牙菌斑的生成量越低,所述口腔清洁设备的当前清除率达到预设数值的速度越快。

4.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述口腔清洁设备的震动参数不同,确定目标清洁模型的方式,还包括:

5.根据权利要求4所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述震动参数包括:占空比、频率中的至少一个。

6.根据权利要求2所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述牙菌斑的当前清除率为基于所述当前清洁时长以及所述目标清洁模型,根据所述目标清洁模型的输出参数确定。

7.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述方法还包括:

8.根据权利要求7所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述根据所述清洁压力和/或各牙区清洁时长更新当前清除率,包括:

9.根据权利要求2所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,牙菌斑的生成量的获取方式,包括:

10.根据权利要求9所述牙菌斑的清除率的确定方法,其特征在于,根据残留率确定所述牙菌斑的目标生成模型,所述目标生成模型包括第一生成模型和第二生成模型。

11.根据权利要求9所述的牙菌斑的清除率的确定方法,其特征在于,在所述时间间隔处于第三时间间隔范围内的情况下,确定所述牙菌斑的生成量为预设生成量。

12.根据权利要求1所述的牙菌斑清除率的确定方法,其特征在于,所述获取牙菌斑的生成量,包括:

13.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还...

【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名杨积力邹瑜
申请(专利权)人:广州星际悦动股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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