【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及喷印，具体而言，涉及一种近场直写装置。
技术介绍
1、电纺直写的技术原理是，通过降低纺丝距离和纺丝电压，控制纺丝射流处于稳定运动状态，实现对纺丝射流精确控制及固化后纤维的精准沉积，同时将接收板安装在二维运动平台上，通过控制二维运动平台的运动路径，实现电纺纤维在二维平面内的定点沉积或按预定轨迹沉积，随沉积层数增加最终获得三维结构。
2、但现有的电纺直写设备并未设置纳米纤维位置的实时检测、纳米纤维沉积位置直接修正等装置，在多重因素的干扰下会导致电纺直写路径与规划路径不符，进而影响电纺直写、有序直写堆叠的精度。
3、例如，在cn115928228a中公开了一种稳定型熔体近场直写设备，提出了在熔体近场直写中，接收装置稳定的x-y轴向运动是纤维精确有序沉积的关键，对此设计了一体式的接收装置。但是该专利技术未涉及对纳米纤维位置的实时检测，无法保证纳米纤维能够沉积在规定路径位置上，从而难以实现高精确有序的直写堆叠等功能。
4、又如，在cn110656386a中公开了一种近场直写静电纺丝纤维轨迹与形貌控制系统，通过纤维轨迹检测装置对纤维的图像信息、形态信息以及信息进行测量，控制装置对测量信息进行分析、耦合运算以及对比，采用闭环控制的方法使纤维形态更加均匀可控。但其未涉及修正纳米纤维沉积位置，不利于近场直写操作，难以实现高精度且有序的电纺直写等功能。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种近场直写装置，以解决上述问题。
3、本申请提供了一种近场直写装置，包括收集平台和喷印机构；所述收集平台包含设置在收集平台上的接收板、以及与接收板电性连接的第一运动控制器，所述第一运动控制器用于控制接收板相对收集平台沿平面方向自如移动；所述喷印机构包含运动平台、以及配置于运动平台的喷头件，所述运动平台对置在收集平台的上方，所述接收板用于承接喷头件所输出的呈纳米纤维的喷印内容；所述运动平台电性连接设有第二运动控制器，所述第二运动控制器配置成用于控制运动平台沿x轴、y轴和z轴自如移动；所述第一运动控制器和第二运动控制器分别电性连接至一处理终端，所述处理终端还电性连接有一光电检测器，所述光电检测器用于实时检测喷印在接收板上的纳米纤维的信息；所述第二运动控制器接收到光电检测器所反馈给处理终端的信息后，对应调整运动平台及喷头件的位置，进而精准地修正纳米纤维在接收板上的喷印沉积位置。
4、作为进一步改进，所述光电检测器配置成可监测到接收板上的纳米纤维的沉积位置，当获取到的沉积位置与规划路径产生偏移时，所述光电检测器反馈至处理终端，由处理终端将电信号传递至第二运动控制器，对应触发运动平台带动喷头件沿x轴、y轴和z轴移动来调整位置。
5、作为进一步改进，所述光电检测器配置成可监测到纳米纤维在工作时的直写速度，当获取到的直写速度滞后时，所述光电检测器反馈至处理终端，由处理终端将电信号传递至第二运动控制器，对应通过运动平台的快速移动进行速度补偿至所需的沉积位置处。
6、作为进一步改进，所述运动平台可移动地配置在收集平台的正上方区域，所述喷头件安装在运动平台的下端面用于电纺直写喷印，所述第二运动控制器与运动平台相互水平外接，所述光电检测器电连接在第二运动控制器的下方，且位于收集平台与运动平台之间。
7、作为进一步改进，所述喷头件外接有一注射泵及其配属的注射针管，所述注射针管连通至喷头件以提供喷印用的纳米纤维。
8、作为进一步改进，所述喷头件外接有一电源机构，所述电源机构提供高压电源至喷头件上，且所述电源机构做接地连接。
9、作为进一步改进，所述电源机构与注射泵及注射针管位于相同一侧，所述第二运动控制器、处理终端及光电检测器位于另一侧。
10、作为进一步改进，所述第一运动控制器通过可编程的方式将预定的规划指令转变成期望的机械运动，以使接收板相对收集平台沿水平多方向移动。
11、作为进一步改进，所述第二运动控制器通过可编程的方式将预定的规划指令转变成期望的机械运动，以使运动平台相对外部环境沿水平多方向移动。
12、作为进一步改进，所述接收板呈薄板状贴合在矩形状的收集平台上，所述第一运动控制器与收集平台相互水平外接，且位于第二运动控制器的相同一侧。
13、通过采用上述技术方案，本专利技术可以取得以下技术效果：
14、本申请的近场直写装置，在收集平台设有用于控制接收板沿水平多方向移动的第一运动控制器，在运动平台上设有喷头件以及用于控制运动平台沿x轴、y轴和z轴移动的第二运动控制器，且两运动控制器电连接至处理终端，在处理终端电连接有光电检测器，通过光电检测器来实时检测喷印在接收板上的纳米纤维的信息，从而在纳米纤维沉积位置出现误差时，由光电检测器将信息反馈至处理终端，由处理终端将电信号传递给第二运动控制器，进而调整运动平台及喷头件的位置来修正纳米纤维沉积位置，以解决规划路径产生偏移、纳米纤维直写速度滞后、直写纳米纤维中断等问题，以此来进行高精度、有序的电纺直写，实现有序直写堆叠和精确图案化直写等功能。
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1.一种近场直写装置，包括收集平台和喷印机构；所述收集平台包含设置在收集平台上的接收板、以及与接收板电性连接的第一运动控制器，所述第一运动控制器用于控制接收板相对收集平台沿平面方向自如移动；所述喷印机构包含运动平台、以及配置于运动平台的喷头件，所述运动平台对置在收集平台的上方，所述接收板用于承接喷头件所输出的呈纳米纤维的喷印内容；其特征在于，
2.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述光电检测器配置成可监测到接收板上的纳米纤维的沉积位置，当获取到的沉积位置与规划路径产生偏移时，所述光电检测器反馈至处理终端，由处理终端将电信号传递至第二运动控制器，对应触发运动平台带动喷头件沿X轴、Y轴和Z轴移动来调整位置。
3.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述光电检测器配置成可监测到纳米纤维在工作时的直写速度，当获取到的直写速度滞后时，所述光电检测器反馈至处理终端，由处理终端将电信号传递至第二运动控制器，对应通过运动平台的快速移动进行速度补偿至所需的沉积位置处。
4.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述运动平台可移动地
5.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述喷头件外接有一注射泵及其配属的注射针管，所述注射针管连通至喷头件以提供喷印用的纳米纤维。
6.根据权利要求5所述的近场直写装置，其特征在于，所述喷头件外接有一电源机构，所述电源机构提供高压电源至喷头件上，且所述电源机构做接地连接。
7.根据权利要求6所述的近场直写装置，其特征在于，所述电源机构与注射泵及注射针管位于相同一侧，所述第二运动控制器、处理终端及光电检测器位于另一侧。
8.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述第一运动控制器通过可编程的方式将预定的规划指令转变成期望的机械运动，以使接收板相对收集平台沿水平多方向移动。
9.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述第二运动控制器通过可编程的方式将预定的规划指令转变成期望的机械运动，以使运动平台相对外部环境沿水平多方向移动。
10.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述接收板呈薄板状贴合在矩形状的收集平台上，所述第一运动控制器与收集平台相互水平外接，且位于第二运动控制器的相同一侧。
...【技术特征摘要】
1.一种近场直写装置，包括收集平台和喷印机构；所述收集平台包含设置在收集平台上的接收板、以及与接收板电性连接的第一运动控制器，所述第一运动控制器用于控制接收板相对收集平台沿平面方向自如移动；所述喷印机构包含运动平台、以及配置于运动平台的喷头件，所述运动平台对置在收集平台的上方，所述接收板用于承接喷头件所输出的呈纳米纤维的喷印内容；其特征在于，
2.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述光电检测器配置成可监测到接收板上的纳米纤维的沉积位置，当获取到的沉积位置与规划路径产生偏移时，所述光电检测器反馈至处理终端，由处理终端将电信号传递至第二运动控制器，对应触发运动平台带动喷头件沿x轴、y轴和z轴移动来调整位置。
3.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述光电检测器配置成可监测到纳米纤维在工作时的直写速度，当获取到的直写速度滞后时，所述光电检测器反馈至处理终端，由处理终端将电信号传递至第二运动控制器，对应通过运动平台的快速移动进行速度补偿至所需的沉积位置处。
4.根据权利要求1所述的近场直写装置，其特征在于，所述运动平台可移动地配置在收集平台的正上方区域，所述喷头件安装在运动平台的下端面用于电纺直写喷印，所述第二运动控制器与运动平...
【专利技术属性】
技术研发人员：李文望，彭韬，姜佳昕，王翔，张润阳，李书帆，陈华坛，郑高峰，
申请(专利权)人：厦门理工学院，
类型：发明
国别省市：
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