公开了电弧腔室以及包括其的直流继电器。本发明专利技术的一方式的电弧腔室，其可以包括：腔室空间，收容与外部的电源或者负载通电的固定触头以及可动触头；以及多个壁，从外侧围绕所述腔室空间；多个所述壁包括：第一壁，围绕所述腔室空间的一侧，沿一方向延伸；第二壁，围绕所述腔室空间的另一侧，从所述第一壁的端部以与所述第一壁构成规定的角度的方式沿另一方向延伸；第三壁，围绕所述腔室空间的其他另一侧，从所述第二壁的端部以与所述第二壁构成规定的角度的方式沿所述一方向延伸；以及第四壁，围绕所述腔室空间的又其他另一侧，从所述第三壁的端部至所述第一壁的端部为止以与所述第三壁构成规定的角度的方式沿所述另一方向延伸。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及电弧腔室以及包括其的直流继电器，更加详细地，涉及能够确保充分的绝缘距离的同时能够有效地对电弧进行灭弧的结构的电弧腔室以及包括其的直流继电器。
技术介绍
1、直流继电器(direct current relay)是利用电磁铁的原理将机械驱动或者电流信号传递的装置。直流继电器也称为电子开闭器(magnetic switch)，一般被分类为电路开闭装置。
2、直流继电器包括固定触点以及可动触点。固定触点与外部的电源以及负载可通电地连接。固定触点和可动触点可以彼此接触或隔开。
3、通过固定触点和可动触点的接触以及隔开，允许或阻断基于直流继电器的通电。所述移动通过向可动触点施加驱动力的驱动部来实现。
4、固定触点和可动触点隔开时，固定触点和可动触点之间产生电弧(arc)。电弧是高压、高温的电流的流动。因此，所产生的电弧需要通过预设路径迅速地从直流继电器排出。
5、电弧的排出路径通过设置在直流继电器的磁铁来形成。所述磁铁在固定触点和可动触点接触的空间的内部形成磁场。通过由所形成的磁场以及电流的流动而产生的电磁力，来形成电弧的排出路径。
6、固定触点和可动触点设置在被称为电弧腔室(arc chamber)的半密闭的空间。因此，固定触点和可动触点接触、隔开而产生的电弧也形成在电弧腔室内部。所产生的电弧在电弧腔室内部的空间延伸并灭弧。
7、另外，直流继电器包括线圈，该线圈形成用于使可动触点移动的磁力。线圈可通过辅助触点与外部的控制电源通电，并被磁化。
>8、但是，这种辅助触点也收容在电弧腔室的内部空间。即，固定触点、可动触点以及辅助触点配置在同一空间中。因此，在与固定触点、可动触点通电的电流和与辅助触点通电的控制电流之间存在产生电干扰的可能性。9、此外，所产生的电弧需要在足够的空间范围内行进，才能有效地灭弧。但是，用于将电弧向外侧诱导的磁铁可以占据电弧腔室内部空间的一部分。在这种情况下，因所述磁铁反而导致电弧的流动空间减小，其结果可能发生电弧的灭弧效果减小的问题。
10、韩国授权技术专利文献第20-0168172号公开了无需配备辅助电源的无触点继电器。具体地，所述现有文献公开了无需配备额外的辅助电源而进行开关操作的电源可以执行辅助电源的作用的无触点继电器。
11、但是，所述现有文献公开的无触点继电器是以所供应的电源为交流电源的情况为前提的。即，所述现有文献没有公开利用直流电源的继电器无需配备辅助电源而进行工作的方案。
12、韩国授权专利技术专利文献第10-2207339号公开了包括辅助触点装置的闩锁继电器。具体地，公开了包括根据轭的极性变化而驱动的致动器以及通过致动器的动作而工作的辅助触点的闩锁继电器。所述致动器通过额外的杆，使辅助触点工作。
13、但是，所述现有文献仅公开用于使辅助触点工作的方案，没有公开用于防止固定触点、可动触点和辅助触点彼此电干扰的状况的方案。
14、韩国授权专利技术专利文献第10-1661396号公开了电磁继电器。具体地，公开了利用被配置为围绕固定触点以及可动触点的永久磁铁来诱导所产生的电弧的电磁继电器。
15、但是，所述现有文献所公开的电磁继电器的永久磁铁配置在形成电弧腔室的一部分的延伸部的内表面。即，所述现有文献的电磁继电器未能提示出用于解决因永久磁铁占据的空间导致电弧的流动空间减小的问题的方案。
16、韩国授权专利技术专利文献第20-0168172号(2000.02.15)
17、韩国授权专利技术专利文献第10-2207339号(2021.01.25)
18、韩国授权专利技术专利文献第10-1661396号(2016.09.29)
技术实现思路
1、要解决的问题
2、本专利技术的目的是解决如上所述的问题，本专利技术的目的是提供能够排除电流流动的构成要素和控制电流流动的构成要素之间的电干扰的结构的电弧腔室以及包括其的直流继电器。
3、本专利技术的另一目的是提供使控制电流流动的构成要素能够稳定地收容在电弧腔室的内部的结构的电弧腔室以及包括其的直流继电器。
4、本专利技术的又一目的是提供能够确保所产生的电弧灭弧且延伸的足够的空间的结构的电弧腔室以及包括其的直流继电器。
5、本专利技术的又一目的是提供能够防止因所产生的电弧导致其他构成要素的损坏的结构的电弧腔室以及包括其的直流继电器。
6、本专利技术的又一目的提供即便没有其他构成要素的过多的结构变更也能够达到所述目的的结构的电弧腔室以及包括其的直流继电器。
7、本专利技术的问题不限于以上提及的问题，本专利技术所属的
的通常的技术人员可通过以下记载能够清楚地理解没有提及的其他问题。
8、解决问题的手段
9、根据本专利技术的一方式，提供一种电弧腔室，包括：腔室空间，收容与外部的电源或者负载通电的固定触头以及可动触头；以及多个壁，从外侧围绕所述腔室空间；多个所述壁包括：第一壁，围绕所述腔室空间的一侧，沿一方向延伸；第二壁，围绕所述腔室空间的另一侧，从所述第一壁的端部以与所述第一壁构成规定的角度的方式沿另一方向延伸；第三壁，围绕所述腔室空间的其他另一侧，从所述第二壁的端部以与所述第二壁构成规定的角度的方式沿所述一方向延伸；以及第四壁，围绕所述腔室空间的又其他另一侧，从所述第三壁的端部至所述第一壁的端部为止以与所述第三壁构成规定的角度的方式沿所述另一方向延伸。
10、此时，可以提供电弧腔室，其中，所述第一壁和所述第三壁彼此平行地延伸，所述第二壁和所述第四壁彼此平行地延伸。
11、此外，可以提供电弧腔室，其中，所述第一壁、所述第二壁、所述第三壁以及所述第四壁延伸相同的长度。
12、此时，可以提供电弧腔室，其中，所述第一壁和所述第二壁之间的所述规定的角度、所述第二壁和所述第三壁之间的所述规定的角度、所述第三壁和所述第四壁之间的所述规定的角度以及所述第四壁和所述第一壁之间的规定的角度均相同。
13、此外，可以提供电弧腔室，其中，所述电弧腔室的水平方向的截面形成为菱形(diamond)。
14、此时，可以提供电弧腔室，其中，所述固定触头具备多个，多个所述固定触头沿朝向所述第一壁、所述第二壁、所述第三壁以及所述第四壁中彼此相邻的壁连续的一角落以及隔着所述腔室空间而与所述一角落面对地配置的另一角落的方向彼此隔开配置。
15、此外，可以提供电弧腔室，其中，在所述腔室空间收容与外部的控制电源通电的多个副连接器，多个所述副连接器沿朝向所述第一壁、所述第二壁、所述第三壁以及所述第四壁中彼此相邻的壁连续的其他另一角落以及隔着所述腔室空间而与所述其他另一角落面对地配置的又其他另一角落的方向隔开配置。
16、此时，可以提供电弧腔室，其中，在多个所述固定触头之间延伸的虚拟的直线形成所述电弧腔室的截面的一对角线，在多个所述副连接器之间延伸的虚拟的直线形成本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种电弧腔室，其中，包括：
2.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
3.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
4.根据权利要求3所述的电弧腔室，其中，
5.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
6.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
7.根据权利要求6所述的电弧腔室，其中，
8.根据权利要求7所述的电弧腔室，其中，
9.根据权利要求8所述的电弧腔室，其中，
10.一种直流继电器，其中，包括：
11.根据权利要求10所述的直流继电器，其中，
12.根据权利要求10所述的直流继电器，其中，
13.根据权利要求12所述的直流继电器，其中，
14.根据权利要求10所述的直流继电器，其中，
15.根据权利要求14所述的直流继电器，其中，
16.根据权利要求15所述的直流继电器，其中，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种电弧腔室，其中，包括：
2.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
3.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
4.根据权利要求3所述的电弧腔室，其中，
5.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
6.根据权利要求1所述的电弧腔室，其中，
7.根据权利要求6所述的电弧腔室，其中，
8.根据权利要求7所述的电弧腔室，其中，
9.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴轸熙，金河洙，
申请(专利权)人：LS电气株式会社，
类型：发明
国别省市：
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