【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及纳米复合材料，特别涉及一种当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物及其制备方法和应用。
技术介绍
1、缺铁性贫血(iron deficiency anemia,ida)系指体内的贮存铁不足影响血红蛋白的合成，进而使血红素合成减少形成的一种小细胞低色素贫血，其特点是骨髓、肝、脾等器官组织中缺乏可染色铁，血清铁浓度、运铁蛋白饱和度和血清铁蛋白降低等，致使机体代谢异常、发育延缓、免疫力降低，严重时可能会引起机体主要脏器功能障碍，导致其主要原因有：铁的摄入不足、吸收量减少、需求量增加及铁的利用障碍。缺铁性贫血已是世界范围内严重影响人类健康的常见疾病，也是亟需解决的营养问题。
2、补铁剂是治疗缺铁性贫血的主要药物，根据不同的给药方式可大致分为：口服补铁剂和静脉补铁剂。口服补铁剂主要以硫酸亚铁、有机酸亚铁盐等为主。虽然因其给药方便、经济实惠是临床应用最多的补铁剂，但存在高发的胃肠道刺激性(如恶心、呕吐、腹泻等)、有铁锈味、餐后服用生物利用度不高且治疗周期较长，有30％～70％的患者服药依从性差。而静脉补铁剂则更多应用于口服补铁吸收不良、不耐受和亟需快速补铁的术后患者。
3、静脉补铁一定程度上克服了口服补铁的局限性，避免了口服补铁的不良反应且能快速提升血红蛋白水平，但部分患者仍然有过敏反应、胸痛、低血压等症状。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术目的在于提供一种当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物及其制备方法和应用，本专利技术提供的纳米粒复合物具有良好的缺铁
2、为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：
3、本专利技术提供了一种当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，包括超顺磁氧化铁纳米粒和包覆在所述超顺磁氧化铁纳米粒表面的当归多糖，所述当归多糖与超顺磁氧化铁纳米粒通过氢键和配位键连接；
4、所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物的水合粒径为50～150nm。
5、优选的，所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物中，所述超顺磁氧化铁纳米粒的质量百分含量为50～55％；所述当归多糖的含量为45～50％。
6、优选的，所述当归多糖的分子量为3kda～30kda。
7、优选的，所述超顺磁氧化铁纳米粒的磁饱和强度为50～80emu/g。
8、优选的，所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物的磁饱和强度为20～50emu/g。
9、本专利技术提供了上述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物的制备方法，包括以下步骤：
10、将当归多糖、可溶性二价铁盐、可溶性三价铁盐与水混合，得到混合液；
11、使用碱性沉淀剂调节所述混合液的ph值至9～12，进行水热反应，得到当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物。
12、优选的，所述可溶性二价铁盐与可溶性三价铁盐的摩尔比为1～2:1。
13、优选的，所述碱性沉淀剂为氨水、氢氧化钾和氢氧化钠中的一种或几种。
14、优选的，所述水热反应的温度为50～80℃，时间为0.5～2h。
15、本专利技术提供了上述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物在制备补铁药物中的应用。
16、本专利技术提供了一种当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物(缩写为ionps-asp)，包括超顺磁氧化铁纳米粒和包覆在所述超顺磁氧化铁纳米粒表面的当归多糖，所述当归多糖与超顺磁氧化铁纳米粒通过氢键和配位键连接；所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物的水合粒径为50～150nm。本专利技术以超顺磁氧化铁纳米粒作为内核结构，超顺磁氧化铁纳米粒是水相中合成的超顺磁氧化铁纳米粒，其具有高表面能，表面具有羟基等亲水基团以及未配位的亚铁离子；本专利技术使用当归多糖对超顺磁氧化铁纳米粒进行修饰，当归多糖结构中有大量的羟基，具有1,2-二醇结构，能够与超顺磁氧化铁纳米粒表面的亲水基团形成氢键连接，与未配位的亚铁离子形成配位连接，从而稳定地包裹在超顺磁氧化铁纳米粒表面并形成环状结构。在本专利技术中，超顺磁氧化铁纳米粒具有良好的补铁、治疗缺铁性贫血的功效，使用当归多糖进行修饰，能够提高超顺磁氧化铁纳米粒的生物相容性，且当归多糖与氧化铁纳米粒可形成更为紧密的结合，在体内能保持结构稳定，用药后不良反应少，降低患者不适症状；同时，当归多糖自身具有良好的补血活血的生物活性，能够达到协同治疗缺铁性贫血的效果。实施例结果表明，本专利技术提供的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物用作补铁剂时，能够显著改善贫血大鼠的外周红细胞数目与血红蛋白含量。
17、本专利技术提供了上述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物的制备方法，本专利技术采用一步水热反应的方式，能够直接获得当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，操作简单，原料易得，所得纳米粒复合物结构稳定，适于工业化批量生产。
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1.一种当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，包括超顺磁氧化铁纳米粒和包覆在所述超顺磁氧化铁纳米粒表面的当归多糖，所述当归多糖与超顺磁氧化铁纳米粒通过氢键和配位键连接；
2.根据权利要求1所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，其特征在于，所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物中，所述超顺磁氧化铁纳米粒的质量百分含量为50～55％；所述当归多糖的含量为45～50％。
3.根据权利要求1或2所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，其特征在于，所述当归多糖的分子量为3kDa～30kDa。
4.根据权利要求1或2所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，其特征在于，所述超顺磁氧化铁纳米粒的磁饱和强度为50～80emu/g。
5.根据权利要求1或2所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，其特征在于，所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物的磁饱和强度为20～50emu/g。
6.权利要求1～5任意一项所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物的制备方法，包括以下步骤：
7.根据权利要求6所述的制备方法，
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述碱性沉淀剂为氨水、氢氧化钾和氢氧化钠中的一种或几种。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述水热反应的温度为50～80℃，时间为0.5～2h。
10.权利要求1～5任意一项所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物或权利要求6～9任意一项所述制备方法制备得到的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物在制备补铁药物中的应用。
...【技术特征摘要】
1.一种当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，包括超顺磁氧化铁纳米粒和包覆在所述超顺磁氧化铁纳米粒表面的当归多糖，所述当归多糖与超顺磁氧化铁纳米粒通过氢键和配位键连接；
2.根据权利要求1所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，其特征在于，所述当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物中，所述超顺磁氧化铁纳米粒的质量百分含量为50～55％；所述当归多糖的含量为45～50％。
3.根据权利要求1或2所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，其特征在于，所述当归多糖的分子量为3kda～30kda。
4.根据权利要求1或2所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳米粒复合物，其特征在于，所述超顺磁氧化铁纳米粒的磁饱和强度为50～80emu/g。
5.根据权利要求1或2所述的当归多糖修饰超顺磁氧化铁纳...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨铁虹，马玉颖，吴红，贾敏，余喆，王超丽，乔有备，
申请(专利权)人：中国人民解放军空军军医大学，
类型：发明
国别省市：
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