一种基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置及其应用制造方法及图纸

提供了一种基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置及其应用，励磁装置包括励磁体(1)、导磁横片(2)和固定块(3)；励磁体(1)为相同尺寸的两块磁体，磁体包括竖直段和设置在竖直段下端与竖直段呈一定角度一体成型的倾斜段；固定块(3)设置在两块磁体中间，用于使两块磁体以各自的倾斜段朝向固定块的方式在固定块两侧对称设置并被隔开和固定；两块磁体的顶部通过导磁横片(2)连接；固定块底端位于两块磁体内，并与两块磁体的下端共同围设成一个底部开口的空腔；两块磁体的极化方向平行于两块磁体之间的距离方向并且彼此方向相反；励磁装置安装于球面型磁流变抛光轮(4)内，两块磁体的极化方向与球面型磁流变抛光轮的旋转方向垂直。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总体地涉及光学元件抛光，具体涉及一种基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置及其应用。

技术介绍

1、随着现代光学系统的不断发展，光学系统内部的光学元件形状日趋复杂。为进一步提升装置性能，产生了诸如光学整流罩等在内的一大批高陡度光学元件，其表面抛光成为现阶段光学制造领域面临的重大难题。

2、磁流变作为现代光学加工工艺的代表，被广泛应用于各种类型光学材料表面的高精度加工过程中，且针对不同形状光学元件，可通过应用不同抛光头的方法，适应各类型光学元件的加工。但是针对高陡度光学元件表面，其加工效率和加工效果则稍显不足，这一定程度上限制了高陡度强光元件的应用。

3、针对原有电磁型磁流变抛光装置存在的问题，结合现阶段高陡度强光元件的应用需要，亟需研发新一代磁流变抛光装备，以提升高陡度光学元件的可加工性，保障现代光学系统的发展进程。

技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置及其应用，它适配于进行高陡度光学元件表面抛光的球形磁流变抛光轮，解决现阶段球形本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，包括励磁体(1)、导磁横片(2)和固定块(3)；

2.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，所述励磁体(1)由钕铁硼材料切割成型。

3.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，所述导磁横片(2)由电工纯铁材料制作。

4.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，所述固定块(3)材料为不导磁材料制作，所述不导磁材料为铝合金和/或不锈钢。

5.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装...

【技术特征摘要】

1.一种基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，包括励磁体(1)、导磁横片(2)和固定块(3)；

2.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，所述励磁体(1)由钕铁硼材料切割成型。

3.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，所述导磁横片(2)由电工纯铁材料制作。

4.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，所述固定块(3)材料为不导磁材料制作，所述不导磁材料为铝合金和/或不锈钢。

5.如权利要求1所述的基于高陡度强光元件磁流变抛光的励磁装置，其特征在于，所述励磁体(1)的磁体中：

6.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：石峰，张万里，宋辞，铁贵鹏，田野，王博，乔冬阳，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：