一种衬底承载机构、托盘组件及碳化硅外延设备制造技术

本申请公开一种衬底承载机构、托盘组件及碳化硅外延设备。该衬底承载机构包括衬底外环、衬底内环及衬底固定部，所述衬底内环的中部具有镂空区，所述衬底内环的内侧具有定位部，所述定位部的两侧分别具有过渡部；所述衬底外环套设于衬底内环上，且所述衬底外环搭接于所述衬底内环上；所述衬底固定部位于所述衬底内环的下方，所述衬底固定部上设置有支撑部，且所述支撑部在所述衬底内环侧投影落在所述镂空区，所述支撑部包括离散的凸起或子凸起，所述凸起或子凸起用于支撑衬底。通过这样的设计可降低衬底在外延生长时发生飞盘、飞片的现象、还可提高衬底侧温度均匀以保证外延质量。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及化学气相沉积设备，具体地涉及一种衬底承载机构、托盘组件及碳化硅外延设备。

技术介绍

1、碳化硅外延设备运行时将衬底放置在反应腔内的石墨托盘上进行加热，反应气体流经被加热到反应温度的衬底的表面并在表面上发生化学反应以生成出一定厚度的单晶薄膜。为保证衬底侧的温度和气流场的均匀性，石墨托盘需要高速旋转（通常转速在500 r/min（转/分钟）以上）。高温高速旋转的状态下，极易造成衬底飞盘、飞片、颗粒物落在衬底上等问题。另外，外延工艺浓度均匀性对温度很敏感，提高衬底侧温区均匀性也是工艺的关键环节。

2、目前碳化硅外延时使用的衬底承载机构的截面示意如图1所示，衬底内环1搭在衬底外环2上，该结构下，处在加热状态时，衬底内环的搭接面1b会因高温产生翘曲形变，该形变会将衬底内环抬起，这样衬底内环1的底面相应地被抬高，处于衬底内环1内侧的衬底10在高速旋转过程中受到离心力的作用，会发生移动并插到衬底内环1的底面1c的下面/下方侧，从而造成废片甚至飞片。衬底承载机构的俯视图示意如图2所示，在高速旋转过程中，在离心力的作用下，衬底10的衬底定位边12的尖端本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种衬底承载机构，用于碳化硅外延设备中以支撑衬底，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的衬底承载机构，其特征在于，还包括支撑环,

3.如权利要求1所述的衬底承载机构，其特征在于，

4.如权利要求1所述的衬底承载机构，其特征在于，所述衬底固定部呈圆柱状、圆锥台、断续的圆环形成的凸台、矩形台或梯形台的几何形状凸台。

5.如权利要求1所述的衬底承载机构，其特征在于，

6.一种托盘组件，其特在于，包括：

7.如权利要求6所述的托盘组件，其特在于，

8.如权利要求7所述的托盘组件，其特在于，

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【技术特征摘要】

1.一种衬底承载机构，用于碳化硅外延设备中以支撑衬底，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的衬底承载机构，其特征在于，还包括支撑环,

3.如权利要求1所述的衬底承载机构，其特征在于，

4.如权利要求1所述的衬底承载机构，其特征在于，所述衬底固定部呈圆柱状、圆锥台、断续的圆环形成的凸台、矩形台或梯形台的几何...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵鹏，蒲勇，卢勇，
申请(专利权)人：芯三代半导体科技苏州股份有限公司，
类型：发明
国别省市：