一种与镜片折射率匹配的AR光波导结构及其加工方法技术

技术编号:40469335 阅读:44 留言:0更新日期:2024-02-22 23:24
本发明专利技术涉及一种与镜片折射率匹配的AR光波导结构及其加工方法,光波导结构,包括玻璃基底、以及设置于玻璃基底上的光栅层,玻璃基底包括折射率为1.5以上的高折射率玻璃,光栅层包括无机氧化物和无机氮化物中的至少两种的组合物;加工方法包括,在高折射率玻璃表面沉积透明介电薄膜;得到压印模板;得到待刻蚀基板;在待刻蚀基板表面进行刻蚀,以去除光栅结构区域的压印胶和非光栅结构区域的透明介电薄膜,得到光波导结构。本发明专利技术具有提高光波导结构耐候性、稳定性和附着性等理化性能、折射率可调控并能突破2.0限制、以及可以精准控制高度、角度和锐利程度等光栅参数的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光波导的,尤其是涉及一种与镜片折射率匹配的ar光波导结构及其加工方法。


技术介绍

1、衍射光波导包括表面浮雕光栅波导和体全息光栅波导,其主要利用光的衍射效应,采用光栅结构实现对光束的调制。虽然光栅结构的设计过程较为复杂,但提供了较大的设计自由度,通过计算优化光栅结构参数后的衍射光波导ar近眼显示设备可以获得优良的成像效果与较大的视场。随着微纳加工技术与大批量制造技术的蓬勃发展,衍射光波导也逐渐受到关注,其相关产品也逐步开始研发。

2、表面浮雕光栅波导方案中通过使用亚波长尺度的表面浮雕光栅(srg)代替传统的折反射元件(roe)作为光波导中耦入、耦出和扩展区域的光学元件,从而实现对光束的调制。表面浮雕光栅指的是在表面产生的周期性变化结构,即在表面形成的各种具有周期性的凹槽。根据凹槽的轮廓、形状和倾角等结构参数的不同,可分为一维光栅和二维光栅,进一步可分为矩形光栅、闪耀光栅、倾斜光栅和梯形光栅等。由于ar光波导主要用于可见光波段,同时光波导结构的特征尺寸一般在数百纳米,甚至几十纳米,其成像质量对加工误差很敏感,所以对微纳加工技术提出了本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种与镜片折射率匹配的AR光波导结构,其特征在于:包括玻璃基底、以及设置于所述玻璃基底上的光栅层,所述玻璃基底包括折射率为1.5以上的高折射率玻璃,所述光栅层包括无机氧化物和无机氮化物中的至少两种的组合物。

2.根据权利要求1所述的一种与镜片折射率匹配的AR光波导结构,其特征在于:所述光栅层包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铪、氧化锆、氧化铈和氮化硅中的至少两种的组合物。

3.根据权利要求2所述的一种与镜片折射率匹配的AR光波导结构,其特征在于:所述光栅层包括氧化硅和氧化钛、氧化硅和氧化铝、氧化硅和氧化铪、氧化硅和氧化锆、氧化硅和氧化铈、氮化硅和氧化钛、氮化硅和...

【技术特征摘要】

1.一种与镜片折射率匹配的ar光波导结构,其特征在于:包括玻璃基底、以及设置于所述玻璃基底上的光栅层,所述玻璃基底包括折射率为1.5以上的高折射率玻璃,所述光栅层包括无机氧化物和无机氮化物中的至少两种的组合物。

2.根据权利要求1所述的一种与镜片折射率匹配的ar光波导结构,其特征在于:所述光栅层包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铪、氧化锆、氧化铈和氮化硅中的至少两种的组合物。

3.根据权利要求2所述的一种与镜片折射率匹配的ar光波导结构,其特征在于:所述光栅层包括氧化硅和氧化钛、氧化硅和氧化铝、氧化硅和氧化铪、氧化硅和氧化锆、氧化硅和氧化铈、氮化硅和氧化钛、氮化硅和氧化铝、氮化硅和氧化铪、氮化硅和氧化锆、或者氮化硅和氧化铈。

4.根据权利要求1所述的一种与镜片折射率匹配的ar光波导结构,其特征在于:所述玻璃基底还包括设置于所述高折射率玻璃上的透明介质薄膜,所述透明介质薄膜包括无机氧化物和无机氮化物中的一种或几种的组合物。

5.根据权利要求4所述的一种与镜片折射率匹配的ar光波导结构,其特征在于:所述透明介质薄膜包括氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铪、氧化锆、氧化铈和氮化硅中的一种或几种的组合物。

6.一种与镜片折射率匹配的ar光波导结构的加工方法,其特征在于:包括以下步骤,

【专利技术属性】
技术研发人员:杜凯凯章浙烽蔡璐陈醒
申请(专利权)人:慕德微纳杭州科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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