一种平行投影长度计算方法及计算机存储介质技术

本发明专利技术公开了一种平行投影长度计算方法及计算机存储介质，所述平行投影长度计算方法用于计算第一待测图形与第二待测图形之间的平行投影长度，包括：获取所述第一待测图形与所述第二待测图形的外轮廓，并在所述第一待测图形与所述第二待测图形之间的公共区域填充矩形簇；检测所述矩形簇的数量，并判断所述矩形簇的数量是否大于预设数量；当判定为是时，为所有所述矩形簇构建最小边界矩形，并依据所述最小边界矩形获取所述平行投影长度。与现有技术相比，本发明专利技术可以优化平行投影长度的计算流程，能够有效减少平行投影长度检查所需要的时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子设计自动化领域，特别是一种平行投影长度计算方法及计算机存储介质。

技术介绍

1、在电子设计自动化（electronic design automation,eda）中，设计规则检查（design rule checking，drc）是检查版图数据是否符合工艺制造规则的物理验证过程，以确保版图设计符合制造要求，避免因违反设计规则而导致的短路，断路等不良效应。最基本的设计规则包括宽度（width）规则，间距（spacing）规则，封闭（enclosed）规则，平行投影长度（parallel run length，prl）规则等。

2、 在金属层制造工艺中，金属之间间距较小，会导致高复杂性的制造工艺以及高概率的金属线短路。另外，经时击穿（time dependent dielectric breakdown,tddb）的可靠性检查也非常依赖金属层之间的间距。一般而言，由金属层短路而导致故障的概率与金属层图形间的间距以及图形间的平行投影长度有关，由此我们可以定义出以下经验法则：

3、

4、其中，k为归一化参数，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种平行投影长度计算方法，用于计算第一待测图形与第二待测图形之间的平行投影长度，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，获取所述第一待测图形与所述第二待测图形的外轮廓，包括：

3.根据权利要求2所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，在所述第一待测图形与所述第二待测图形的公共区域填充矩形簇，包括：

4.根据权利要求2所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，为所有所述矩形簇构建最小边界矩形，包括：

5.根据权利要求1所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，依据所述最小边界矩形获取所述平行投影长度，包括...

【技术特征摘要】

1.一种平行投影长度计算方法，用于计算第一待测图形与第二待测图形之间的平行投影长度，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，获取所述第一待测图形与所述第二待测图形的外轮廓，包括：

3.根据权利要求2所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，在所述第一待测图形与所述第二待测图形的公共区域填充矩形簇，包括：

4.根据权利要求2所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，为所有所述矩形簇构建最小边界矩形，包括：

5.根据权利要求1所述的平行投影长度计算方法，其特征在于，依据所述最小边界矩形获取所述平行投影长度，包括：

6.根据权利要求1所述的平行投影长度计算方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：周栩烽，张志程，赵宽红，陈巨光，陈杰，
申请(专利权)人：深圳国微芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：