【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及自动清洗设备领域，具体涉及一种自动清洗机及使用方法。
技术介绍
1、半导体硅材料是集成电路产业的主体功能材料，硅片的加工技术已逐步成为电子信息产业发展的重要驱动力。随着硅片直径越来越大与集成电路特征尺寸越来越小，对硅片表面平坦度及去除速率提出了更高的要求，双面研磨加工是加快表面去除速率，提升硅片表面平坦度最有效的技术手段之一。对于双面研磨工艺，在加快去除速率的同时，高效充分的清洗干燥过程对于保证硅片品质意义重大，不可或缺。
2、现有的清洗设备对硅片进行清洗的做法是，将多片硅片插入到一个花篮中，而后通过移动花篮将硅片依次转移至不同的清洗槽中进行清洗。采用此种方式对硅片进行清洗存在一定问题，即：不同的清洗槽，其清洗处理时间都不相同，若将所有清洗槽的清洗处理时间统一相同设置，原先短时效的清洗槽会造成资源浪费，原先长时效的清洗槽可能无法清洗干净硅片；但若不改变统一调整不同清洗槽的清洗处理时间，易在清洗过程中造成物料积压，若积压时间过长，硅片有可能因此受损(尤其在完成酸洗后，若不及时用纯水冲洗硅片，硅片易被其上附着的酸洗溶液腐蚀)，因此需要提出一种不会滞留物料、且能合理分配清洗时效的自动清洗机及使用方法。
技术实现思路
1、本专利技术的目的提供一种自动清洗机及使用方法，以解决上述
技术介绍
中提到的问题。
2、本专利技术的目的是通过以下方式实现的：
3、一种自动清洗机，包括机柜以及设置于所述机柜上的若干个清洗模组，所述机柜上设置有用于衔接若干个清
4、进一步的，若干个清洗模组分别为酸洗模组、纯水冲洗模组、超声波清洗模组、高压冲洗模组、酒精脱水模组和风干模组，若干个清洗模组的首尾两端分别设置有上料模组和下料模组。
5、进一步的，所述高压冲洗模组包括两个并列设置的高压冲洗模块，两个高压冲洗模块分别用于予物料的正反面进行清洗，所述高压冲洗包括有第一移动器以及若干个并排设置于所述第一移动器上的高压冲洗组件，所述第一移动器用于带动若干个高压冲洗组件向所述物料转移模组进行线性移动。
6、进一步的，所述高压冲洗组件包括有第一箱体以及可在所述第一箱体上端进行移动的高压水刀，所述第一箱体内设置有用于固定物料的限位治具。
7、进一步的，所述第一箱体的一侧设置有可开合的箱盖结构，所述箱盖结构包括有盖体以及用于开合所述盖体第二推动器。
8、进一步的，所述下料模组包括有固定框架和丝杆电机，所述固定框架的上端安装有具有上开口的收集架体，所述收集架体内设置有可升降的托板，所述丝杆电机通过升降架体与所述托板进行连接。
9、进一步的，所述固定框架的四周均设置有用于与所述升降架体进行配合的导向滑杆。
10、进一步的，所述收集架体的一侧设置有计数感应器。
11、一种自动清洗机的使用方法，采用上述提到的一种自动清洗机，包括以下步骤：
12、s1：由物料转移模组将上料模组上的物料逐一转移至酸洗模组的工位中进行酸洗，其中物料的酸洗时间与酸洗模组其它若干个工位的上料时间节拍匹配，即：t酸＝(n全部酸洗工位-1)*t上料1；
13、s2：由物料转移模组将已完成酸洗的物料转移至纯水冲洗模组的工位中进行纯水冲洗，其中物料的纯水冲洗时间与纯水冲洗模组其它若干个工位的上料时间节拍匹配，即：t纯＝(n全部纯水冲洗工位-1)*t上料2；
14、s3：由物料转移模组将已完成纯水冲洗的物料转移至超声波清洗模组的若干个工位中进行超声波清洗，其中物料的超声波清洗时间与超声波清洗模组其它若干个工位的上料时间节拍匹配，即：
15、t超＝(n全部超声波清洗工位-1)*t上料3；
16、s4：由物料转移模组将已完成超声波清洗的物料转移至高压冲洗模组的工位中进行高压冲洗，其中物料的高压冲洗时间与高压冲洗模组其它若干个工位的上料时间节拍匹配，即：
17、t高＝(n全部高压冲洗工位-1)*t上料4；
18、s5：由物料转移模组将已完成高压冲洗的物料转移至酒精脱水模组的工位中进行酒精脱水，其中物料的酒精脱水时间与酒精脱水模组其它若干个工位的上料时间节拍匹配，即：
19、t酒＝(n全部酒精脱水工位-1)*t上料5；
20、s6：由物料转移模组将已完成酒精脱水的物料转移至风干模组的工位中进行风干，其中物料的风干时间与风干模组其它若干个工位的上料时间节拍匹配，即：t风＝(n全部风干工位-1)*t上料6；
21、s7：由物料转移模组将完成风干的物料逐一转移至下料模组中进行集中收集。
22、进一步的，当清洗模组的工位只有一个的情况下，其处理物料的时间与物料的上料时间节拍匹配，即：t处理＝t上料6。
23、本专利技术通过调整各个清洗模组的工位数量，以调平所有清洗模组的清洗处理效率，避免长时效的清洗模组的上游出现物料积压、短时效的清洗模组的上游出现物料空挡，确保了各个清洗模组之间的物料衔接效率，由此大幅提高了物料的清洗效率和清洗质量。
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1.一种自动清洗机，包括机柜(11)以及设置于所述机柜(11)上的若干个清洗模组，其特征在于，所述机柜(11)上设置有用于衔接若干个清洗模组的物料转移模组(9)，所述若干个清洗模组上分别设置有多个用于处理物料的工位，所述清洗模组的工位数量与其处理物料的时间成正比。
2.根据权利要求1所述一种自动清洗机，其特征在于：所述若干个清洗模组分别为酸洗模组(2)、纯水冲洗模组(3)、超声波清洗模组(4)、高压冲洗模组(5)、酒精脱水模组(6)和风干模组(7)，若干个清洗模组的首尾两端分别设置有上料模组(1)和下料模组(8)。
3.根据权利要求2所述一种自动清洗机，其特征在于：所述高压冲洗模组(5)包括两个并列设置的高压冲洗模块，两个高压冲洗模块分别用于予物料的正反面进行清洗，所述高压冲洗包括有第一移动器(501)以及若干个并排设置于所述第一移动器(501)上的高压冲洗组件(502)，所述第一移动器(501)用于带动若干个高压冲洗组件(502)向所述物料转移模组(9)进行线性移动。
4.根据权利要求3所述一种自动清洗机，其特征在于：所述高压冲洗组件(502
5.根据权利要求4所述一种自动清洗机，其特征在于：所述第一箱体(5021)的一侧设置有可开合的箱盖结构(14)，所述箱盖结构(14)包括有盖体以及用于开合所述盖体的第二推动器。
6.根据权利要求2所述一种自动清洗机，其特征在于：所述下料模组(8)包括有固定框架(801)和丝杆电机(802)，所述固定框架(801)的上端安装有具有上开口(1205)的收集架体(803)，所述收集架体(803)内设置有可升降的托板(804)，所述丝杆电机(802)通过升降架体与所述托板(804)进行连接。
7.根据权利要求6所述一种自动清洗机，其特征在于：所述固定框架(801)的四周均设置有用于与所述升降架体进行配合的导向滑杆(805)。
8.根据权利要求6所述一种自动清洗机，其特征在于：所述收集架体(803)的一侧设置有计数感应器(806)。
9.一种自动清洗机的使用方法，采用权利要求1-8任一项所述的一种自动清洗机，其特征在于，包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，当清洗模组的工位只有一个的情况下，其处理物料的时间与物料的上料时间节拍匹配，即：T处理＝T上料6。
...【技术特征摘要】
1.一种自动清洗机，包括机柜(11)以及设置于所述机柜(11)上的若干个清洗模组，其特征在于，所述机柜(11)上设置有用于衔接若干个清洗模组的物料转移模组(9)，所述若干个清洗模组上分别设置有多个用于处理物料的工位，所述清洗模组的工位数量与其处理物料的时间成正比。
2.根据权利要求1所述一种自动清洗机，其特征在于：所述若干个清洗模组分别为酸洗模组(2)、纯水冲洗模组(3)、超声波清洗模组(4)、高压冲洗模组(5)、酒精脱水模组(6)和风干模组(7)，若干个清洗模组的首尾两端分别设置有上料模组(1)和下料模组(8)。
3.根据权利要求2所述一种自动清洗机，其特征在于：所述高压冲洗模组(5)包括两个并列设置的高压冲洗模块，两个高压冲洗模块分别用于予物料的正反面进行清洗，所述高压冲洗包括有第一移动器(501)以及若干个并排设置于所述第一移动器(501)上的高压冲洗组件(502)，所述第一移动器(501)用于带动若干个高压冲洗组件(502)向所述物料转移模组(9)进行线性移动。
4.根据权利要求3所述一种自动清洗机，其特征在于：所述高压冲洗组件(502)包括有第一箱体(5021)以及可在所述第一箱体(5021)上端进行移动的高压水刀(5022)，所述第一箱体(...
【专利技术属性】
技术研发人员：邱鑫，张小倩，蔡星海，
申请(专利权)人：深圳市鑫汇铖自动化技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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