拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构及其降噪系统技术方案

本发明专利技术提出了拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构及其降噪系统，属于降噪结构领域。解决了如何提高降噪性能的问题。本发明专利技术基于声子晶体带隙原理，由传热学黑体吸收光谱的性质引伸到吸声，采用拟黑体结构的管状开口结构并按照声子晶体规律阵列排布，利用平面波在阵列之间以及管状结构内部的干涉相消达到降噪目的。通过数值模拟结合实验研究，对比分析了不同因素对其降噪效果的影响，从晶体阵列排布形式、管状结构开口大小、管状结构壁厚以及材料等角度出发，分别进行研究，创新地采用了声子晶体模型进行带隙设计。在此基础上对典型场景的降噪需求进行分析匹配，最终得到了具有普适性的降噪结构，相比于传统方法具有显著提升。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于降噪结构领域，特别是涉及一种拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构及其降噪系统。

技术介绍

1、噪声污染是指超过噪声排放标准或者未依法采取防控措施产生噪声，并干扰他人正常生活、工作和学习的现象。长期暴露在噪声环境中会引发各种疾病，降低生产效率。其中，城市噪声影响人居环境最重要的部分，包括交通噪声、工业噪声、建筑城市噪声以及社会噪声等。可以根据频率将噪声分为低频噪声(主频率低于300hz)、中频噪声(主频率在300～800hz)以及高频噪声(主频率高于800hz)。

2、一般意义上的噪声治理包含三个方面：源头、传播路径以及接收端。此处仅传播途径角度进行讨论，以交通噪声治理问题为例，现已有安装声屏障、建设绿化带等方法。传统的声屏障是指竖在道路边缘的平面发射型屏障，数据表明平均降噪量一般在10db左右，早期往往通过增加声屏障的高度来换取更大的降噪量。有研究结果表明，当声屏障的高度超过3m以后，继续增加高度，降噪量增加的幅度越来越小，同时，声屏障形式对降噪效果也有直接的影响。最常见的公路声屏障主要分为开孔金属吸声屏和透明隔声屏，以及绿化带本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：包括若干阵列单元，每个阵列单元为单向开口管状结构，正对声源方向开口，所述阵列单元包括结构支撑外壳和吸引内衬，所述结构支撑外壳内壁安装有吸引内衬。

2.根据权利要求1所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：若干阵列单元成叉排结构。

3.根据权利要求2所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：若干阵列单元排成4排，错排偏移距离为25mm。

4.根据权利要求2或3所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：若干阵列单元中相邻阵列单元的横向间距为25mm...

【技术特征摘要】

1.一种拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：包括若干阵列单元，每个阵列单元为单向开口管状结构，正对声源方向开口，所述阵列单元包括结构支撑外壳和吸引内衬，所述结构支撑外壳内壁安装有吸引内衬。

2.根据权利要求1所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：若干阵列单元成叉排结构。

3.根据权利要求2所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：若干阵列单元排成4排，错排偏移距离为25mm。

4.根据权利要求2或3所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：若干阵列单元中相邻阵列单元的横向间距为25mm，纵向间距为25mm。

5.根据权利要求1所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：每个阵列单元的外径为50mm，高度为400mm，壁厚为2mm。

6.根据权利要求1或4所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：每个阵列单元的开口为60度。

7.根据权利要求1所述的拟人工黑体结构的带隙设计阵列化降噪结构，其特征在于：每个结...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨嘉明，许如航，李小斌，李凤臣，齐云超，高天昊，王士俊，王佳一，李程一，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：